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EUV光刻取得成功,Lasertec功不可沒

  • 在經歷了二十多年的研發(fā)之后,芯片制造商在一項能夠大幅度提升硅片上晶體管密度的技術上壓下了重注,那就是EUV光刻。他們能夠取得成功,日本東京郊區(qū)的一家名為Lasertec小公司功不可沒。
  • 關鍵字: EUV  Lasertec  

Lasertec護膜和掩膜雜質粒子檢查設備

  • Lasertec日前宣布成功地推出了新型護膜和掩膜異物檢查設備——PEGSIS P100。這個設備能與90nm甚至更小尺寸半導體器件設計規(guī)則的掩膜兼容,具有很高的檢查速率和靈敏度。Lasertec將這個產品視為2006年之前的旗艦產品,計劃在2006年受理10部訂單。 該設備不僅將檢測靈敏度提高到了4μm,還能通過明視場檢查進行缺陷檢測。只要缺陷的種類清楚了,就能選擇合理的洗凈方法。今后幾個月內還將配備可清除異物的選配功能,據介紹能夠當場清除異物。包括掩膜搬運等時間在內護膜表面和掩膜背面的檢測時
  • 關鍵字: Lasertec  護膜和掩膜  檢查設備  雜質粒子  
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