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KLA-Tencor 宣布推出新型光罩檢測(cè)系統(tǒng)

  • 　　今天，KLA-Tencor 公司針對(duì) 10 納米及以下的掩膜技術(shù)推出了三款先進(jìn)的光罩檢測(cè)系統(tǒng)，Teron? 640、Teron? SL655 和光罩決策中心 (RDC)。所有這三套系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)當(dāng)前和下一代掩膜設(shè)計(jì)的關(guān)鍵，使得光罩廠和集成電路晶圓廠能夠更高效地辨識(shí)光刻中顯著并嚴(yán)重?fù)p害成品率的缺陷。 　　利用創(chuàng)新的雙重成像技術(shù)，Teron 640 檢測(cè)系統(tǒng)為光罩廠提供了必要的靈敏度，對(duì)先進(jìn)的光罩進(jìn)行準(zhǔn)確的品質(zhì)檢驗(yàn)。Teron SL655 檢測(cè)系統(tǒng)采用全新的 STARlightGol
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