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「指甲蓋」上集成500億晶體管!全球首款2nm芯片制程發(fā)布,未來手機(jī)四天一充電?

發(fā)布人:旺材芯片 時間:2021-05-08 來源:工程師 發(fā)布文章

也許你都忘了,IBM曾是一家大牌的芯片制造商。


但它今天給我們提了個醒兒:全球第一個 2 納米芯片制造技術(shù),誕生在了紐約州奧爾巴尼的IBM研究院。


每十年都是考驗(yàn)?zāi)柖蓸O限的期限,以2021為開端的十年也不例外。


隨著極紫外(EUV)技術(shù)的到來,加上其他更多的技術(shù)改進(jìn),晶體管尺寸得以減少。但目前看來,這項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)趨于瓶頸。


據(jù)IBM稱,其新推出技術(shù)這種架構(gòu)可以平衡性能與能源效率——比目前主流的7納米芯片快 45%,功耗減少 75%。


這個消息,就像一個重磅炸彈,在臺積電、三星、英特爾盤踞太久的芯片行業(yè),讓IBM狠狠地刷了波存在感。


但必須澄清的是,雖然該工藝節(jié)點(diǎn)被稱為「2納米」,這個2nm跟傳統(tǒng)談?wù)摰木€寬不一樣。


全球首個2納米芯片制造技術(shù),但2納米的標(biāo)簽?zāi)愀闱辶藛?br />


在過去,這個尺寸曾經(jīng)是芯片上二維特征尺寸的等效度量,如90納米、65納米和40納米。


然而,隨著FinFET和其他3D晶體管設(shè)計的出現(xiàn),現(xiàn)在的工藝節(jié)點(diǎn)名稱是對「等效2D晶體管」設(shè)計的解釋。一般用晶體管密度可以更準(zhǔn)確的衡量,如同英特爾倡導(dǎo)的那樣。


例如,英特爾的7納米工藝將與臺積電的5納米工藝大致相同;臺積電的5納米工藝也甚至沒有50%的改進(jìn)(它比7納米工藝只提供15%的改進(jìn)),所以稱其為5納米工藝本身就有點(diǎn)牽強(qiáng)。根據(jù)IBM的說法,他們的「2納米」技術(shù)比臺積電的7納米工藝有大約50%的改進(jìn),這樣以來——即使按照當(dāng)今最寬松的標(biāo)準(zhǔn),也頂多是3.5納米技術(shù)。


但這不代表IBM的新消息沒有技術(shù)含量。


IBM表示,新芯片將在「手指甲大小」的芯片中配備多達(dá)500億個晶體管,這使得IBM的晶體管密度為每平方毫米3.33億個晶體管(MTr / mm 2)。



關(guān)于向全方位門/納米片晶體管的發(fā)展,雖然IBM沒有明確表示,但圖片顯示,這種新的2納米處理器采用了三層GAA設(shè)計。



此前,三星在3納米時引入GAA,而臺積電則要等到2納米。相比之下,英特爾將在其5納米工藝中引入某種形式的GAA。


該工藝包括每個鰭片中的三個門-周圍(GAA)納米片通道。極端紫外線(EUV)處理對于定義工藝中的小尺寸是必要的,但它允許納米片的寬度在15納米到70納米之間。為了呼應(yīng)IBM早期在絕緣體上的硅(SOI)工作,該工藝包括一個底部電介質(zhì)隔離,以實(shí)現(xiàn)12納米的門長。IBM已經(jīng)開發(fā)了一種內(nèi)隔板干式工藝,以提供精確的柵極尺寸控制。該工藝支持多種閾值電壓,用于SoC和高性能計算應(yīng)用。這是首次在工藝的FEOL部分使用EUV圖案,使關(guān)鍵層的設(shè)計的所有階段都能使用EUV


據(jù)IBM稱,這項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)的潛在好處可能包括:


  • 手機(jī)電池壽命翻兩番,只要求用戶每四天給他們的設(shè)備充電一次。



  • 減少數(shù)據(jù)中心的碳足跡,這些中心占全球能源使用量的1%,即5.8億兆焦耳。將他們所有的服務(wù)器改為基于2納米的處理器,有可能大大減少這一數(shù)字。


  • 大大加快筆記本電腦的功能,從快速處理應(yīng)用程序,到更容易地協(xié)助語言翻譯,到更快的互聯(lián)網(wǎng)訪問。


  • 有助于加快自動駕駛汽車等自主車輛的物體檢測和反應(yīng)時間。


另外,這項(xiàng)技術(shù)將使數(shù)據(jù)中心的電源效率、太空探索、人工智能、5G和6G以及量子計算等領(lǐng)域受益。
全球芯片巨頭進(jìn)程概覽,IBM有可能挑戰(zhàn)臺積電地位嗎?

好漢不復(fù)當(dāng)年勇。藍(lán)色巨人IBM早就沒有芯片巨頭這一形象了。
想當(dāng)年美國存儲器憑著Sematech聯(lián)盟崛起,也是靠IBM慷慨捐贈的一條晶圓線。
的確,IBM現(xiàn)已將其大量芯片生產(chǎn)外包給三星電子。在紐約州奧爾巴尼(Albany)仍保留著一個芯片制造研究中心。該中心負(fù)責(zé)對芯片進(jìn)行試運(yùn)行,并與三星和英特爾簽署了聯(lián)合技術(shù)開發(fā)協(xié)議,以使用IBM的芯片制造技術(shù)。
也就是在這里,IBM悶聲搞大事,加入了本屬于臺積電和三星的爭奪戰(zhàn)。
去年秋天,蘋果的M1和A14與華為的麒麟9000一起到來,成為首批基于臺積電5納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)工藝的處理器。
另一邊,三星正在奮力追趕遲遲落后的五納米制程。
其他制造商,如AMD和高通,現(xiàn)在通常使用臺積電的7納米芯片(盡管高通的驍龍 888是在三星的5納米技術(shù)上制造的)。
而至于英特爾,這家芯片巨頭計劃在2025年和2027年分別完成3納米和2納米節(jié)點(diǎn)。在2023年之前該公司不太可能發(fā)布7納米處理器——它目前正在使用10納米和14納米芯片。但是必須承認(rèn),英特爾的芯片在相同的納米數(shù)字上往往比競爭對手有更大的晶體管密度。

與此同時,臺積電也在研究2納米工藝,其4納米芯片工藝有望在2021年底實(shí)現(xiàn)風(fēng)險生產(chǎn),3納米處理器預(yù)計將在2022年下半年推出,2納米版本也于2019年開始研究,目前正在開發(fā)中。
但雄心歸雄心,鎧甲還是很重要的。
先進(jìn)納米制程所必須的極紫光刻機(jī)EUV,ASML在全球生產(chǎn)了100臺,其中70臺都?xì)w臺積電。

IBM這項(xiàng)2納米芯片制造技術(shù),還需要幾年時間才能推向市場。而屆時臺積電的3納米或早已稱新王了。
芯片上更多的晶體管也意味著處理器設(shè)計人員擁有更多的選擇。IBM已經(jīng)在最新一代的IBM硬件中實(shí)現(xiàn)了其他創(chuàng)新的核心級增強(qiáng)功能,例如IBM POWER10和IBM z15。
但更強(qiáng)大、更高效的CPU正奔赴而來,這不值得興奮嗎?


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