干貨 | 三極管和MOSFET選型規(guī)范
1.1.1 三極管選型原則
行業(yè)發(fā)展總趨勢(shì)為:小型化、表貼化,高頻化,高效率化,集成化,綠色化。重點(diǎn)突出小型化和表貼化。
近年來(lái),隨著MOSFET的發(fā)展,在低功率高速開(kāi)關(guān)領(lǐng)域,MOSFET正逐步替代三極管,行業(yè)主流廠家對(duì)三極管的研發(fā)投入也逐年減少,在芯片技術(shù)方面基本沒(méi)有投入,器件的技術(shù)發(fā)展主要體現(xiàn)在晶圓工藝的升級(jí)(6inch wafer轉(zhuǎn)8inch wafer)及封裝小型化及表貼化上。另外,相對(duì)普通三極管,RF三極管的主要發(fā)展方向是低壓電壓供電,低噪聲,高頻及高效。
選型原則如下:
1)禁選處于生命周期末期的插件封裝器件,如TO92
2)優(yōu)選行業(yè)主流小型化表貼器件,如SOT23,STO323,SOT523等,對(duì)于多管應(yīng)用,優(yōu)先考慮雙管封裝如SOT363及SOT563
3)對(duì)于開(kāi)關(guān)應(yīng)用場(chǎng)景,優(yōu)先考慮選用MOSFET
4)射頻三極管優(yōu)選低電壓供電,低噪聲,高頻及高效器件。
1.1.2 MOSFET選型原則行業(yè)技術(shù)發(fā)展總趨勢(shì)為:小型化、表貼化,高頻化,高功率密度化,高效率化,高可靠性,集成化,綠色化。重點(diǎn)突出高頻化,高功率密度化,高可靠性及集成化。
行業(yè)技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)主要體現(xiàn)在MOSFET芯片材料,晶圓技術(shù),芯片技術(shù)及封裝技術(shù)的演進(jìn)及發(fā)展。選型原則如下:
禁止選用處于生命周期末期的插件封裝器件(能源用TO220,TO247除外)及封裝為SO8,DPAK的表貼器件。
對(duì)于信號(hào)MOSFET推薦選用柵極集成TVS保護(hù)的小型化表貼器件。
1)對(duì)于Vds<=250V的功率MOSFET
單管優(yōu)選行業(yè)主流無(wú)引腳表貼功率封裝POWERPAK 5X6及POWERPAK3X3,在散熱不滿足要求的情況下可考慮翼型帶引腳表貼封裝D2PAK;
Buck上下管集成方案優(yōu)選下管sourcing down POWERPAK5X6 dual封裝;
電源模塊考慮到器件散熱問(wèn)題,可選行業(yè)主流插件封裝TO220
對(duì)于緩起及熱插拔應(yīng)用,選用器件時(shí)請(qǐng)重點(diǎn)評(píng)估器件是否工作在其安全工作區(qū)域
開(kāi)關(guān)應(yīng)用需同緩起,熱插拔及ORing應(yīng)用區(qū)分選型
超高頻領(lǐng)域(1MHz以上),可考慮用GANMOS替代,從而提高效率降低系統(tǒng)面積。
2)對(duì)于Vds介于600V~650V的高壓功率MOSFET,其用于AC電源模塊優(yōu)先考慮選用Vds為650V的器件;
封裝根據(jù)電源模塊散熱及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)要求推薦選用表貼器件POWERPAK 8X8及插件TO247,未來(lái)還可考慮表貼器件POWERPAK5X6;
對(duì)于在電路中工作頻率不高的場(chǎng)景如當(dāng)前PFC電路,優(yōu)選寄生二極管不帶快恢復(fù)特性的MOSFET(如INFINEON C3,C6,P6系類),對(duì)于電路中工作頻率較高的場(chǎng)景如LLC電路,優(yōu)選寄生二極管帶恢復(fù)特性的MOSFET(如INFINEON CFD系列);
對(duì)于電源效率要求不是特別高的場(chǎng)景,部分MOSFET可以考慮用高速IGBT替換,達(dá)到降成本的目的。對(duì)于高效模塊,可考慮選用SIC MOSFET替代傳統(tǒng)Si MOSFET,達(dá)到提升電源工作效率的目的;
對(duì)于Vds高于800V的MOSFET,如果Id大于5A,建議考慮選用IGBT,如果Id小于5A,建議選用行業(yè)主流封裝TO247,TO220或D2PAK;
原則上禁止選用耗盡性JFET,如遇到特殊電流需使用,請(qǐng)?jiān)谛袠I(yè)主流封裝SOT23Z中選擇。
2. 三極管和MOSFET器件選型關(guān)鍵要素2.1. 三極管選型關(guān)鍵要素三極管在電路中有放大和開(kāi)關(guān)兩種作用,目前在我司的電路中三極管主要起開(kāi)關(guān)作用。在選擇三極管的時(shí)候,從以下幾個(gè)方面進(jìn)行考慮:參數(shù)、封裝、性能(低壓降、低阻抗、高放大倍數(shù)、高開(kāi)關(guān)效率)
1)參數(shù)的選擇:三極管有很多參數(shù),選型對(duì)于三極管的參數(shù)沒(méi)有特殊的要求,需要關(guān)注的參數(shù)有Vceo、Vcbo、Vebo、Ic(av)、Pd、Hef。比較重要的參數(shù)是Vceo、Ic(av),對(duì)于Vceo的值有時(shí)廠家會(huì)給Vces的值,不能用Vces的值作為Vceo,因?yàn)閂ces=Vcbo>Vceo。如果器件的電壓和電流值在降額后滿足需求,Pd可以不用過(guò)多的去考慮(三極管做放大用、作電壓線性轉(zhuǎn)化以及三極管功率比較大的場(chǎng)合需要考慮Pd)。
在滿足降額規(guī)范要求的前提下,考慮輸出電流和相應(yīng)的耗散功率,擊穿電壓大小,放大倍數(shù)等參數(shù)。同時(shí),應(yīng)盡量選用熱阻小,允許結(jié)溫高的器件。
2)封裝:三極管的封裝的發(fā)展趨勢(shì)是小型化、表貼化、平腳化、無(wú)引腳化。
封裝質(zhì)量?jī)?yōu)劣的是用芯片面積與封裝面積的比值來(lái)判斷的,比值越接近1越好。目前三極管最小封裝是sot883(DFN1006-3),優(yōu)選封裝有sot883、sot663、sot23、sot89、sot223、sot666。由于三極管的功率需求越來(lái)越小,所以小封裝三極管是其引進(jìn)的一個(gè)方向,在參數(shù)滿足規(guī)格的前提下盡量選擇小封裝。
3)性能:選擇低Vce(sat)的、低阻抗的器件。目前NXP、ON、ZETEX等均推出了低飽和壓降的器件,在選型時(shí)可以優(yōu)先考慮。
2.2. MOSFET選型關(guān)鍵要素2.2.1 電壓極限參數(shù)1)漏源擊穿電壓V(BR)DSS:漏源擊穿電壓V(BR)DSS一般是在結(jié)溫Tj=25℃下,VGS=0V,ID為數(shù)百A下的測(cè)試值,由于V(BR)DSS和Rds(on)成反比,因此多數(shù)廠家MOSFET的上限為1000V。V(BR)DSS與溫度有關(guān),Tj上升100℃,V(BR)DSS約線性增加10%。反之,Tj下降時(shí),V(BR)DSS以相同比例下降。這一特性可以看作MOSFET的優(yōu)點(diǎn)之一,它保證了內(nèi)部成千上萬(wàn)個(gè)元胞在雪崩擊穿時(shí),難以使雪崩電流密集于某一點(diǎn)而導(dǎo)致器件損壞(不同于功率三極管)。
2)最大額定柵源電壓VGS
柵源之間的SiO2氧化層很薄,因此在二者之間加上不高的電壓就會(huì)在內(nèi)部形成很高的電場(chǎng),而電場(chǎng)超過(guò)SiO2材料的承受能力便發(fā)生擊穿導(dǎo)致器件失效。
最大額定柵源電壓VGS多數(shù)廠家資料為20V,(對(duì)于低驅(qū)動(dòng)電壓的低壓MOSFET一般為10V)。目前很多廠對(duì)于高驅(qū)動(dòng)電壓MOSFET已將此極限電壓提高到30V。SIC MOSFET則多為10V~25V間,啟動(dòng)電壓不對(duì)稱,選用時(shí)需注意驅(qū)動(dòng)部分的設(shè)計(jì)。
2.2.2 影響損耗的主要參數(shù)對(duì)于MOSFET,當(dāng)頻率小于100KHz時(shí),主要是導(dǎo)通損耗占的比重最大。因此影響損耗的主要參數(shù)為通態(tài)電阻Rds(on)。一般廠家給出的Rds(on)值,是在規(guī)定的VGS(如10V)ID(一般為標(biāo)稱電流值)、Tj(一般為25℃)條件下的值。
對(duì)于Rds(on),有以下特性:對(duì)生產(chǎn)廠家來(lái)說(shuō),在相同設(shè)計(jì)及工藝條件下,如果提高M(jìn)OSFET的Rds(on)值,會(huì)導(dǎo)致Rds(on)升高。Rds(on)值隨著結(jié)溫升高而近似線性升高。其結(jié)果是導(dǎo)致?lián)p耗增加,例如下圖IRF640的Rds(on)與Tj關(guān)系圖,如果結(jié)溫在120℃時(shí),Rds(on)值將是25℃時(shí)的1.8倍。因此導(dǎo)通損耗I2*Rds(on)也將增加到1.8倍;相對(duì)于Si MOSFET,SiC MOSFET由于其禁帶寬度較Si MOSFET寬,所以其溫度特性明顯優(yōu)于Si MOSFET。在150℃的條件下,SIC MOSFET的Rds(on)僅僅比在25℃條件下增加20%。
與VGS的關(guān)系:為了將Rds(on)降低到最小,至少VGS要提高到10V(4V驅(qū)動(dòng)的產(chǎn)品約外加5V)才可降到最小。此外,即使將VGS提高到12V~15V以上,也不會(huì)對(duì)Rds(on)的降低起多大作用(如果在占空比小的情況下有接近或超出直流額定電流的運(yùn)用,另當(dāng)別論),不必要地增大這種柵壓,會(huì)加大充電電流,增加驅(qū)動(dòng)損耗,并容易在柵源間發(fā)生尖峰電壓。增加?xùn)旁磽舸┑氖Ц怕省R虼藢?duì)于一般的MOSFET,12V驅(qū)動(dòng)即可。
相同的結(jié)溫下,隨著ID增大,Rds(on)有輕微增大。計(jì)算功耗時(shí),可以忽略該變化。在實(shí)際使用中,如果增大ID值,導(dǎo)致發(fā)熱上升,那是因?yàn)樯釛l件(熱阻)不變,ID增加,功耗P= I2* Rds(on)增加,結(jié)溫升高,Rds(on)隨之升高,進(jìn)一步加大功耗。
另外,當(dāng)頻率超過(guò)100KHz后,開(kāi)關(guān)損耗所占的比例不能忽視,這時(shí)就必須注意器件本身的柵極電荷Qg,輸出電容Coss,以及柵極驅(qū)動(dòng)電阻對(duì)開(kāi)關(guān)損耗的影響。特別是通態(tài)電阻越小的MOSFET,通常其元胞密度就越大,因此Qg、Coss就會(huì)越大,這就會(huì)增大開(kāi)關(guān)損耗。
近來(lái),由于MOSFET的應(yīng)用頻率進(jìn)一步提高,在低壓大電流的MOSFET生產(chǎn)上,還需注意從工藝設(shè)計(jì)上改善MOSFET內(nèi)部寄生的Rg,以降低MOSFET的開(kāi)關(guān)損耗,提高應(yīng)用頻率(或提高電流)
2.2.3 電流處理能力參數(shù)限制電流處理能力的最終因素是最大可允許結(jié)溫(通常廠家規(guī)定為150℃)。一般用可持續(xù)直流漏極電流ID、額定峰值電流IDM來(lái)表征。
1)可持續(xù)直流漏極電流ID
實(shí)際可允許最大ID值是決定于Rds(on)、結(jié)-殼熱阻RJC(它決定于器件的芯片封裝材料及工藝水平)、最大可允許結(jié)溫Tj,以及殼溫Tc等機(jī)構(gòu)參數(shù)。它們滿足一下公式:
I2* Rds(on)*Rjc=Tjmax-Tc
其中Rds(on)、Rjc、Tjmax由器件本身的特性決定,Tc則與設(shè)計(jì)有關(guān),如散熱條件、功耗等(注:可允許最大漏極功耗Pd= I2*Rds(on)=(Tjmax-Tc)/Rjc)。一般廠家資料給出的是殼溫下的ID值,另外有些廠家還給出了最大ID和Tc之間的關(guān)系曲線。
以IRF640為例,電流標(biāo)稱值為18A(Tc=25℃下),其ID和Tc的關(guān)系如上圖。由圖可見(jiàn),當(dāng)殼溫有25℃變到125℃時(shí),可見(jiàn)最大直流漏極電流由18A下降到8A。必須注意,Tc=25℃下的ID僅僅具有參考意義(可以進(jìn)行不同管子之間的比較),因?yàn)樗羌俣ㄉ釛l件足夠的好,外殼溫度始終為25℃(在實(shí)際應(yīng)用中,根本不可能),從而根據(jù)公式I2* Rds(on)*Rjc=Tjmax-Tc推算出來(lái)的。但在實(shí)際應(yīng)用情況下,由于環(huán)境溫度和實(shí)際散熱條件的限制,殼溫通常遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于25℃,且最高結(jié)溫通常要保持在20℃以上的降額。因此,可允許直流漏極電流必須隨溫度升高而降額使用。
2)額定峰值電流IDM
如果電流脈沖或占空比較小時(shí),則允許其超過(guò)ID值,但其脈沖寬度或占空比需要受到最大可允許結(jié)溫的限制。一般廠家資料規(guī)定25℃下的額定峰值電流IDM值為ID值的四倍,并且是在VGS=20V下得到的。
2.2.4 與柵極驅(qū)動(dòng)有關(guān)的參數(shù)由于在G、D、S各極之間存在不可避免的寄生電容。因此,在驅(qū)動(dòng)時(shí),該電容器有充放電電流和充放電時(shí)間,這便是驅(qū)動(dòng)損耗、開(kāi)關(guān)損耗產(chǎn)生的根本原因。器件的開(kāi)關(guān)特性通常以Qg來(lái)衡量。
1)輸入電容Ciss、反向傳輸電容Crss、輸出電容Coss
由于在G、D、S各極之間存在不可避免的寄生電容,因此,在驅(qū)動(dòng)時(shí),改電容器有充放電電流和充放電時(shí)間,這便是驅(qū)動(dòng)損耗、開(kāi)關(guān)損耗產(chǎn)生的根本原因。器件的開(kāi)關(guān)特性通常以Qg來(lái)衡量。
1)輸入電容Ciss、反向傳輸電容Crss、輸出電容Coss
如上圖,Ciss=Cgd+Cgs,Crss=Cgd,Coss=Cds+Cgd
2)總的柵極電荷Qg
它表示在開(kāi)通過(guò)程中要達(dá)到規(guī)定的柵極電壓所需要的充電電荷。是在規(guī)定的VDS、ID及VGS(一般為10V)條件下測(cè)得的。
由于彌勒效應(yīng)的存在,Cgd雖然比Cgs小很多,但在驅(qū)動(dòng)過(guò)程中它起的作用最大,因此客觀來(lái)講,考察MOSFET的Qg比考察Ciss等來(lái)得更為準(zhǔn)確一些。
另外還有柵極電荷Qge、柵極電荷(彌勒電荷)Qgd兩個(gè)參數(shù)。
如下圖以IRF640為例,示意它們的波形。
3)柵極電阻Rg,開(kāi)通延遲時(shí)間td(on)、上升時(shí)間tr、關(guān)斷延遲時(shí)間td(off)、下降時(shí)間tf
同樣描述的是器件的開(kāi)關(guān)性能,同時(shí)關(guān)系到器件的驅(qū)動(dòng)損耗。其具體值與測(cè)試條件密切相關(guān)。比較不同的管子時(shí)尤其要引起注意。否則容易為廠家所誤導(dǎo)。
2.2.5 與可靠性有關(guān)的參數(shù)1)最大可允許結(jié)溫Tjmax
這是可靠性最為重要的參數(shù),對(duì)MOSFET,一般廠家都標(biāo)為150℃,也有125℃和175℃的特殊半導(dǎo)體器件。
2)雪崩額定值
由于漏感和分布電感以及關(guān)斷時(shí)的di/dt,可能會(huì)產(chǎn)生電壓尖峰從而強(qiáng)制MOSFET進(jìn)入雪崩擊穿區(qū),VDS被鉗制在實(shí)際的擊穿電壓點(diǎn),但如果進(jìn)入雪崩擊穿區(qū)的實(shí)際很短,能量很小,器件本身則可以將其消耗掉而不至于損壞。
有三個(gè)參數(shù)能表征這一特性,即可允許單次脈沖雪崩能量EAS、可允許重復(fù)脈沖雪崩能量EAS(脈寬受到最大結(jié)溫限制)、發(fā)生雪崩時(shí)的初始最大雪崩電流IAR。雪崩能量額定值隨結(jié)溫升高而顯著下降,隨發(fā)生雪崩時(shí)起始電流的增加而下降。
如果器件工作時(shí)有雪崩情況,注意在老化工程中,由于結(jié)溫會(huì)相應(yīng)升高,雪崩能力會(huì)相應(yīng)下降,如果下降到一定程度則有可能是器件損壞,并且這種損壞通常只呈現(xiàn)一定的比例。(當(dāng)然也有可能是其它原因引起MOSFET損壞,如變壓器在高溫大電流下的磁飽和)
3)柵極漏電流IGSS、漏極斷態(tài)漏電流IDSS
這兩個(gè)參數(shù)在具體設(shè)計(jì)時(shí)可能用不到,但它限制了器件內(nèi)部工藝、材料的好壞,其值盡管可能是小到mA級(jí)或uA級(jí),但比較器件時(shí),通過(guò)測(cè)試它隨電壓變化(尤其是高溫下)的情況也可以比較判斷器件的優(yōu)劣。
2.2.6 與寄生源漏二極管有關(guān)的參數(shù)在某些電路可能要運(yùn)用到體內(nèi)二極管進(jìn)行續(xù)流,此時(shí)則需要考察二極管的參數(shù)。
1)的dv/dt值
體寄生二極管續(xù)流時(shí),少子空穴也參與了導(dǎo)電,并且濃度很高,當(dāng)二極管導(dǎo)通周期結(jié)束,外電路使二極管反轉(zhuǎn)時(shí),如果D、S之間的電壓上升過(guò)快,大量少子空穴有一部分來(lái)不及復(fù)合掉,引起橫向流過(guò)體區(qū)的電流,該電流在P+區(qū)和源區(qū)N+之間形成的壓降可能使寄生的三極管導(dǎo)通,(漏極D相當(dāng)于寄生NPN三極管的集電極、P+相當(dāng)于基極,源極S極相當(dāng)于****極,基極****極有正向壓降時(shí),由于dv/dt大,電壓上升快,集電極與****極之間也有正電壓,因此寄生三極管導(dǎo)通),電流會(huì)密集于第一個(gè)導(dǎo)通的元胞,從而使器件熱擊穿損壞。
2)其它參數(shù)
a.反向恢復(fù)特性,有反向恢復(fù)電荷、反向恢復(fù)時(shí)間。續(xù)流運(yùn)用時(shí)要考慮匹配。
b.電流電壓參數(shù),有正向壓降VSD,其電流參數(shù)IS、ISM與ID、IDM相同,相對(duì)于SI MOSFET,SIC MOSFET的寄生二極管的正向壓降,這是因?yàn)镾IC的拐點(diǎn)電壓(Knee voltage:point at which diode turn on)是Si的3倍,這非常近似于它們禁帶寬度的比值,因此SIC MOSFET的VSD約為2.5V,而Si MOSFET的VSD約為0,8V。
2.2.7 封裝封裝選用主要結(jié)合系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),熱設(shè)計(jì),單板加工工藝及可靠性考慮,選擇具有合適封裝形式及熱阻的封裝。常見(jiàn)功率MOSFET封裝為DPAK、D2PAK、PowerPAK 5X6、PowerPAK 3X3、DirectFET、TO220、TO247,小信號(hào)MOSFET對(duì)應(yīng)的SOT23,SOT323等,后繼引進(jìn)中主要考慮PowerPAK 8X8,PowerPAK SO8 5X6 Dual,PowerPAK 5X6 dual cool,SO8封裝器件在行業(yè)屬退出期器件,選型時(shí)禁選,DPAK封裝器件在行業(yè)屬飽和期器件,選型時(shí)限選;插件封裝在能源場(chǎng)景應(yīng)用中優(yōu)選,比如TO220,TO247。
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