新聞中心

EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 晶電紅光芯片效率達到200 lm/W

晶電紅光芯片效率達到200 lm/W

—— 更具競爭力的性價比
作者: 時間:2011-11-07 來源:LEDinside 收藏

  以高效率混光(Direct-Red platform)是暖白光照明應用的重要技術之一。這個技術提供照明燈更好的發(fā)光效率、更佳的演色性(CRI),以及更具競爭力的性價比 (流明/美元,lm/$)。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/125568.htm

  芯片光電致力于四元紅光低壓(2V)芯片與高壓(HV)芯片效率提升,相較于使用紅色螢光粉轉換形成暖白色調之技術(Phosphor Red platform),芯片光電四元芯片技術可提供更高效率及更低成本之解決方案。EPISTAR LAB最新的實驗室數據報告,小尺寸(355μm2)紅光低壓2V芯片在6 mA下操作,其發(fā)光波長609nm (Wd)可達成200 lm/W之高效率,在一般20mA操作電流下,效率也可達184 lm/W。

  要達到如此絕佳的效率,EPISTAR LAB開發(fā)出多項技術,其中包括透明基板轉換制程、減少量子井光線吸收、增加光子萃取率的細微結構與提高電流分布均勻度等。同樣的技術也應用在紅光高壓(HV)芯片,數據報告高壓(HV)芯片在6 mA下操作可達到186 lm/W,一般20mA操作電流下,則可達到174lm/W,此時電壓值為18.5伏特。超高效率紅光高壓(HV)芯片適合應用在2W~10W具有光引擎?zhèn)I限空間的燈具,例如GU10以及燈泡。

  芯片光電將持續(xù)開發(fā)更先進之芯片技術,并與客戶緊密合作,提供市場更佳之照明解決方案。



關鍵詞: 紅光芯片 LED

評論


相關推薦

技術專區(qū)

關閉