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科銳推出低基面位錯(cuò)4H碳化硅外延片

作者: 時(shí)間:2012-09-20 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

   領(lǐng)域的市場(chǎng)領(lǐng)先者公司(Nasdaq: CREE)日前宣布推出其最新低基面位錯(cuò)(LBPD)100毫米4H外延片。該款低基面位錯(cuò)材料的外延漂移層的總基面位錯(cuò)密度小于1 cm-2,引起Vf偏移的基面位錯(cuò)容量小于0.1 cm-2。這一新型低基面位錯(cuò)材料的推出進(jìn)一步體現(xiàn)了長(zhǎng)期以來(lái)對(duì)材料技術(shù)的不斷投入和創(chuàng)新。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/137034.htm

  功率器件與射頻(RF)首席技術(shù)官 John Palmour 表示:“雙極型(Bipolar)器件的發(fā)展長(zhǎng)期以來(lái)受制于基面位錯(cuò)引起的正向電壓衰減。該款低基面位錯(cuò)材料能夠用于諸如絕緣柵雙極晶體管(IGBT)和可關(guān)斷晶閘管(GTO)等高壓雙極型器件,并且增加這些器件的穩(wěn)定性。這一最新成果有助于消除遲滯高功率器件商業(yè)化的阻礙。”

  碳化硅是一種高性能的半導(dǎo)體材料,被廣泛地應(yīng)用在照明、功率器件和通訊器件產(chǎn)品的生產(chǎn)中,包括發(fā)光二級(jí)管()、功率轉(zhuǎn)換器件以及無(wú)線通訊用射頻功率晶體管等。



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