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Cadence協(xié)助創(chuàng)意、聯(lián)電克服先進制程設計挑戰(zhàn)

作者: 時間:2013-07-23 來源:semi 收藏

  益華電腦( Design Systems)近日宣布兩項成功合作案例,其一為設計服務業(yè)者創(chuàng)意電子(GUC)運用 Encounter數(shù)位設計實現(xiàn)系統(tǒng)(Digital Implementation System,EDI)與 Litho Physical Analyzer,成功地完成了20nm系統(tǒng)晶片(SoC)測試晶片的試產(chǎn)。此外晶圓代工大廠聯(lián)電(UMC)已經(jīng)采用Cadence 「設計中(in-design)」與signoff DFM (design-for-manufacturing)流程,執(zhí)行28nm設計的實體signoff與電子變異性最佳化。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/147786.htm

  Cadence與創(chuàng)意電子兩家公司的工程師們密切合作,運用Cadence解決方案克服了設計實現(xiàn)與DFM驗證的設計挑戰(zhàn)。創(chuàng)意電子運用Cadence Encounter解決方案支援20nm布局與繞線流程中所有錯綜復雜的步驟,包括雙重曝光元件庫準備、布局、時脈樹合成、保持固定(hold fixing)、繞線與繞線后最佳化。GUC 創(chuàng)意電子也運用Cadence Litho Physical Analyzer進行DFM驗證,將20nm制程變異的不確定性轉變成為可預測的影響,幫助縮短設計時程。

  「我們選擇Cadence益華電腦作為開發(fā)夥伴,因為他們在先進制程的成功已經(jīng)獲得大家公認。」GUC創(chuàng)意電子設計技術開發(fā)處處長曾智謀表示:「這個20nm SoC測試晶片在臺積公司制程上試產(chǎn)成功,就是我們密切合作以及Cadence Encounter與DFM解決方案絕佳功能的直接成果?!?/p>

  「隨著客戶紛紛移向20nm,他們面對著新的挑戰(zhàn),例如雙重曝光與制程變異,大幅提高了風險。」Cadence益華電腦晶片實現(xiàn)事業(yè)群研發(fā)資深副總裁徐季平表示:「Cadence益華電腦以我們的設計實現(xiàn)和DFM驗證工具克服了這些先進制程挑戰(zhàn)。我們與夥伴們密切合作,驗證這些新制程以降低風險,并且讓客戶能夠滿懷信心地輕松轉移到20nm制程?!?/p>

  而與聯(lián)電合作的新流程,則解決了隨機與系統(tǒng)良率問題,為客戶提供另一個通過晶圓廠驗證的28nm設計流程。這些新流程是與UMC聯(lián)華電子合作開發(fā)的,融合業(yè)界頂尖的DFM預防、分析和signoff功能,包括Cadence Litho Physical Analyzer (LPA)、Cadence Pattern Analysis、Cadence Litho Electrical Analyzer (LEA)和Cadence Chemical-Mechanical Polishing Predictor (CCP)技術。

  Cadence指出,在28nm和以下制程,精準地預測和自動修正DFM「熱點」以縮短達成高良率目標所需的時間(time-to-yield),是非常關鍵的。聯(lián)電加入頂尖晶圓廠紛紛在Cadence DFM解決方案上進行標準化的陣容,大幅提高客戶的生產(chǎn)力與良率。DFM signoff技術緊密地整合到Encounter 數(shù)位與Cadence Virtuoso? 客制/類比設計實現(xiàn)與sign-off解決方案中。

  這套解決方案能為客戶提供「一次設計即正確(correct-by-design)」的功能,建立微影、CMP和布局依賴效應之實體與參數(shù)影響的模型并加以分析,然后使設計實現(xiàn)最佳化,以紓解設計上的實體與電子變異,讓使用者能夠達到自己的量產(chǎn)前置時間(time-to-volume)目標。

  「為了達成我們的上市前置時間目標,28nm的DFM解決方案必須提供低成本、精準的晶片預測能力以及高效能。」聯(lián)電負責矽智財與設計支援的副總簡山杰表示:「經(jīng)過嚴格評估之后,Cadence DFM技術以其優(yōu)異的實體和電子DFM分析特性而雀屏中選。現(xiàn)在,聯(lián)華電子能夠為客戶的先進提供更佳的預測和更快速的周轉時間?!?/p>

  「在先進制程,試產(chǎn)之前預防可能的DFM熱點與良率限制因素是非常重要的,才能夠實現(xiàn)一次就成功(first-silicon success)與最高晶片良率?!笴adence益華電腦晶片實現(xiàn)事業(yè)群晶片Signoff與驗證副總裁Anirudh Devgan表示:「我們與UMC聯(lián)華電子緊密合作,不斷地投資于能夠強化我們在sign-off技術上領先地位的技術,例如為現(xiàn)在與未來制程提供具備DFM意識的設計實現(xiàn)流程。」



關鍵詞: Cadence 制程設計

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