日本首臺ASML EUV光刻機將運抵，用于Rapidus晶圓廠試產(chǎn)
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據(jù)日媒報道，日本半導(dǎo)體代工企業(yè)Rapidus購入的第一臺ASML EUV光刻機將于2024年12月中旬抵達(dá)北海道新千歲機場，這也將成為日本全國首臺EUV光刻設(shè)備。
本文引用地址：http://butianyuan.cn/article/202411/464682.htm據(jù)Rapidus高管此前透露，該光刻機是較早期的0.33 NA型號，而非目前全球總量不足10臺的0.55 NA（High NA）款。
按Rapidus此前的規(guī)劃，該公司計劃于2025年4月啟動先進(jìn)制程原型線，該產(chǎn)線將擁有包括EUV光刻機在內(nèi)的共計200余臺設(shè)備。根據(jù)千歲市當(dāng)?shù)卣恼f法，Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠截至上月底已完成63%的施工進(jìn)度。
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