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PMOS緩啟電路

作者: 時間:2024-12-27 來源:硬件筆記本 收藏

本文來源于一個實際項目,需要由一個P作為開關(guān)來控制的導通。但對實際參數(shù)進行測量時,發(fā)現(xiàn)P導通時間太短,使得后級電路的dV/dt太大,造成一些不好的影響,因此本文對如何延緩P啟動速度進行簡單學習與概述性介紹。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202412/465848.htm

1 米勒平臺


上圖所示為PMOS的等效模型,其柵極、源極與漏極相互之間都存在寄生電容,分別為CGD,CGS,CDS。MOS管的開啟時序如下圖所示:


開啟過程如下:

(1)T0-T1階段,G端輸出電平,CGS開始從0充電直至VGS(th),漏極源極之間的電壓UDS與電路IDS保持不變,MOS管保持關(guān)斷狀態(tài);另外此時的CGD的D端電壓高于G端,但由于MOS管關(guān)斷,RDS(等效為CDS)為無窮大,所以CGD兩端電壓基本保持不變,流經(jīng)其電流也非常小。

(2)T1-T2階段,MOSFET導通,進入恒流區(qū),柵源電容繼續(xù)充電。隨著UGS的增加,漏極電流IDS從0開始增加至滿負荷電流,柵極電壓UGS從電壓VGS繼續(xù)上升。此階段,由于CGD的原因,VDS保持不變。

(3)T2-T3階段,隨著IDS的增加,RDS逐漸減小,CGD通過RDS放電,VDS下降,VG會為CGD反向充電,CGS被分流,導致VGS不再上升,維持在Vgp不變形成一個平臺,這個平臺稱為米勒平臺。在這個階段,IDS電流很大,RDS不是最小,所以MOS管的損耗較大。

(4)在T3處,CGD反向充滿電,G端驅(qū)動電壓繼續(xù)為CGS充電,VGS繼續(xù)上升直至與驅(qū)動電壓相同;VDS下降使得MOS管進入飽和區(qū),MOSFET完全打開。

由于米勒效應(yīng),MOSFET柵極驅(qū)動過程中,會形成平臺電壓,引起開關(guān)時間變長,開關(guān)損耗增加,給MOS管的正常工作帶來非常不利的影響。


2 MOS管作為開源開關(guān)

在電力電子中,常利用MOS管的飽和區(qū)特性將其作為負載開關(guān),如下圖所示:


上圖電路主要由MOSFET與控制部分組成,其中MOSFET可以選擇PMOS或NMOS。它們分別有各自的好處,針對不同的電路特點需分別選擇。


2.1 NMOS作為開關(guān)

PMOS的載流子為空穴,NMOS載流子為電子,因此在相同的工藝及尺寸面積條件下,NOMS管導通后的RDS更小,電流會更大,其更適合大電流場合下使用。

當NOMS管導通時,VG >= VOUT + Vth,因此,其需要一個單獨的電壓來保持VGS大于閾值電壓,例如下圖所示,VGATE需要大于輸入電壓與閾值電壓之和。在很多場合下,電路板上并沒有這樣的電壓,所以一般使用NMOS控制需要更復雜的電路。


2.2 PMOS作為開關(guān)

PMOS作為開關(guān)可如下圖所示,其導通時只需要VIN >= VG + Vth即可,因此,其不需要另一個電壓來保持MOS管的打開狀態(tài),相比NMOS作為開關(guān)控制,其電路較為簡單。


2.3NMOS與PMOS效率比較

MOS管在導通過程中與導通后,由于RDS的存在,且負載電流較大,因此會有很大的損耗,特別是在第一節(jié)提到的米勒平臺期間。


另外由于RDS,S級電壓會比輸入電壓有所下降,RDS越大,損失越大,如下圖所示:


由于工藝的不同,NMOS的RDS通常比PMOS小數(shù)倍,特別是在大電流場合下,其優(yōu)勢更加明顯。但在小電流等低功耗場合下,PMOS更簡單的控制電路帶來的優(yōu)勢更為明顯。


3 浪涌電流(Inrush current)及其控制


如果MOS管后接一個容性負載,當電路突然導通時,電容迅速充電,會有一個非常大的涌浪電流,其大小為:


可以看出,MOS管導通速度越快,浪涌電流越大,會給電路帶來很大的危害,比如炸管。因此,需要延長MOS管的導通時間。這時就需要合理使用第一節(jié)講到的米勒平臺了。

米勒平臺形成的原因是VG需要對CDG電容充電,其容值越大,米勒平臺時間越長,因此,可以直接在MOS管的柵漏之間并聯(lián)一個電容C1,如下圖所示。這樣的話,dVSD/dt就會變小,inrush current會變小。


上圖中的R1與R2是一個分壓網(wǎng)絡(luò),其值決定了PMOS的柵源電壓,一般VGS有限制,所以R1與R2需滿足:


R2一般可在1k-10k,又由于VGS與RDS的趨勢曲線如下,所以R1也不可太小,否則會使得RDS太大。一般取VSG的最大值計算,在此基礎(chǔ)上將R1增加一些,這樣管子被完全打開的同時,RDS不會太大。


C1的值可以通過以下公式計算,其中g(shù)fs為跨導,IINRUSH為限制的最大浪涌電流,CLOAD為未添加R1與C1時,對板子浪涌電流實測結(jié)果估算而來。


實驗室并無電流探頭,因此無法得知CLOAD的值,因此可大概選擇C1容值為10-100nF。

下圖為使用IRF6216作為電源開關(guān)進行仿真計算,輸入電壓為70V,負載電流為0.7A,帶一個容性負載。


首先選擇R2 = 10kΩ,在IRF6216的手冊上標注其VGS,max = 20V,因此可計算得R1為25kΩ,可以選擇再大一些的阻值。在沒有C1的情況下,其ID曲線如圖所示:初始的浪涌電流達到了80A。


在MOS管的GD之間并聯(lián)一個電容C,取值為20nF,其浪涌電流降低到了10A,如下圖所示。相應(yīng)得,其后級電壓變化速度降低。


由于米勒平臺時間變長,MOS管在這段時間內(nèi)RDS較大,所以其熱損耗會變大;因此如果在高溫環(huán)境下,不可使米勒平臺時間過長,否則MOS管發(fā)熱過大,可能會損壞器件。




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