新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 半導(dǎo)體工藝向14/16nm FINFET大步前進(jìn)

半導(dǎo)體工藝向14/16nm FINFET大步前進(jìn)

作者: 時(shí)間:2014-01-03 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  幾乎所有繼續(xù)依靠先進(jìn)半導(dǎo)體工藝來(lái)帶給自己芯片性能與功耗競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)的廠商,紛紛將自己的設(shè)計(jì)瞄準(zhǔn)了即將全面量產(chǎn)的技術(shù)。在這一市場(chǎng)需求推動(dòng)下,似乎20nm這一代,成為很多代工廠眼中的雞肋,巴不得直接跨越20nm,直奔16/14nm的

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/215121.htm

  除去已經(jīng)量產(chǎn)兩年的Intel之外,代工業(yè)的老大臺(tái)積電()是最可能第一個(gè)提供服務(wù)的代工廠,他們瞄準(zhǔn)的工藝是16nm,而他們計(jì)劃推出的時(shí)間是2014年試產(chǎn),2015年大規(guī)模量產(chǎn)。在Intel遲遲沒(méi)有推出自己的22nm的AP SoC之際,誰(shuí)會(huì)做出第一個(gè)FINFET AP,也許還真是個(gè)未知數(shù)。

  比起16nm FINFET,現(xiàn)在主打制程是20nm,他們不希望直接跳過(guò)20nm或者僅僅將20nm當(dāng)作跳向16/14nm FINFET的過(guò)渡。中國(guó)區(qū)業(yè)務(wù)發(fā)展副總經(jīng)理羅鎮(zhèn)球介紹,20nm這代工藝有技術(shù)和市場(chǎng)兩方面的價(jià)值。市場(chǎng)方面,很多客戶還是希望推出20nm產(chǎn)品以期早一點(diǎn)確立競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。雖然20nm因?yàn)槎啻纹毓獾燃夹g(shù),已經(jīng)不太可能從工藝上壓縮成本了,但是相比現(xiàn)在的28nm,20nm在性能上可以提升10%-15%,功耗方面可以降低20%-25%,面積方面則是接近50%的縮減,由此帶來(lái)的半導(dǎo)體芯片競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)還是非常明顯的,這也是很多客戶非常希望選擇的主要原因。比如賽靈思高級(jí)副總裁兼亞太區(qū)總裁湯立人就表示,20nm可以讓他們更早提供高性能FPGA給客戶,而且對(duì)賽靈思而言,20nm這種工藝也許會(huì)長(zhǎng)期采用,成為平面制造未來(lái)最主流的產(chǎn)品工藝選擇。

  技術(shù)方面則是為FINFET積累經(jīng)驗(yàn),無(wú)論是對(duì)于Intel,還是TSMC,還是IBM聯(lián)盟里的各家廠商,16/14nmFINFET最大的挑戰(zhàn)還是3D工藝帶來(lái)的完全不同的工藝流程。羅鎮(zhèn)球說(shuō)了一句很實(shí)在的話就是,真正的挑戰(zhàn)從來(lái)不是你能預(yù)計(jì)到的挑戰(zhàn),而是當(dāng)你真正面對(duì)之后遇到的未知的問(wèn)題。對(duì)TSMC來(lái)說(shuō),他們向FINFET邁進(jìn)之路分兩步,先是在20nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)改善后端技術(shù),然后再在16nm改善前端,希望以分兩步的方式,讓16nm FINFET的到來(lái)變得更平穩(wěn)些。

  目前FINFET技術(shù)的需求很旺盛,但市場(chǎng)和技術(shù)成熟度方面還需要更多的路要走。談到FINFET帶來(lái)的優(yōu)勢(shì),羅鎮(zhèn)球介紹,一個(gè)最直觀的例子是的芯片,用TSMC的20nmSoC技術(shù)和未來(lái)的16nmFINFET技術(shù)相比,后者的待機(jī)時(shí)間在設(shè)計(jì)優(yōu)化出色的前提下可以延長(zhǎng)一天。為了提供不同客戶的需求,TSMC雖然16nm和20nm一樣,都只提供一種工藝,但是會(huì)提供不同的庫(kù)來(lái)滿足不同客戶的產(chǎn)品性能需求,這點(diǎn)類似于28nm時(shí)提供的多種工藝。

  除了工藝技術(shù)之外, 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)已逐漸演變成產(chǎn)業(yè)鏈及生態(tài)系統(tǒng)的競(jìng)爭(zhēng)。羅鎮(zhèn)球表示,臺(tái)積電絕不與客戶競(jìng)爭(zhēng),而是與客戶及其他合作伙伴一起,完善整個(gè)集成電路行業(yè)的生態(tài)系統(tǒng),努力提高整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的效率, 例如我們倡議的OIP開放式創(chuàng)意平臺(tái), 就是結(jié)合了上百家行業(yè)內(nèi)的伙伴公司, 形成大聯(lián)盟, 協(xié)助客戶更快的使用新的工藝,提高客戶產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力, 加速推出產(chǎn)品并贏得市場(chǎng)份額。 臺(tái)積電承諾持續(xù)不斷的保持技術(shù)領(lǐng)先, 卓越制造, 服務(wù)到位, 成為最值得客戶信賴的技術(shù)和產(chǎn)能的提供者。

  另一家臺(tái)灣的代工廠UMC則選擇跳過(guò)20nm制程,而直接進(jìn)軍14nm。因?yàn)閁MC的布局是配合IC設(shè)計(jì)業(yè)對(duì)node(制程節(jié)點(diǎn))的選擇。因?yàn)槌杀緝?yōu)勢(shì)不明顯,20nm的一些優(yōu)勢(shì)用28nm也可以搞定。因此一些客戶會(huì)直接跳到14nm去。UMC客戶工程暨硅智財(cái)研發(fā)設(shè)計(jì)支援副總經(jīng)理簡(jiǎn)山傑稱,UMC通過(guò)和IBM合作來(lái)縮短研發(fā)時(shí)程和學(xué)習(xí)曲線,達(dá)到加速上市量產(chǎn),14nm制程計(jì)劃于2014年第四季度推出,2015年底或2016年初推出10nm。



關(guān)鍵詞: TSMC FINFET 智能手機(jī) 201401

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉