45納米FPGA明年推出 考驗設(shè)計和制造協(xié)作
在摩爾定律指引下,過去10多年來,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍是每兩年推出一個新工藝,預(yù)計這還會在未來10年內(nèi)持續(xù),從目前的65納米到45納米再到32納米以下。這背后的驅(qū)動力是每一代新工藝會將片上晶體管密度翻倍(每個晶體管的成本每年降低25~30%),這意味著更高性能,更低成本和功耗。
Mojy Chian:45納米節(jié)點(diǎn)需要FPGA供應(yīng)商和代工廠無縫合作。
不過,Altera公司技術(shù)開發(fā)副總裁Mojy Chian博士表示,和以往不同的是,過去幾年客戶對性能、成本和功耗需求的優(yōu)先級發(fā)生了變化。他指出,2000年左右,客戶最關(guān)心性能,其次是功耗,最后是成本,但是現(xiàn)在客戶最關(guān)心成本,其次是功耗,最后才是性能。正是因為如此,在65納米節(jié)點(diǎn),Altera推出的首個器件是低成本低功耗FPGA。
作為Altera公司技術(shù)開發(fā)副總裁,Chian博士負(fù)責(zé)所有技術(shù)節(jié)點(diǎn)芯片工藝的各項工作,包括新技術(shù)(65nm、45nm)的工藝規(guī)劃和設(shè)計基礎(chǔ)結(jié)構(gòu),以及提高成熟技術(shù)的產(chǎn)量、降低其缺陷密度和工廠控制等?,F(xiàn)在他的主要工作集中在45nm工藝上。
Chian表示,45nm是一個重大工藝節(jié)點(diǎn),45nm相對于65nm的優(yōu)勢要比65nm相對于90nm的優(yōu)勢更大。這主要是應(yīng)變硅工程(Strain engineering)大大提高了晶體管性能,使晶體管級性能提高了40%以上,有利于將更多晶體管集成到有限的面積上。應(yīng)變硅、硅化鎳、低K介質(zhì)和銅互連這些技術(shù)已經(jīng)用于65納米,將繼續(xù)用于45納米工藝。
盡管45納米繼續(xù)帶來更高的價值,但也帶來了很大的挑戰(zhàn),主要是設(shè)計和工藝間更緊密的相互依賴。45納米對器件開發(fā)帶來的挑戰(zhàn)包括:漏電流管理、電壓飽和、嚴(yán)格的設(shè)計規(guī)則、變異管理和逆溫現(xiàn)象管理等。同時45納米也提高了制造門檻,例如45納米生產(chǎn)線投資高達(dá)30億美元,工藝開發(fā)成本接近10億美元,另外還會受到光刻波長和原子尺寸限制這兩大技術(shù)挑戰(zhàn)。Chian表示,所有這些問題都不是無法解決的,但增加了開發(fā)成本,能夠跟上的廠商越來越少,促使得供應(yīng)商出現(xiàn)整合。
Chian解釋說,隨著器件越來越復(fù)雜,設(shè)計者需要在更高層面設(shè)計,但45納米有很多底層工藝需要考慮,也就是說,以前是制造時才會遇到的工藝問題,現(xiàn)在IC設(shè)計的時候就要考慮。他強(qiáng)調(diào)說:“我們開發(fā)45納米FPGA時,同時遇到艱難的設(shè)計和工藝挑戰(zhàn),解決這個難題的唯一方法是芯片廠和代工廠間更緊密的合作”。
正是因為如此,Chian宣稱,在45納米時代,Altera和臺積電的排他性合作模式更具有優(yōu)勢。他解釋說,一是臺積電在研發(fā)、產(chǎn)量和質(zhì)量上領(lǐng)先;二是雙方在FPGA制造上的排他性合作已經(jīng)超過12年,兩者并不是簡單的供應(yīng)商-客戶關(guān)系,更好像是一家公司里的兩個部門,Altera是IC設(shè)計部門,臺積電是晶圓制造部門。他宣稱,如果采用幾家代工合作伙伴,由于幾個代工廠擔(dān)心各自的IP問題,他們間將很難達(dá)到無縫協(xié)作。
他還介紹了Altera第一片就成功(first silicon to production)的設(shè)計方法學(xué),即在正式流片(tape out)前,采用測試芯片進(jìn)行驗證,以保證第一片就是成功的芯片,可以交付客戶使用。由于采用了這種設(shè)計方法,Altera宣稱所有90納米工藝的器件都是第一片就可以使用,所有器件按時或提前交付,而65納米器件更是從流片到量產(chǎn)交付不到3個月。
在90納米和65納米節(jié)點(diǎn),Altera共有9個測試芯片,45納米計劃有8個測試芯片。2005年初Altera和臺積電開始45納米工藝和設(shè)計開發(fā)協(xié)作,雙方組成了12個強(qiáng)大的聯(lián)合研發(fā)團(tuán)隊。目前已經(jīng)有4種研發(fā)測試芯片。Altera計劃2008年正式推出45納米器件。Chian表示,我們不僅關(guān)注上市時間,還注重高良率和低風(fēng)險。
Altera在首個65納米器件推出時間上稍顯落后,Altera希望在45納米反超。Chian解釋說,一是我們在65納米上引入了可編程功耗技術(shù)這一項重大的技術(shù),它針對設(shè)計中需要的地方提高性能,而把其它地方的功耗降到最低,從而降低了總功耗;二是Altera率先首布了業(yè)界首個低功耗65納米FPGA,這給客戶帶來了很大的價值,是客戶真正需要的;三是Altera的90納米器件中就已經(jīng)集成了業(yè)界領(lǐng)先的高速串行收發(fā)器。
他強(qiáng)調(diào)說,一般來說,業(yè)界都是每隔兩年推出一個新的工藝節(jié)點(diǎn),而Altera將在明年發(fā)布首個45納米器件,僅在發(fā)布首個65納米器件一年后,將上市時間大大提前了??磥?,2008年將會是FPGA巨頭們上演45納米的時候。
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