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2008 慕尼黑上海激光、光電展新亮點(diǎn)——“德國激光與光電特別展”

作者: 時(shí)間:2008-03-27 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏


此次德國激光與光電特別展云集60家德國企業(yè),展示“德國制造”技術(shù)與產(chǎn)品。參展商中許多是聞名世界的知名企業(yè),如Berliner Glas、賀利氏Heraeus Noblelight、Jenoptik、德國漢諾威激光中心、勒沃尼Leoni Fiber Optics、Linos、光譜物理Physik Instrumente、Scanlab、肖特Schott及Vertilas。下面介紹一下在德國激光與光電特別展上各企業(yè)將推出的亮點(diǎn):

超精細(xì)電子激光雕刻領(lǐng)域的光纖激光雕刻機(jī):來自德國Selmsdorf的Alltec公司特別推出其新型五瓦特連續(xù)光纖激光雕刻機(jī)Alltec LF050。特別適用如薄板等獨(dú)立或嵌入式鑄造件, 對(duì)于此類超精細(xì)雕刻元件,其最高雕刻高度可達(dá)150 μm,雕刻厚度最大可達(dá)30 μm。

來自德國多特蒙特的Limo Lissotschenko Mikrooptik公司榮獲“2007年德國經(jīng)濟(jì)創(chuàng)新獎(jiǎng)”,公司極具創(chuàng)新意識(shí)和技術(shù)實(shí)力。公司以推出的緊湊型、無需維修的高品質(zhì)線形激光而榮獲此殊榮,該產(chǎn)品在薄膜太陽能電池的生產(chǎn)過程中可用于涂于襯底上。

德國凱澤斯勞騰Lumera Laser公司出品的工業(yè)用臺(tái)式激光儀代表了行業(yè)先進(jìn)水平。首先要介紹的就是“Hyper Rapid”超速皮秒激光器,應(yīng)用新研發(fā)的強(qiáng)化理念,TEM00–Mode模式下平均最大功率能達(dá)到50 瓦,脈沖頻率達(dá)1 MHz。

來自德國Wackersdorf 的Arges公司生產(chǎn)的創(chuàng)新型激光掃描系統(tǒng)屬于行業(yè)頭牌軍。公司將展示其多樣化的適用于激光儀器的高集成控制器,它能在一個(gè)激光系統(tǒng)內(nèi)完美模擬所有可疑儀器或信號(hào)。其特殊之處在于,這套系統(tǒng)建立在嵌入式Linux平臺(tái)的基礎(chǔ)之上,所有系統(tǒng)使用者均可編寫自己的程序。

“德國制造”也包括來自德國Staufen的Owis公司生產(chǎn)的高精準(zhǔn)定位系統(tǒng)。公司展示產(chǎn)品中當(dāng)推新型XY平面系列CROSS和PKT (M),高度低于50 mm,可配合新型定位控制系統(tǒng)PS 30和PS 90使用,效果極佳。

德國慕尼黑Linos Photonics公司以其豐富多樣的光學(xué)系統(tǒng)而聞名世界。 在此次特別展中展上,將隆重展示其遠(yuǎn)心式合成材料透鏡,即F-Theta透鏡,適用于激光標(biāo)刻、 專門用于小型、快速掃描頭的新型物鏡,同時(shí)在725 nm至1050 nm范圍內(nèi)近紅外線的新型激光擴(kuò)徑系統(tǒng)上也可適用該透鏡。

德國美因茨肖特公司(Schott)將向中國觀眾展示其熱膨脹系數(shù)極低的微晶玻璃“Zerodur”,具近乎于零的熱膨脹以及出色的三維的均勻度,出色的內(nèi)部品質(zhì),良好的加工性能,可被拋光至極高的精確度以及優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性。因而是現(xiàn)代天文領(lǐng)域、光學(xué)系統(tǒng)和測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域的最佳選擇。

位于德國Chemnitz的弗勞恩霍夫協(xié)會(huì)可靠性和微集成研究所(Fraunhofer IZM)的主要研究方向即為激光技術(shù)的應(yīng)用,包括借助激光技術(shù)研究合成材料、半導(dǎo)體和金屬、用于精密激光束繞射的光學(xué)元件、用于微機(jī)電系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域和連接技術(shù)即晶片鍵合領(lǐng)域的以微系統(tǒng)及激光應(yīng)用為基礎(chǔ)的精密激光微調(diào)。

德國柏林工業(yè)大學(xué)光學(xué)研究所相反則著重研究在玻璃光學(xué)纖維端口法布里-珀羅(F-P)濾波器或防反射層的應(yīng)用。只有運(yùn)用這類絕緣層才能使玻璃光學(xué)纖維的應(yīng)用更廣泛。

德國慕尼黑大學(xué)化學(xué)教授辦公室的研究核心為高效熒光色素及其應(yīng)用。通過這類技術(shù)可完成光線的收集、短暫存儲(chǔ)、轉(zhuǎn)化、再發(fā)射,甚至冷卻。利用此項(xiàng)技術(shù)的熒光薄膜探測(cè)器能夠?qū)崿F(xiàn)高效持續(xù)地探測(cè)有害物質(zhì)。

德國慕尼黑工業(yè)大學(xué)測(cè)量系統(tǒng)和傳感技術(shù)學(xué)院將發(fā)表其在光學(xué)附著表面測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域的最新研究結(jié)果。研究人員在展會(huì)上將詳盡展示以干擾量度學(xué)為基礎(chǔ)而設(shè)計(jì)的測(cè)量?jī)x器,該儀器所用原理與三角測(cè)量法或白光干涉測(cè)量法不同,能夠?qū)崿F(xiàn)完全一樣的照明和觀測(cè)軸、靈活多樣的測(cè)量間距、精密的測(cè)量輪廓、良好的工業(yè)生產(chǎn)工藝應(yīng)用性以及快速的數(shù)據(jù)處理和評(píng)估。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/80794.htm


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