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半導體廠倚重EUV 先進微影技術的強勁需求

  • 微影設備業(yè)者ASML第一季已完成136臺極紫外光(EUV)曝光機出貨,累計超過7,000萬片晶圓完成EUV曝光。隨著EUV微影技術推進,預期2025年之后新一代EUV曝光機每小時曝光產量可達220片以上,以因應客戶端先進制程推進至埃米(Angstrom)世代對先進微影技術的強勁需求。雖然2023年半導體市況能見度低且不確定性高,但包括臺積電、英特爾、三星、SK海力士、美光等全球前五大半導體廠仍積極投資EUV產能,加上制程推進會帶動光罩層數(shù)增加,法人樂觀看好家登、帆宣、公準、意德士(等EUV概念股明年營運將
  • 關鍵字: 微影技術  ASML  EUV  

三星跟隨英特爾和臺積電 5億歐元注資ASML公司

  •    據(jù)外國媒體報道,荷蘭微影設備廠ASML宣布,三星公司已同意向ASML投資5.03億歐元(約合6.29億美元),獲得該公司3%股權。此外,三星承諾在未來5年將向ASML公司投資2.76億歐元(約合3.45億美元),支持ASML研發(fā)下一代微影技術。   此前,臺積電和英特爾公司已宣布分別以8.38億歐元和33億歐元收購ASML公司5%和15%股權。同時,臺積電公司承諾在未來5年向ASML投入2.76億歐元,用于ASML的研發(fā)計劃。   ASML公司之前曾邀英特爾、臺積電和三星等公司加入由其
  • 關鍵字: 三星  微影技術  

次世代微影技術主流之爭 

  •   目前次世代微影技術發(fā)展仍尚未有主流出現(xiàn),而身為深紫外光 (EUV)陣營主要推手之一的比利時微電子研究中心(IMEC)總裁Luc Van den hove指出,EUV技術最快于2014年可望進入量產,而應用存儲器制程又將早于邏輯制程,他也指出,無光罩多重電子束恐怕來不及進入量產。   
  • 關鍵字: 微影技術  EUV  

臺積電發(fā)布6月報告 營收環(huán)比增長5.3%

  •   臺灣積體電路制造股份有限公司(臺積電)10日公布2009年6月營收報告,就非合并財務報表方面,營收約為新臺幣257億7800萬元,較2009年5月增加了5.3%,較去年同期減少了9.6%。累計2009年1至6月營收約為新臺幣1095億5600萬元,較去年同期減少了35.9%。   就合并財務報表方面,2009年6月營收約為新臺幣265億1500萬元,較2009年5月增加了5.0%,較去年同期減少了10.0%;累計2009年1至6月營收約為新臺幣1137億1200萬元,較去年同期減少了35.3%。
  • 關鍵字: 臺積電  22納米  微影技術  

臺積電與CEA-Leti合作推動無光罩微影技術

  •   為積極朝向22納米制程技術前進,臺積電宣布與法國半導體研究機構CEA-Leti簽訂合作協(xié)議,將參與由CEA-Leti主持的IMAGINE產業(yè)研究計畫,就半導體制造中的無光罩微影技術進行合作,這項計畫為期3年。日前曾傳出,由于經濟前景不明,部分設備商延后22納米制程技術研發(fā),臺積電此舉則希望更積極主動推動22納米無光罩微影技術。   這次臺積電參與的CEA-Leti IMAGINE研究計畫為期3年,所有參與這項計畫的公司都可取得無光罩微影架構供IC制造使用,也可以藉由設備商Mapper所提供的技術提高
  • 關鍵字: 臺積電  22納米  微影技術  
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微影技術介紹

  微影技術(Lithography)是制造晶體管及它們之間的連結的關鍵技術,在半導體制程上較狹義之定義,一般是指以光子束經由圖罩(Mask, Reticle)對晶圓(Wafer)上之阻劑照射;以電子束、離子束經由圖罩、圖規(guī)(Stencil)對阻劑照射;或不經由圖罩、圖規(guī),對阻劑直接照射(直寫),使阻劑產生極性變化、主鏈斷鏈、主鏈交連等化學作用,經顯影后將圖罩、圖規(guī)或直寫之特定圖案轉移至晶圓?! ? [ 查看詳細 ]

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