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應(yīng)用材料公司推出全新SEMVision G4缺陷再檢測(cè)系統(tǒng)
- 近日,應(yīng)用材料公司推出最先進(jìn)的缺陷再檢測(cè)SEM(掃描電子顯微鏡)SEMVision™ G4系統(tǒng),它將應(yīng)用材料公司非常成功的SEMVision系統(tǒng)的技術(shù)和生產(chǎn)能力提升到45納米及更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)。SEMVision G4系統(tǒng)的關(guān)鍵在于全新的SEM聚焦離子槍技術(shù)和增強(qiáng)的多視角SEM成像系統(tǒng)(MPSI),他們具有卓越的2納米物理精度,能提供無(wú)與倫比的成像質(zhì)量,其每秒一個(gè)缺陷的檢測(cè)速度也設(shè)定了新的基準(zhǔn)。 應(yīng)用材料公司工藝診斷和控制事業(yè)部SEM部門總經(jīng)理Ronen Benzion表示:“45納米
- 關(guān)鍵字: 測(cè)試 測(cè)量 應(yīng)用材料 EMVision G4 SEM 測(cè)量工具
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