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基于VerilogHDL的CMOS圖像敏感器驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì)
- Verilog HDL語(yǔ)言是IEEE標(biāo)準(zhǔn)的用于邏輯設(shè)計(jì)的硬件描述語(yǔ)言,具有廣泛的邏輯綜合工具支持,簡(jiǎn)潔易于理解。本文就STAR250這款CMOS圖像敏感器,給出使用Verilog HDL語(yǔ)言設(shè)計(jì)的邏輯驅(qū)動(dòng)電路和仿真結(jié)果。
- 關(guān)鍵字: 驅(qū)動(dòng) 電路設(shè)計(jì) 敏感 圖像 VerilogHDL CMOS 基于
Silicon Laboratories推出業(yè)界最具頻率彈性可在線編程CMOS時(shí)鐘發(fā)生器
- 高性能模擬與混合信號(hào)IC領(lǐng)導(dǎo)廠商Silicon Laboratories (芯科實(shí)驗(yàn)室有限公司)今日發(fā)表業(yè)界最具頻率彈性可在線編程的CMOS時(shí)鐘發(fā)生器。新推出的8路時(shí)鐘發(fā)生器Si5350/51內(nèi)置壓控石英晶體振蕩器(VCXO),能以單一時(shí)鐘IC取代傳統(tǒng)的多器件鎖相環(huán)(PLL)解決方案,與其他時(shí)鐘產(chǎn)品相比,Si5350/51可提供兩倍的頻率彈性,且可分別降低70%的抖動(dòng)和30%的功耗。
- 關(guān)鍵字: 芯科實(shí)驗(yàn)室 CMOS 時(shí)鐘發(fā)生器 Si5350/51
一種新型高精度CMOS帶隙基準(zhǔn)源的設(shè)計(jì)
- 提出一種標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝結(jié)構(gòu)的低壓、低功耗電壓基準(zhǔn)源,工作電壓為5~10 V。利用飽和態(tài)MOS管的等效電阻特性,對(duì)PTAT基準(zhǔn)電流進(jìn)行動(dòng)態(tài)電流反饋補(bǔ)償,設(shè)計(jì)了一種輸出電壓為1.3 V的帶隙基準(zhǔn)電路。使輸出基準(zhǔn)電壓溫度系數(shù)在-25~+120℃范圍的溫度系數(shù)為7.427pp-m/℃,在27℃時(shí)電源電壓抑制比達(dá)82 dB。該基準(zhǔn)源的芯片版圖面積為0.022 mm2,適用于低壓差線性穩(wěn)壓囂等領(lǐng)域。
- 關(guān)鍵字: CMOS 高精度 帶隙基準(zhǔn)源
全新APS C格式1600萬(wàn)像素圖像傳感器進(jìn)入數(shù)碼單反相機(jī)市場(chǎng)
- CMOS成像技術(shù)的領(lǐng)先創(chuàng)新者ApTIna今日推出其高性能、功能豐富、APS-C格式的1600萬(wàn)像素的圖像傳感器。特別的設(shè)計(jì)令該產(chǎn)品可實(shí)現(xiàn)專業(yè)攝影師所要求的高畫質(zhì),除了以10幀/秒的速度捕捉1600萬(wàn)像素的靜態(tài)圖像以外,新的MT9H004傳感器亦具備較高的靈敏度、較小的暗電流和較低的讀出噪聲。憑借該公司最新的動(dòng)態(tài)響應(yīng)(DR)像素技術(shù)創(chuàng)新(稱為Aptina DR-Pix技術(shù)),新的APS-C格式成像解決方案在低亮度條件下可增加5分貝的信噪比(SNR),而無(wú)需犧牲高亮度環(huán)境中的表現(xiàn)。高亮度下的最大信噪比可達(dá)
- 關(guān)鍵字: 圖像傳感器 CMOS
CMOS技術(shù)將迎來(lái)轉(zhuǎn)折點(diǎn) 開始從15nm工藝向立體晶體管過(guò)渡
- 邏輯LSI的基本元件——CMOS晶體管的發(fā)展估計(jì)將在2013年前后15nm工藝達(dá)到量產(chǎn)水平時(shí)迎來(lái)重大轉(zhuǎn)折點(diǎn)。將由現(xiàn)行的平面型晶體管向具備三維溝道的立體型晶體管過(guò)渡。美國(guó)英特爾及臺(tái)灣臺(tái)積電(TSMC)等知名半導(dǎo)體廠商均已開始表現(xiàn)出這種技術(shù)意向。LSI的制造技術(shù)發(fā)生巨變之后,估計(jì)也會(huì)對(duì)各公司的微細(xì)化競(jìng)爭(zhēng)帶來(lái)影響。 元件材料及曝光技術(shù)也會(huì)出現(xiàn)轉(zhuǎn)折 “估計(jì)一多半的半導(dǎo)體廠商都會(huì)在15nm工藝時(shí)向FinFET過(guò)渡”(英特爾)?!霸?0nm以
- 關(guān)鍵字: CMOS 15nm 立體晶體管
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Complementary Metal Oxide Semiconductor
指互補(bǔ)金屬氧化物(PMOS管和NMOS管)共同構(gòu)成的互補(bǔ)型MOS集成電路制造工藝,它的特點(diǎn)是低功耗。由于CMOS中一對(duì)MOS組成的門電路在瞬間看,要么PMOS導(dǎo)通,要么NMOS導(dǎo)通,要么都截至,比線性的三極管(BJT)效率要高得多,因此功耗很低。
在計(jì)算機(jī)領(lǐng)域,CMOS常指保存計(jì)算機(jī)基本啟動(dòng)信息(如日 [ 查看詳細(xì) ]
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