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應用材料推出運用EUV延展2D微縮與3D環(huán)繞閘極晶體管技術
- 半導體設備大廠應用材料推出多項創(chuàng)新技術,協(xié)助客戶運用極紫外光(EUV)持續(xù)進行2D微縮,并展示業(yè)界最完整的次世代3D環(huán)繞閘極(Gate-All-Around,GAA)晶體管制造技術組合。芯片制造商正試圖透過兩個可相互搭配的途徑來增加未來幾年的晶體管密度。一種是依循傳統(tǒng)摩爾定律的2D微縮技術,使用EUV微影系統(tǒng)與材料工程以縮小線寬。另一種是使用設計技術優(yōu)化(DTCO)與3D技術,巧妙地藉由優(yōu)化邏輯單元布局來增加密度,而不需要改變微影間距。第二種方法需要使用晶背電源分配網(wǎng)絡與環(huán)繞閘極晶體管,隨著傳統(tǒng)2D微縮技
- 關鍵字: 應用材料 EUV 2D微縮 3D環(huán)繞閘極 晶體管
ASML公司開撕美國?光源技術不是根源,不交付EUV光刻機另有原因
- ASML公司雖然是荷蘭企業(yè),但不少網(wǎng)友都把ASML公司“美”化了,這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前,中國半導體企業(yè)就曾向ASML公司支付了定金,采購了一臺EUV光刻機。然而,ASML公司卻遲遲沒有發(fā)貨,這也引起了網(wǎng)友的各種猜疑。眾所周知,全世界只有ASML公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機,而一部EUV光刻機上就有超過10w的精密零件,各方面的技術也是來自全世界各國的頂尖技術。所以ASML公司的光刻機一直是供不應求。但明明已經(jīng)收了定金,10億一部的EUV光刻機,ASML公司為何有生意不做呢?大部分的
- 關鍵字: EUV ASML 光刻機
ASML:努力向中國提供一切能夠提供的技術
- 芯片行業(yè)一直是困擾全球的“卡脖子”領域,而其中核心的光刻機技術被幾家公司牢牢的攥在手里。想要在芯片領域有長足的進步,光刻機這種核心設備就要有所突破。而之前美國通過自身在全球市場的控制能力,通過修改法案等手段一直將光刻機設備和技術限制對中國進行輸出。但近期光刻機頭部企業(yè)ASML則明確表態(tài)將會盡其所能向中國市場提供一切他們能夠提供的技術,其中DUV光刻機將會不需要認可許可即可向中方企業(yè)提供。ASML光刻機除此之外,ASML表示在當前法律框架之下,他們除了EUV光刻機無法向中方企業(yè)提供,其他產(chǎn)品都可以正常發(fā)售。
- 關鍵字: ASML EUV 光刻機
阿斯麥的新一代EUV光刻機:造價1.5億美元 公共汽車大小
- 9月2日消息,荷蘭阿斯麥的新一代極紫外(EUV)光刻機每臺有公共汽車大小,造價1.5億美元。其前所未有的精度可以讓芯片上的元件尺寸在未來幾年繼續(xù)縮小?! ≡谖挥诿绹的腋裰萁紖^(qū)的一間大型潔凈室里,工程師們已經(jīng)開始為一臺機器制造關鍵部件,這臺機器有望讓芯片制造行業(yè)沿著摩爾定律至少再走上10年時間。 這臺極紫外光刻機是由荷蘭阿斯麥公司制造的。阿斯麥于2017年推出世界上第一臺量產(chǎn)的極紫外光刻機,在芯片制造領域發(fā)揮著至關重要的作用,已經(jīng)被用于制造iPhone手機芯片以及人工智能處理器等最先進的芯片。阿斯
- 關鍵字: 阿斯麥 EUV 光刻機
美光確認EUV工藝DRAM 2024年量產(chǎn):1γ節(jié)點導入
- 三星、SK海力士及美光確定未來會用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。芯研所8月21日消息,CPU、GPU為代表的邏輯工藝制程進入7nm之后,EUV光刻工藝不可或缺。目前內(nèi)存停留在10nm工藝級別。三星、SK海力士及美光也確定未來會用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采訪中確認,美光已將EUV技術納入DRAM技術藍圖,將由10nm世代中的1γ(gamma)工藝節(jié)點開始導入。美光EUV工藝DRAM將會先在臺中A3廠生產(chǎn),預
- 關鍵字: 美光 EUV DRAM
EUV技術開啟DRAM市場新賽程
- SK海力士公司在7月12日表示,本月已經(jīng)開始生產(chǎn)10納米8Gb LPDDR4移動DRAM —— 他們將在該內(nèi)存芯片生產(chǎn)中應用極紫外(EUV)工藝,這是SK海力士首次在其DRAM生產(chǎn)中應用EUV。根據(jù)SK海力士的說法,比起前一代規(guī)格的產(chǎn)品,第四代在一片晶圓上產(chǎn)出的DRAM數(shù)量增加了約25%,成本競爭力很高。新的芯片將在今年下半年開始供應給智能手機制造商,并且還將在2022年初開始生產(chǎn)的DDR5芯片中應用10納米EUV。世界第三大DRAM制造商SK海力士發(fā)布聲明,正式啟用EUV光刻機閃存內(nèi)存芯片,批量生產(chǎn)采用
- 關鍵字: EUV DRAM
為什么ASML加速來華?
- 芯片雖小,制造難度卻很大,而且芯片制造的關鍵設備光刻機的缺乏,更是成為限制我國高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發(fā)酵,讓我國半導體芯片領域的問題越加明顯,那就是在芯片制造的設備上,我國依然受制于人的問題相當嚴重。為什么ASML加速來華?北大教授的發(fā)聲很現(xiàn)實,國產(chǎn)光刻機突破在即雖然華為研發(fā)出基于5nm工藝的麒麟9000芯片,令一眾對手刮目相看,但是沒有臺積電為其代工生產(chǎn),沒有屬于中國自己的高端光刻機,就等同于一張“紙老虎”。作為中國大陸最先進的芯片制造企業(yè)中芯國際,因為沒有高端光刻機,至今仍然沒
- 關鍵字: EUV 光刻機 ASML
阿斯麥已生產(chǎn)的極紫外光刻機 70%賣給了臺積電
- 本周一,外媒援引韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部一份有關半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略文件報道稱,光刻機制造商阿斯麥將投資2.12億美元,在京畿道華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心。在報道阿斯麥將在華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心時,外媒還提到,雖然三星電子、SK海力士已引進了阿斯麥生產(chǎn)的極紫外光刻機,但他們獲得的數(shù)量同臺積電相比,有不小的差距?! ⊥饷皆趫蟮乐刑岬?,阿斯麥目前已生產(chǎn)的極紫外光刻機,70%是賣給了臺積電,留給其他廠商的就只有30%?! “⑺果準悄壳叭蛭ㄒ荒苤圃鞓O紫外光刻機的廠商,他們已推出了TWIN
- 關鍵字: 阿斯麥 極紫光刻機 EUV 臺積電
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