ASML下一代EUV光刻機(jī)曝光
9月2日,據(jù)WIRED報道,美國零部件部門已經(jīng)開始為ASML的下一代EUV光刻機(jī)制造關(guān)鍵部件,該機(jī)器有望讓摩爾定律至少再延續(xù)10年。霍爾元件等行業(yè)有望也能爭取到行業(yè)技術(shù)發(fā)展的紅利。
位于美國康涅狄格州郊區(qū)的一間大型潔凈室里,工程師們已經(jīng)開始為一臺空前強(qiáng)大的機(jī)器制造關(guān)鍵部件,而這臺機(jī)器有望讓芯片制造行業(yè)沿著摩爾定律至少再走上10年時間。
該光刻機(jī)組件使用的新技術(shù)能夠極限降低紫外線波長,從而盡可能縮小所制造的芯片元件尺寸(線寬),從而提高單位面積的性能。
這些組件將在半年后被運輸、組裝成為ASML的新一代EUV光刻機(jī)——一座體積有一輛公共汽車那么大、造價1.5億美元的龐然大物。
整個機(jī)器包含10萬個部件和2公里長的電纜。為保證運輸安全,每臺機(jī)器的發(fā)貨需要40個集裝箱、3架貨機(jī)或者20輛卡車才能完成,當(dāng)前只有臺積電、三星和英特爾等少數(shù)公司才能買得起這種機(jī)器。
“這真是一臺不可思議的機(jī)器,”麻省理工學(xué)院研究新型晶體管架構(gòu)的教授Jesús del Alamo說?!斑@絕對是一款革命性的產(chǎn)品,是一項突破,將給芯片行業(yè)帶來新的生命......我認(rèn)為摩爾定律仍將持續(xù)相當(dāng)長一段時間?!?/div>
在康涅狄格州的工廠里,工程師們將一塊巨大鋁材雕刻成框架,最終讓光罩以納米級的精度在其間移動,反射極紫外光束。這些光束利用幾面鏡子來回反射,以驚人精度反復(fù)修飾打磨,在硅片上蝕刻出只有幾十個原子大小的特征圖案。
據(jù)悉,造好的組件將于2021年底運往荷蘭的維荷芬(ASML總部及制造基地),然后在2022年初安裝到新一代EUV光刻機(jī)的第一臺原型機(jī)中。
英特爾表示,預(yù)計將在2023年下線第一批芯片。憑借比以往任何機(jī)器更精密的制造能力,每顆芯片的晶體管規(guī)模都將再上一個臺階,這臺機(jī)器在未來幾年所生產(chǎn)的芯片都將創(chuàng)造歷史。
喬治敦大學(xué)研究芯片制造的研究分析師威爾·亨特(Will Hunt)表示,EUV光刻機(jī)的每個部件都“極其復(fù)雜,復(fù)雜得令人吃驚”?!皼]有阿斯麥的機(jī)器,就不可能制造出先進(jìn)芯片?!薄昂芏鄸|西都要經(jīng)過年復(fù)一年的調(diào)整和試驗,而這些都是非常困難的?!?/div>
“說實話,沒有人真的想用極紫外光,”行業(yè)研究公司Real World Technologies芯片分析師David Kanter說。“它比原計劃晚了20年,超出預(yù)算10倍。但如果你想制造非常致密的結(jié)構(gòu),它是你唯一的工具?!?/div>
某種意義上,光刻機(jī)就是人類通往未來的工具之一。
就像戈登·摩爾在1975年的演講上提到的,“當(dāng)一顆芯片上有了1萬個晶體管,人們有什么不能做呢?”
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