日本攜手英特爾建先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)中心，將配備EUV光刻機(jī)

據(jù)日經(jīng)亞洲（Nikkei Asia）9月3日報導(dǎo)，美國處理器大廠英特爾已決定與日本官方研究機(jī)構(gòu)在日本設(shè)立先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)中心，以提振日本半導(dǎo)體設(shè)備制造與材料產(chǎn)業(yè)。

據(jù)介紹，這座新的研發(fā)中心將在未來3到5年落成，擬配備極紫外光（EUV）光刻設(shè)備。設(shè)備制造商與材料商只要繳納一定的費(fèi)用，就能使用設(shè)備進(jìn)行測試與試作。這將是日本第一座擁有供廠商共用EUV光刻機(jī)的研發(fā)中心，也是日本研究機(jī)構(gòu)首度計劃導(dǎo)入EUV光刻機(jī)。

該研發(fā)中心將由隸屬于日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)?。ń?jīng)產(chǎn)省）的產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所（AIST）負(fù)責(zé)營運(yùn)，而英特爾將提供使用EUV技術(shù)制造芯片的專業(yè)知識。這座研發(fā)中心的總投資額將達(dá)數(shù)百億日元。

EUV在制造5nm以下先進(jìn)芯片上扮演重要角色，不過一臺EUV設(shè)備動輒售價約1.5億美元，并非是許多材料商與設(shè)備商可單獨(dú)負(fù)擔(dān)的價格。

而資金不夠雄厚的廠商目前只能使用海外研究機(jī)構(gòu)的EUV設(shè)備來研發(fā)產(chǎn)品，例如比利時微電子研究中心（IMEC）。此外，日本政府與8家民間企業(yè)合資的晶圓代工廠Rapidus計劃今年12月引進(jìn)EUV設(shè)備，以便制造尖端制程芯片，不過日本研究機(jī)構(gòu)目前尚無這類設(shè)備。

隨著美中科技競爭日趨激烈，美國早已禁止EUV的對華出口，并加強(qiáng)了對于高端DUV相關(guān)技術(shù)和產(chǎn)品的出口管制，其中包含設(shè)備與材料，不過管制措施也導(dǎo)致廠商從海外研究機(jī)構(gòu)回收數(shù)據(jù)到日本之際更加耗時。未來日本國內(nèi)就能使用EUV光刻機(jī)，就能減少管制帶來的阻礙。

荷蘭光刻機(jī)大廠ASML是唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商，不過生產(chǎn)芯片需要經(jīng)過超過600道制程，而光刻機(jī)只是其中一環(huán)，其他相關(guān)設(shè)備與材料的發(fā)展也至關(guān)重要。

編輯：芯智訊-浪客劍