又一家國產(chǎn)KrF光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗證

10月15日，“中國光谷”通過微信公眾號發(fā)布消息稱，武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗證，實現(xiàn)配方全自主設(shè)計，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。

據(jù)介紹，太紫微公司的這款光刻膠產(chǎn)品對標(biāo)國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)稱之為“妖膠”的國外同系列產(chǎn)品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好，通過驗證發(fā)現(xiàn)T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

眾所周知，光刻膠是半導(dǎo)體芯片制造過程中所必須的關(guān)鍵材料。由于目前光刻機(jī)曝光光源一共有六種，分別是紫外全譜（300～450nm）、 G 線（436nm）、 I 線（365nm）、深紫外（DUV，包括 248nm 和 193nm）和極紫外（EUV），相對應(yīng)于各曝光波長的光刻膠也應(yīng)運而生，對應(yīng)分別為，g 線光刻膠、i 線光刻膠、KrF光刻膠、 ArF光刻膠、EUV光刻膠。

從市場占有率來看，全球光刻膠市場主要被日本和美國廠商占據(jù)。根據(jù) TOK 和 Fujifilm 2020年的數(shù)據(jù)顯示：

g/i ：東京應(yīng)化占比 25.2%，陶氏杜邦占比 19.1%，住友化學(xué)占比 15.7%；

KrF：東京應(yīng)化占比 31.4%，信越化學(xué)占比 21.9%，合成橡膠占比 20.9%，陶氏杜邦占比 10.9%；

ArF：合成橡膠（JSR）占比24.9%，信越化學(xué)占比 21.8%，住友化學(xué)占比 16.8%，東京應(yīng)化占比15.8%；

EUV：東京應(yīng)化占比51.8%，另外合成橡膠（JSR）也有不小的份額。

雖然近年來，隨著國產(chǎn)半導(dǎo)體制造業(yè)務(wù)發(fā)展，國產(chǎn)光刻膠廠商也取得了一些突破，但是在中高端光刻膠市場仍是相對較弱。具體來說，低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠也是近兩年才有所突破，比如彤程新材、南大光電的ArF光刻膠都已有對外供貨。至于更高端的EUV光刻膠，由于美國的阻撓，國內(nèi)目前無法進(jìn)口EUV光刻機(jī)，因此國產(chǎn)EUV光刻膠的開發(fā)自然也無從談起。

資料顯示，太紫微公司成立于2024年5月，由華中科技大學(xué)武漢光電國家研究中心團(tuán)隊創(chuàng)立。團(tuán)隊立足于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)研發(fā)，在電子化學(xué)品領(lǐng)域深耕二十余載。

企業(yè)負(fù)責(zé)人、英國皇家化學(xué)會會員、華中科技大學(xué)教授朱明強(qiáng)表示：“以原材料的開發(fā)為起點，最終獲得具有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)，這只是個開始，我們團(tuán)隊還會發(fā)展一系列應(yīng)用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶來更多驚喜?！?/p>

△太紫微核心研發(fā)團(tuán)隊成員（前排左一為朱明強(qiáng)教授）

太紫微公司致力于半導(dǎo)體專用高端電子化學(xué)品材料的開發(fā)，并以新技術(shù)路線為半導(dǎo)體制造開辟新型先進(jìn)光刻制造技術(shù)，同時為材料的分析與驗證提供最全面的手段。

“無論是從國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規(guī)律展望未來，‘百家爭鳴’的局面已形成，光刻領(lǐng)域還會有很多新技術(shù)、新企業(yè)破繭成蝶，但擁有科技創(chuàng)新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問表示。

編輯：芯智訊-浪客劍