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碳化硅VS氮化鎵,寬禁帶半導(dǎo)體材料雙雄能否帶中國實現(xiàn)彎道超車?

作者: 時間:2019-02-11 來源:與非網(wǎng) 收藏
編者按:在現(xiàn)實世界中,沒有人可以和“半導(dǎo)體”撇清關(guān)系。雖然這個概念聽上去可能顯得有些冰冷,但是你每天用的電腦,手機(jī)以及電視等等,都會用到半導(dǎo)體元件。半導(dǎo)體的重要性自不必說,今天我們來說一下半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中一個很關(guān)鍵的組成部分,那就是半導(dǎo)體材料。

  我國彎道超車的機(jī)會來了?

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/201902/397437.htm

  雖然我國寬禁帶功率半導(dǎo)體創(chuàng)新發(fā)展的時機(jī)已經(jīng)逐步成熟,處于重要窗口期。然而目前行業(yè)面臨的困難仍然很多,一個產(chǎn)業(yè)的發(fā)展與兩個方面有關(guān):一個是技術(shù)層面,另一個重要問題就是產(chǎn)業(yè)的生態(tài)環(huán)境。

  目前國內(nèi)產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新鏈并沒有打通,整體創(chuàng)新環(huán)境較差。從事寬禁帶半導(dǎo)體研發(fā)的研究機(jī)構(gòu)、企業(yè)單體規(guī)模小,資金投入有限,研發(fā)創(chuàng)新速度慢,成果轉(zhuǎn)化困難。

  然而在寬禁半導(dǎo)體材料方面卻有比較樂觀的一面,中鎵半導(dǎo)體目前已建成國內(nèi)首家專業(yè)的GaN襯底材料生產(chǎn)線,制造出厚度達(dá)1100微米的自支撐GaN襯底,并能夠穩(wěn)定生產(chǎn)。2018年2月初,中鎵半導(dǎo)體襯底量產(chǎn)技術(shù)獲得重大突破,實現(xiàn)國內(nèi)首創(chuàng)4英寸GaN自支撐襯底的試量產(chǎn)。

  天域半導(dǎo)體是我國首家專業(yè)從事第三代半導(dǎo)體外延片研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè)。據(jù)悉,早在2010年,該公司就與中國科學(xué)院半導(dǎo)體所合作成立了“技術(shù)研究院”。目前,天域半導(dǎo)體可提供6英寸SiC晶圓,以及各種單極、雙極型SiC功率器件。

  風(fēng)華高科是一家專業(yè)從事新型元器件、電子材料、電子專用設(shè)備等電子信息基礎(chǔ)產(chǎn)品的高科技上市公司。

  第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,可以被廣泛應(yīng)用在各個領(lǐng)域,且具備眾多的優(yōu)良性能,可突破第一、二代半導(dǎo)體材料的發(fā)展瓶頸,故被市場看好的同時,隨著技術(shù)的發(fā)展有望全面取代第一、二代半導(dǎo)體材料。目前,美國、日本、歐洲在第三代半導(dǎo)體SiC、GaN、AlN等技術(shù)上擁有絕對的話語權(quán)。相比美、日,我國在第三半導(dǎo)體材料上的起步較晚,水平較低,但由于第三代半導(dǎo)體還有很大的發(fā)展空間,各國都處于發(fā)力階段,因此被視作一次彎道超車的機(jī)會。

  總結(jié)

  我國展開SiC、GaN材料和器件方面的研究工作比較晚,與國外相比水平比較低。但是隨著國家戰(zhàn)略層面支持力度的加大,且具有迫切的市場需求,因此我國將有望集中優(yōu)勢力量一舉實現(xiàn)技術(shù)突破!

  路漫漫其修遠(yuǎn)兮,吾將上下而求索。或許是概括這一行業(yè)的最好判語了。


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關(guān)鍵詞: 碳化硅 氮化鎵

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