耗時(shí)超四年迎曙光 國(guó)產(chǎn)光刻膠再迎重大進(jìn)展

繼中芯國(guó)際續(xù)單ASML光刻機(jī)后，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域再迎喜訊。

周一（8日）盤后，上海新陽(yáng)公告稱，經(jīng)各方積極協(xié)商、運(yùn)作，ASML-1400光刻機(jī)設(shè)備于今日已進(jìn)入合作方北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心（北京）有限公司場(chǎng)地，后續(xù)將進(jìn)行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。公司采購(gòu)的ASML干法光刻機(jī)設(shè)備順利交付，對(duì)加快193nm ArF干法光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)進(jìn)度有積極影響。

值得一提的是，天眼查顯示，合作方北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心（北京）有限公司大股東為芯鏈融創(chuàng)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展（北京）有限公司，后者由北京凱世通半導(dǎo)體有限公司在內(nèi)的26個(gè)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體優(yōu)質(zhì)公司共同出資組建。中芯國(guó)際、北京亦莊則占比各為25%并列為第二大股東。

立項(xiàng)4年屢遭挫折 國(guó)產(chǎn)替代浪潮下終現(xiàn)曙光

對(duì)于上海新陽(yáng)本身來(lái)說(shuō)，ASML干法光刻機(jī)設(shè)備順利交付意義非凡。公開(kāi)資料顯示，早在2016年底，上海新陽(yáng)即已立項(xiàng)研發(fā)193納米干法光刻膠，但在隨后的研發(fā)過(guò)程中進(jìn)展屢遭挫折。

2018年3月，上海新陽(yáng)和上海逸納共同出資設(shè)立芯刻微，從事193nm干法高端光刻膠產(chǎn)品的研究與產(chǎn)業(yè)化工作，但雙方于次年5月終止合作；同年12月，公司以自有資金投資江蘇博硯電子科技有限公司，持有博硯電子公司10%的股權(quán)，后者主要從事平板顯示產(chǎn)業(yè)用相關(guān)光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)。

2019年10月，上海新陽(yáng)啟動(dòng)合肥第二生產(chǎn)基地項(xiàng)目的建設(shè)。合肥基地占地115畝，總投資約6億元。按照部署，一期計(jì)劃投資3億元，占地50畝，達(dá)產(chǎn)后形成年產(chǎn)15000噸超純化學(xué)材料產(chǎn)品的生產(chǎn)能力。根據(jù)公司在定增公告中所說(shuō)，此次定增擬將部分資金投資于該項(xiàng)目。

進(jìn)入2020年，上海新陽(yáng)在該項(xiàng)目上的投入越發(fā)激進(jìn)。8月，公司公告擬定增募資不超15億元，其中7.32億元用于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目。主要開(kāi)發(fā)ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺(tái)階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品，力爭(zhēng)于2023年前實(shí)現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。

11月，公司再次公告擬向特定對(duì)象發(fā)行股票募集資金總額不超過(guò)14.5億元，其中8.15億元再投上述項(xiàng)目。若項(xiàng)目按計(jì)劃進(jìn)度進(jìn)行，預(yù)計(jì)KrF厚膜光刻膠2021年開(kāi)始實(shí)現(xiàn)少量銷售，2022年可實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，預(yù)計(jì)ArF（干式）光刻膠項(xiàng)目在2022年可實(shí)現(xiàn)少量銷售，2023年開(kāi)始量產(chǎn)，預(yù)計(jì)當(dāng)年各項(xiàng)產(chǎn)品銷售收入合計(jì)可達(dá)近2億元。

東吳證券分析師柴沁虎去年3月16日?qǐng)?bào)告曾指出，上海新陽(yáng)一直致力于進(jìn)行半導(dǎo)體用光刻膠的產(chǎn)業(yè)化，雖然中間走過(guò)一段彎路，但參股博硯電子后，可以有效借鑒博硯電子的成功經(jīng)驗(yàn)。同時(shí)，公司和博硯電子也有一定程度的產(chǎn)業(yè)協(xié)同，認(rèn)為公司是國(guó)內(nèi)最有可能率先在集成電路制造用高端光刻膠取得實(shí)質(zhì)性突破的企業(yè)。

阿斯麥關(guān)鍵設(shè)備“松綁” 國(guó)產(chǎn)高端光刻膠持續(xù)突破

去年以來(lái)，國(guó)產(chǎn)替代浪潮席卷半導(dǎo)體行業(yè)，而光刻膠作為半導(dǎo)體光刻工藝的核心材料，決定了半導(dǎo)體圖形工藝的精密程度和良率，成為了其中最受矚目的環(huán)節(jié)之一。

2020年12月17日，南大光電公告稱，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的193nm ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證，標(biāo)志國(guó)內(nèi)第一支通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠就此誕生，意味著長(zhǎng)期被國(guó)外壟斷的ArF光刻膠終于邁出了國(guó)產(chǎn)化的第一步。

據(jù)了解，按不同制程，半導(dǎo)體用光刻膠可分為EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠及G線、i線光刻膠，前三者均為高端光刻膠產(chǎn)品，產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù)顯示，截至2019年國(guó)內(nèi)在g線/i線光刻膠僅達(dá)到20%自給率，而KrF光刻膠自給率不足5%，ArF光刻膠則完全依賴進(jìn)口。

高端光刻膠國(guó)產(chǎn)替代艱難的背后，是其研發(fā)過(guò)程中對(duì)高端光刻機(jī)的嚴(yán)重依賴。由于在研發(fā)光刻膠的過(guò)程中需要有對(duì)應(yīng)光刻機(jī)的支持，規(guī)模量產(chǎn)后需要在光刻機(jī)上不斷調(diào)試。而先進(jìn)光刻機(jī)價(jià)格昂貴，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料公司難以承受，因而高端光刻膠基本被日本及歐美壟斷。

就在本月3日，中芯國(guó)際公告稱，與荷蘭光刻機(jī)制造商阿斯麥簽訂購(gòu)買單，金額達(dá)12.02億美元。另?yè)?jù)《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》1日獨(dú)家獲悉，為中芯國(guó)際提供高制程（14nm及以上）工藝部分產(chǎn)品所需設(shè)備的美國(guó)設(shè)備商，已獲美許可證。

對(duì)此，華金證券胡慧團(tuán)隊(duì)3月7日?qǐng)?bào)告認(rèn)為，中芯國(guó)際14nm及以上成熟制程禁令“松綁”，代表著我國(guó)大陸晶圓代工龍頭在成熟制程上的發(fā)展前景進(jìn)一步明朗，預(yù)期未來(lái)將有更多美國(guó)設(shè)備供應(yīng)商獲得供應(yīng)許可。

中金公司彭虎團(tuán)隊(duì)同日?qǐng)?bào)告也指出，半導(dǎo)體設(shè)備和材料是高端制造業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)，結(jié)合中芯國(guó)際潛在成熟制程獲取美國(guó)設(shè)備許可證，建議關(guān)注上游設(shè)備及原材料的機(jī)會(huì)。

另?yè)?jù)華泰證券胡劍團(tuán)隊(duì)2020年11月18日?qǐng)?bào)告，在半導(dǎo)體供應(yīng)鏈安全逐漸得到重視的背景下，國(guó)產(chǎn)光刻膠研發(fā)和量產(chǎn)或?qū)⑻崴?，?guó)內(nèi)廠商紛紛計(jì)劃在被日美壟斷的半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域擴(kuò)大投入，并在高端ArF光刻膠領(lǐng)域研發(fā)和量產(chǎn)持續(xù)突破。