用直流或直、交流疊加電源的硬質(zhì)陽極氧化處理技術(shù)要求

硬質(zhì)陽極氧化處理采用直流電源或直流和交流疊加電源。其溶液種類也較多，以采用硫酸硬質(zhì)陽極氧化處理較普遍。

采用硫酸硬質(zhì)陽極氧化法時(shí)，應(yīng)考慮影響氧化膜層的各因素。

(1)硫酸氧化處理的濃度：常采用200～250g／L，槽液的相對密度(室溫下)為1．12～1．15。

(2)水：水是硬質(zhì)陽極氧化處理的主要成分，一般采用蒸餾水或冷開水，而不用自來水，因?yàn)樽詠硭泻新入x子，當(dāng)Cl一>1％時(shí)，其制件在氧化過程中就會腐蝕，并出現(xiàn)白斑。

(3)氧化處理的溫度：溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一。嚴(yán)格控制溫度，其氧化膜增厚，硬度提高且光滑、致密。

(4)電流密度：電流也是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一，它與氧化膜的生成速度、氧化膜的組織有較大關(guān)系。電流密度過低時(shí)，氧化膜的生成速度緩慢，處理時(shí)間增加；反之，過高時(shí)，會導(dǎo)致溶液和電極因焦耳效應(yīng)而過熱，使氧化膜溶解速度增加，硬度下降，表面粗糙、疏松起粉。

(5)初始電壓與處理時(shí)間：硬質(zhì)陽極氧化處理的初始電壓與時(shí)間對氧化膜質(zhì)量的影響也是很大的。初始的電壓過大，會導(dǎo)致電流的增加，焦耳熱和生成熱劇增，促使溶解速度猛增，氧化膜則軟，無光澤，起粉，不耐磨。

對于氧化處理時(shí)間，一般是隨著氧化處理時(shí)間的延長，氧化膜厚度增加，但到一定時(shí)間后，若不增加外加電壓，氧化膜實(shí)際不增加。如果繼續(xù)延長時(shí)間，則氧化膜硬度低，疏松起粉。相反，氧化處理時(shí)間太短，氧化膜厚度薄且不耐磨。

(6)氧化處理溶液的攪拌：攪拌速度大小與氧化膜生成速度(氧化膜質(zhì)量)有關(guān)。