新聞中心

EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 硅設計鏈廠商通力合作降低90納米芯片總功耗

硅設計鏈廠商通力合作降低90納米芯片總功耗

作者:eaw 時間:2005-04-20 來源:eaw 收藏
(Silicon Design Chain Initiative)的半導體工業(yè)領導廠商宣布,經(jīng)流片驗證的低功耗90納米芯片設計技術可使芯片的總功耗降低40%。
該低功耗設計采用了多個廠商的先進技術:ARM1136JF-S™測試芯片,ARM® Artisan®標準設計單元庫和存儲單元,Cadence Encounter™設計平臺和TSMC的Reference Flow 5.0。參加硅設計鏈協(xié)作組織的公司有:應用材料Applied Materials, Inc. (納斯達克:AMAT) ,ARM [(倫敦證交所: ARM) ; (納斯達克: ARMHY)], Cadence 設計系統(tǒng)公司 (紐約證交所:CDN) (納斯達克:CDN)和臺積電(TSMC) (臺灣證交所: 2330,納斯達克: TSM)。
TSMC公司的芯片設計服務營銷部的高級總監(jiān)Edward Wan指出:“業(yè)界領先廠商首次聯(lián)合起來,成功地對低功耗技術進行流片驗證。這將大大提高90納米工藝技術的市場占有率。這個項目展示了領先廠商戰(zhàn)略性合作的巨大力量,也充分展示了各自的技術產(chǎn)品?!?br/>于主流的芯片設計商來說,要想取得高效的低功耗設計策略非常困難,因為這需要IP供應商、EDA廠商、制造設備供應商和獨立的芯片代工廠等半導體芯片設計鏈的諸多廠商的共同努力。由Applied Materials、ARM、Artisan Components(現(xiàn)為ARM的一個子公司)、Cadence和TSMC聯(lián)合成立的(Silicon Design Chain Initiative)致力于提供經(jīng)過驗證的設計流程,以解決業(yè)界最為棘手的納米級設計問題。Silicon Design Chain集結了各個公司的專業(yè)優(yōu)勢,將模型、設計和分析工具、IP以至硅片產(chǎn)品,可為客戶提供經(jīng)過驗證的從設計到批量生產(chǎn)的開發(fā)方案。


評論


技術專區(qū)

關閉