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Qorvo 新款GaN 50V 晶體管可大幅提升系統(tǒng)功率性能

  •   移動(dòng)應(yīng)用、基礎(chǔ)設(shè)施與航空航天、國(guó)防等應(yīng)用中領(lǐng)先的RF解決方案供應(yīng)商Qorvo, Inc.今日宣布,推出六款全新50V氮化鎵(GaN)晶體管---QPD1009和QPD1010,以及QPD1008(L)和QPD1015(L),專門(mén)設(shè)計(jì)用于優(yōu)化商業(yè)用雷達(dá)、通信系統(tǒng)及航空電子應(yīng)用的功率性能。   Qorvo 國(guó)防與航空航天產(chǎn)品總經(jīng)理Roger Hall表示:“全新50V GaN晶體管系列通過(guò)提供更高功率增益和功率附加效率來(lái)提升系統(tǒng)性能。Qorvo可以更好地實(shí)現(xiàn)相位陣列雷達(dá)等先進(jìn)設(shè)備的要求,提供
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基于GaN FET的CCM圖騰柱無(wú)橋PFC

  •   氮化鎵 (GaN) 技術(shù)由于其出色的開(kāi)關(guān)特性和不斷提升的品質(zhì),近期逐漸得到了電力轉(zhuǎn)換應(yīng)用的青睞。具有低寄生電容和零反向恢復(fù)的安全GaN可實(shí)現(xiàn)更高的開(kāi)關(guān)頻率和效率,從而為全新應(yīng)用和拓?fù)溥x項(xiàng)打開(kāi)了大門(mén)。連續(xù)傳導(dǎo)模式 (CCM)圖騰柱PFC就是一個(gè)得益于GaN優(yōu)點(diǎn)的拓?fù)?。與通常使用的雙升壓無(wú)橋PFC拓?fù)湎啾龋珻CM圖騰柱無(wú)橋PFC能夠使半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)和升壓電感器的數(shù)量減半,同時(shí)又能將峰值效率推升到95%以上。本文分析了AC交叉區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)電流尖峰的根本原因,并給出了相應(yīng)的解決方案。一個(gè)750W圖騰柱PFC原型機(jī)被
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TI的600V GaN FET功率級(jí)革命性地提升高性能電力轉(zhuǎn)換效能

  •   基于數(shù)十年的電源管理創(chuàng)新經(jīng)驗(yàn),德州儀器(TI)近日宣布推出一款600V氮化鎵(GaN)70 mù場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)功率級(jí)工程樣片,從而使TI成為首家,也是唯一一家能夠向公眾提供集成有高壓驅(qū)動(dòng)器的GaN解決方案的半導(dǎo)體廠商。與基于硅材料FET的解決方案相比,這款全新的12A LMG3410功率級(jí)與TI的模擬與數(shù)字電力轉(zhuǎn)換控制器組合在一起,能使設(shè)計(jì)人員創(chuàng)造出尺寸更小、效率更高并且性能更佳的設(shè)計(jì)。而這些優(yōu)勢(shì)在隔離式高壓工業(yè)、電信、企業(yè)計(jì)算和可再生能源應(yīng)用中都特別重要。如需了解更多信息
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安森美半導(dǎo)體推進(jìn)更快、更智能和更高能效的GaN晶體管

  •   氮化鎵(GaN)是一種新興的半導(dǎo)體工藝技術(shù),提供超越硅的多種優(yōu)勢(shì),被稱為第三代半導(dǎo)體材料,用于電源系統(tǒng)的設(shè)計(jì)如功率因數(shù)校正(PFC)、軟開(kāi)關(guān)DC-DC、各種終端應(yīng)用如電源適配器、光伏逆變器或太陽(yáng)能逆變器、服務(wù)器及通信電源等,可實(shí)現(xiàn)硅器件難以達(dá)到的更高電源轉(zhuǎn)換效率和更高的功率密度水平,為開(kāi)關(guān)電源和其它在能效及功率密度至關(guān)重要的應(yīng)用帶來(lái)性能飛躍?! aN的優(yōu)勢(shì)  從表1可見(jiàn),GaN具備出色的擊穿能力、更高的電子密度及速度,和更高的工作溫度。GaN提供高電子遷移率,這意味著開(kāi)關(guān)過(guò)程的反向恢復(fù)時(shí)間可忽略不計(jì)
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【E問(wèn)E答】MOS管為什么會(huì)被靜電擊穿?

  •   MOS管一個(gè)ESD敏感器件,它本身的輸入電阻很高,而柵-源極間電容又非常小,所以極易受外界電磁場(chǎng)或靜電的感應(yīng)而帶電(少量電荷就可能在極間電容上形成相當(dāng)高的電壓(想想U(xiǎn)=Q/C)將管子損壞),又因在靜電較強(qiáng)的場(chǎng)合難于泄放電荷,容易引起靜電擊穿。靜電擊穿有兩種方式:一是電壓型,即柵極的薄氧化層發(fā)生擊穿,形成針孔,使柵極和源極間短路,或者使柵極和漏極間短路;二是功率型,即金屬化薄膜鋁條被熔斷,造成柵極開(kāi)路或者是源極開(kāi)路。JFET管和MOS管一樣,有很高的輸入電阻,只是MOS管的輸入電阻更高?! §o電放電形成
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一種簡(jiǎn)單的防短路的保護(hù)方法

  •   前段時(shí)間開(kāi)發(fā)了一個(gè)產(chǎn)品,由單片機(jī)控制對(duì)負(fù)載供電,滿負(fù)載時(shí)基準(zhǔn)電流為800毫安,程序提供不同的供電模式,具體是由單片機(jī)輸出一個(gè)PWM信號(hào)控制MOS管,從而按要求調(diào)整工作電流。我們知道MOS管導(dǎo)通時(shí)內(nèi)阻非常小,我們所用的型號(hào)約為0.1歐姆的樣子,這樣正常工作時(shí)上面最大壓降非常小,只有800毫安*0.1歐姆=0.08伏,上面的功率損耗為0.064瓦,對(duì)于電源控制來(lái)說(shuō)是一種效果不錯(cuò)的器件?! ‰m然MOS管導(dǎo)通內(nèi)阻非常小,但所流過(guò)的電流也有最大限制,如果電流過(guò)大,比如外接負(fù)載短路,同樣會(huì)被燒毀。短路都是非正常工
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場(chǎng)效應(yīng)晶體管的幾點(diǎn)使用知識(shí)

  •   我們常接觸到晶體三級(jí)管,對(duì)它的使用也比較熟悉,相對(duì)來(lái)說(shuō)對(duì)晶體場(chǎng)效應(yīng)管就陌生一點(diǎn),但是,由于場(chǎng)效應(yīng)管有其獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn),例輸入阻抗高,噪聲低,熱穩(wěn)定性好等,在我們的使用中也是屢見(jiàn)不鮮。我們知道場(chǎng)效應(yīng)晶體管的種類很多,根據(jù)結(jié)構(gòu)不同分為結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管和絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管;絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管又稱為金屬氧化物導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管,或簡(jiǎn)稱MOS場(chǎng)效應(yīng)管.  1、如何防止絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管擊穿  由于絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管的輸入阻抗非常高,這本來(lái)是它的優(yōu)點(diǎn),但在使用上卻帶來(lái)新的問(wèn)題.由于輸入阻抗高,當(dāng)帶電荷物體一旦靠近柵極時(shí),在柵極感應(yīng)出來(lái)的
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英國(guó)專家用半極性GaN生長(zhǎng)高效益LED

  •   英國(guó)雪菲爾大學(xué)(SheffieldUniversity)的一支研究團(tuán)隊(duì)最近在《應(yīng)用物理學(xué)快報(bào)》(AppliedPhysicsLetter)期刊上發(fā)布在半極性氮化鎵(GaN)或藍(lán)寶石基材上生長(zhǎng)LED的最新成果。   利用在M-Plane藍(lán)寶石基板上生長(zhǎng)的GaN制造的微柱陣列模板,研究人員能在其上過(guò)度生長(zhǎng)的半極性GaN(11-22)上生長(zhǎng)出具有更高量子效益的LED。   相較于在C-Plane藍(lán)寶石基板上生長(zhǎng)的商用LED,該研究團(tuán)隊(duì)在半極性材料上所生長(zhǎng)的綠光LED顯示發(fā)光波長(zhǎng)的藍(lán)位移隨著驅(qū)動(dòng)電流增加而
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英國(guó)專家用半極性GaN生長(zhǎng)高效益LED

  •   英國(guó)雪菲爾大學(xué)(Sheffield University)的一支研究團(tuán)隊(duì)最近在《應(yīng)用物理學(xué)快報(bào)》(Applied Physics Letter)期刊上發(fā)布在半極性氮化鎵(GaN)或藍(lán)寶石基材上生長(zhǎng)LED的最新成果?! ±迷贛-Plane藍(lán)寶石基板上生長(zhǎng)的GaN制造的微柱陣列模板,研究人員能在其上過(guò)度生長(zhǎng)的半極性GaN(11-22)上生長(zhǎng)出具有更高量子效益的LED?! ∠噍^于在C-Plane藍(lán)寶石基板上生長(zhǎng)的商用LED,該研究團(tuán)隊(duì)在半極性材料上所生長(zhǎng)的綠光LED顯示發(fā)光波
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波音和通用實(shí)驗(yàn)室研發(fā)出GaN CMOS場(chǎng)效應(yīng)晶體管

  •   由美國(guó)波音公司和通用汽車(chē)公司擁有的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室-HRL實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)宣布其實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)FET技術(shù)的首次展示。該研究結(jié)果發(fā)表于2016年1月6日的inieee電子器件快報(bào)上。   在此過(guò)程中,該實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)確定半導(dǎo)體的卓越晶體管性能可以在集成電路中加以利用。這一突破為氮化鎵成為目前以硅為原材料的電源轉(zhuǎn)換電路的備選技術(shù)鋪平了道路。   氮化鎵晶體管在電源開(kāi)關(guān)和微波/毫米波應(yīng)用中有出色的表現(xiàn),但該潛力還未用于集成功率轉(zhuǎn)換。“除非快速切換GaN功率晶體管在電源電路中故意放緩,否
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新型GaN功率器件的市場(chǎng)應(yīng)用趨勢(shì)

  •   第五屆EEVIA年度中國(guó)ICT媒體論壇暨2016產(chǎn)業(yè)和技術(shù)展望研討會(huì)  時(shí)間:2016.01.14 下午  地點(diǎn):深圳南山軟件創(chuàng)業(yè)基地 IC咖啡  演講主題: 新型GaN功率器件的市場(chǎng)應(yīng)用趨勢(shì)  演講嘉賓: 蔡振宇 富士通電子元器件市場(chǎng)部高級(jí)經(jīng)理  主持人:接下來(lái)開(kāi)始第三場(chǎng)演講。大家知道無(wú)論消費(fèi)電子產(chǎn)品還是通訊硬件、電動(dòng)車(chē)以及家用電器,提升電源的轉(zhuǎn)換能效、功率密度、延長(zhǎng)電池使用的時(shí)間,這已經(jīng)是比較大的挑戰(zhàn)了。所有這一切都意味著電子產(chǎn)業(yè)會(huì)越來(lái)越依賴新型功
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物聯(lián)網(wǎng)將如何影響半導(dǎo)體芯片廠商?

  • 未來(lái)虛擬現(xiàn)實(shí)和智能汽車(chē)成為焦點(diǎn),VR將會(huì)引發(fā)的變革成了全產(chǎn)業(yè)鏈熱議的話題,VR也必會(huì)給物聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)業(yè)帶來(lái)變革,而對(duì)于IoT可能帶來(lái)的更多變化,半導(dǎo)體廠商該如何應(yīng)對(duì)?
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第三代半導(dǎo)體崛起 中國(guó)照明能否彎道超車(chē)?

  •   近年,以氮化鎵(GaN)、碳化硅(SiC)等寬禁帶化合物為代表的第三代半導(dǎo)體材料在引發(fā)全球矚目,成為全球半導(dǎo)體研究前沿和熱點(diǎn),中國(guó)也不例外地快馬加鞭進(jìn)行部署。有專家指出,第三代半導(dǎo)體材料是以低碳和智能為特征的現(xiàn)代人類信息化社會(huì)發(fā)展的基石,是推動(dòng)節(jié)能減排、轉(zhuǎn)變經(jīng)濟(jì)發(fā)展方式,提升新一代信息技術(shù)核心競(jìng)爭(zhēng)力的決定性因素之一,有著不可替代的支撐作用。那么,這一迅速崛起的第三代半導(dǎo)體材料,能否讓中國(guó)掌控新一輪半導(dǎo)體照明發(fā)展的話語(yǔ)權(quán)?        第三代半導(dǎo)體材料雙雄:SiC和GaN   半
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深度分析MOS場(chǎng)效應(yīng)管在消費(fèi)類電子中的電路設(shè)計(jì)

  •   當(dāng)我們還是學(xué)生的時(shí)候,不論從做題還是原理分析上,通常會(huì)重點(diǎn)學(xué)習(xí)NPN和PNP三極管的特性:靜態(tài)工作特性計(jì)算、動(dòng)態(tài)信號(hào)分析等等。對(duì)于MOS管,老師一般都會(huì)草草帶過(guò),沒(méi)有那么深入的分析和了解,一般都會(huì)說(shuō)MOS管和三極管的不同就是一個(gè)是電壓控制,一個(gè)是電流控制,一個(gè)Ri大,一個(gè)Ri小等等。除了這些明顯的特性,下文就從工作實(shí)戰(zhàn)的角度進(jìn)行MOS場(chǎng)效應(yīng)管的分析。  首先我們來(lái)看下經(jīng)常使用的增強(qiáng)型mos場(chǎng)效應(yīng)管:N溝道和P溝道m(xù)os場(chǎng)效應(yīng)管?! ≡谙M(fèi)類電子設(shè)計(jì)中由于對(duì)功耗要求比較嚴(yán)格,通常使用N溝道和P溝道MOS
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Bulk Si技術(shù)近極限,功率半導(dǎo)體大廠加速投入GaN、SiC開(kāi)發(fā)

  •   DIGITIMES Research觀察,傳統(tǒng)以塊體矽(Bulk Si)材料為基礎(chǔ)的功率半導(dǎo)體逐漸難提升其技術(shù)表現(xiàn),業(yè)界逐漸改以新材料尋求突破,其中氮化鎵(GaN)、碳化矽(SiC)材料技術(shù)最受矚目,氮化鎵具有更高的切換頻率,碳化矽則能承受更高溫、更大電流與電壓,而原有的矽材仍有成本優(yōu)勢(shì),預(yù)計(jì)未來(lái)功率半導(dǎo)體市場(chǎng)將三分天下。   更高的耐受溫度、電壓,或更高的切換頻率、運(yùn)作頻率,分別適用在不同的應(yīng)用,對(duì)于電動(dòng)車(chē)、油電混合車(chē)、電氣化鐵路而言需要更高電壓,對(duì)于新一代的行動(dòng)通訊基地臺(tái),或資料中心機(jī)房設(shè)備而言
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gan mos driver介紹

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