莫大康：做好自己的事提升競爭實(shí)力縮小差距

現(xiàn)階段中國半導(dǎo)體業(yè)最主要的任務(wù)是爭取時間，做好自己的事，努力提升競爭實(shí)力，及實(shí)現(xiàn)縮小差距。要充分認(rèn)識這樣的發(fā)展機(jī)遇已是來之不易。

顯然對于大部分企業(yè)能生存下來是首位，但是對于部分骨干企業(yè)一定要站得更高，同時責(zé)無旁貸的承擔(dān)起中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的責(zé)任。

  為什么選擇四項(xiàng)任務(wù)  

擺在中國半導(dǎo)體業(yè)面前要做的事太多，不可能全面鋪開，需要集中有限的人力，財(cái)力去攻堅(jiān)克難，據(jù)初步分析，現(xiàn)在階段可能有四項(xiàng)主要的任務(wù)，包括存儲器與中芯國際的先進(jìn)邏輯工藝制程14納米及以下，以及EDA工具與IP，及 28納米“去美化”生產(chǎn)線。

顯然此四項(xiàng)任務(wù)相對說比較緊迫，其中前兩項(xiàng)屬于近期的任務(wù)，而另外兩項(xiàng)屬于遠(yuǎn)期的目標(biāo)。因?yàn)?8納米去美化生產(chǎn)線，包括半導(dǎo)體設(shè)備與材料國產(chǎn)化等，以及EDA工具與IP，都是涉及產(chǎn)業(yè)鏈的提升，難度大，需要較長時間的逐步推進(jìn)。

所以并不是如設(shè)計(jì)、先進(jìn)封裝、異質(zhì)集成等項(xiàng)目不夠重要，而是相對而言這四項(xiàng)任務(wù)更為迫切。

存儲器項(xiàng)目

存儲器項(xiàng)目有兩個，分別是武漢的長江的3ＤNAND閃存及合肥的長鑫的DRAM。它們都自2016年動工，已經(jīng)都完成產(chǎn)品通線，進(jìn)入產(chǎn)能擴(kuò)充階段，也就是最關(guān)鍵的考驗(yàn)技術(shù)上真正過關(guān)，成品率的提升，及產(chǎn)品的性能及成本比拼的階段，關(guān)鍵指標(biāo)是全球市場的份額。

中國每年進(jìn)口半導(dǎo)體達(dá)3,000億美元，其中存儲器約占26%，為780億美元，雖然項(xiàng)目都已經(jīng)進(jìn)行5年多，可是自制率低于1%。

據(jù)IC Insight預(yù)測，全球存儲器業(yè)2021年可達(dá)1552億美元，其中DRAM為869億美元及NAND為667億美元，而中國臺灣地區(qū)存儲器業(yè)經(jīng)過多次震蕩，它的DRAM約占全球的5%，及它的NAND做得很少。而長江及長鑫它們在2020年時產(chǎn)能已分別達(dá)約月產(chǎn)約40,000片。所以需要技術(shù)上突破，提高成品率后，才能擴(kuò)充更多的產(chǎn)能，相對而言DRAM的難度可能更大些。

14納米及以下邏輯制程

中芯國際是芯片制造業(yè)的領(lǐng)頭羊，近時期由于引進(jìn)人材及加大研發(fā)投入及投資取得顯著的進(jìn)步。它的28納米已列入營收， 據(jù)傳聞中芯國際已經(jīng)實(shí)現(xiàn)14納米量產(chǎn)，開始接單，并正努力攻克更先進(jìn)的工藝制程。顯然工藝制程的逐步升級，需要大量的硅片實(shí)踐，不可能一蹴而成。

中芯國際推進(jìn)邏輯工藝制程不斷的進(jìn)步意義非常重要，一個方面是縮小與臺積電等的差距，滿足手機(jī)處理器，HPC，F(xiàn)PGA，AI等市場需求，而另一方面更為現(xiàn)實(shí)的作用，它要支撐國內(nèi)EDA工具與IP的進(jìn)程，以及支持半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化的“試錯過程”。要清楚如果缺乏“試錯“，設(shè)備的國產(chǎn)化是不可能實(shí)現(xiàn)，同樣缺乏設(shè)備的支撐，先進(jìn)工藝制程也是無望，兩者之間是相輔相成。所以從產(chǎn)業(yè)鏈角度需要保持工藝制程與國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)的同步成長。也是產(chǎn)業(yè)鏈進(jìn)步的重要標(biāo)志。

所以中芯國際在推動28納米成熟工藝制程的同時，一定要加強(qiáng)研發(fā)投入，不停步地繼續(xù)向先進(jìn)工藝制程挺進(jìn)，承擔(dān)不可缺失的產(chǎn)業(yè)發(fā)展與進(jìn)步的責(zé)任。要相信辦法總比困難多。

EDA工具與IP

2019年全球EDA市場規(guī)模約為102.5億美元。而中國2019年中國EDA市場規(guī)模約為5.8億美元，占全球市場的5.6%。

而在這102.5億美元的市場中，國產(chǎn)EDA只拿到了4.2億元的營收，營收比例只占0.6%。但是好的消息是目前在國內(nèi)EDA使用中，EDA的國產(chǎn)化率可能已達(dá)到了10%。

另外國內(nèi)EDA從業(yè)人員約有1500人，但只有500人是在本土的EDA公司工作，其余的1000人，其實(shí)是在國外EDA公司駐中國的公司工作。

EDA工具及IP需要與工藝制程相結(jié)合，因?yàn)樵O(shè)計(jì)公司需要EDA工具能夠支持晶圓廠的PDK（process design kit）工藝，否則它不敢用你的工具做設(shè)計(jì)，因?yàn)橐坏┰O(shè)計(jì)出來的產(chǎn)品不符合晶圓廠工藝的需要，造成的損失是不可估量的；另一方面，EDA工具需要晶園廠做評估認(rèn)證，相當(dāng)于半導(dǎo)體設(shè)備的樣機(jī)要經(jīng)過”試錯”的過程，所以EDA工具與IP必須與工藝制程同步成長與進(jìn)步。

國內(nèi)的EDA的尚屬啟步，差距尚很大，一個方面產(chǎn)業(yè)的壟斷，它的技術(shù)要求沉淀，人材要求高，而且?guī)缀跻研纬梢?guī)律，只要在全球市場中剛冒出有些實(shí)力的初創(chuàng)公司，馬上會受到巨頭公司的兼并，因此新興力量幾乎很難崛起。

所以觀察中國的EDA業(yè)，在缺乏全球化的支撐下，僅依靠國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈的配套，試圖取得全球化市場的成功幾乎是不可能的。

28納米“去美化”生產(chǎn)線

這是一項(xiàng)被逼無夵下的決策，其中的問題比較復(fù)雜，不是簡單地把“去美化”理解成少用幾臺從美國生產(chǎn)的設(shè)備，這樣實(shí)際上的意義并不大。而按我的預(yù)設(shè)是把“去美化”要變成能夠自主，或者很大程度上可以自主可控的芯片生產(chǎn)線。因此主要矛盾是設(shè)備與材料的部分國產(chǎn)化，顯然更為確切的含義應(yīng)該是能夠打破美國的禁運(yùn)。所以在這樣的框架下，問題變得十分復(fù)雜與艱巨，可能要分步進(jìn)行。

“去美化“的定義與內(nèi)含，實(shí)際上可以有不同的解釋，因?yàn)槊绹陌雽?dǎo)體設(shè)備出口許可證制度，主導(dǎo)權(quán)在美方手中。另外從日本，歐洲，中國臺灣地區(qū)等能不能買到設(shè)備，主導(dǎo)權(quán)也在別人手中，加上現(xiàn)階段12英寸國產(chǎn)設(shè)備有多少可以加入其中配套，以及它們的量產(chǎn)能力等，唯有通過生產(chǎn)線中大量硅片的實(shí)踐通過，才能暴露問題，然后再改進(jìn)與提高，缺少這樣的過程也是不可能成功的。再加上美國的政策時緊時松，它削弱了國產(chǎn)化的前進(jìn)動力。

另外，國產(chǎn)化的概念不可“泛化”，它的技術(shù)難度及風(fēng)險(xiǎn)都很大，但是現(xiàn)在的情況下又不得不為之，因此必須精心選擇。未來中國半導(dǎo)體業(yè)的發(fā)展中，如果不能破除美國的“緊箍咒“以及擁抱全球化，產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步是不可持續(xù)，及將永受欺凌之災(zāi)。

設(shè)想的“去美化“28納米生產(chǎn)線，它的重點(diǎn)可能不僅在工藝制程方面，而在于能滿足芯片量產(chǎn)的需求。它的目的至少有以下叁個方面：

1），半導(dǎo)體設(shè)備與材料等通過試錯，不斷地提高實(shí)用化程度2），假設(shè)在美國的極端打壓下，這條12英寸生產(chǎn)線還能生存下去。3），這條生產(chǎn)線的成長與完善過程尤為重要，因?yàn)橹袊雽?dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的競爭力提升，涉及國家的工業(yè)基礎(chǔ)及人材培養(yǎng)等。

  結(jié)語  

中國半導(dǎo)體業(yè)發(fā)展有其特殊性，現(xiàn)階段外界的干擾因素多，要付出更多的時間及代價。但是又必須去面對現(xiàn)實(shí)，要把美國等打壓當(dāng)作常態(tài)化，是一門必修課，并且必須挺起腰桿繼續(xù)走下去。

四項(xiàng)任務(wù)中存儲器及先進(jìn)邏輯工藝制程要提高到產(chǎn)業(yè)發(fā)展責(zé)任高度，集中優(yōu)勢兵力解決技術(shù)上的難點(diǎn)，另外兩項(xiàng)涉及艱巨的產(chǎn)業(yè)鏈任務(wù)，攻堅(jiān)的難度大，需要時間長。但是沒有退路。

現(xiàn)階段中國半導(dǎo)體業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵要爭取時間，做好自已的事，提升競爭實(shí)力，及逐漸縮小差距。

注；文章代表個人觀點(diǎn)，僅供參考