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Synopsys推出下一代布局布線解決方案

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作者: 時(shí)間:2007-04-19 來(lái)源:EEPW 收藏
發(fā)布了解決方案——IC Complier 2007.03版。該版本運(yùn)行時(shí)間更快、容量更大、多角/多模優(yōu)化(MCMM)更加智能、而且具有改進(jìn)的可預(yù)測(cè)性,可顯著提高設(shè)計(jì)人員的生產(chǎn)效率。

同時(shí),新版本還推出了支持正在興起的45納米技術(shù)的物理設(shè)計(jì)。目前,有近百個(gè)采用IC Compiler的客戶設(shè)計(jì)正在進(jìn)行中,訂單金額超過(guò)一億美元。IC Compiler正成為越來(lái)越多市場(chǎng)領(lǐng)先的IC設(shè)計(jì)公司在各種應(yīng)用和廣泛硅技術(shù)中的理想選擇。2007.03 版的重大技術(shù)創(chuàng)新將為加速其廣泛應(yīng)用起到重要作用。

設(shè)計(jì)產(chǎn)品集團(tuán)高級(jí)副總裁兼總經(jīng)理Antun Domic 表示:“2007.03版是至今為止IC Compiler最重要的版本,將給數(shù)量龐大的用戶群帶來(lái)前所未有的優(yōu)勢(shì)。該版本提供先進(jìn)的核心技術(shù),能夠使用戶在整個(gè)板設(shè)計(jì)中獲益,同時(shí),通過(guò)提高M(jìn)CMM優(yōu)化和簽核驅(qū)動(dòng)時(shí)序收斂等主要功能的自動(dòng)化水平,提高生產(chǎn)效率?!?

IC Compiler 2007.03引入了用于快速運(yùn)行模式的新技術(shù),在保證原有質(zhì)量的情況下使運(yùn)行時(shí)間縮短了35%。新技術(shù)將16 Gb平臺(tái)的  
容量增加到接近1,000萬(wàn)門,有助于用戶實(shí)現(xiàn)更大的模塊劃分。該版增加了集成的、層次化的設(shè)計(jì)規(guī)劃的早期介入,有助于用戶高效處理一億門級(jí)的設(shè)計(jì)。提高生產(chǎn)能效的另一個(gè)關(guān)鍵在于物理可行性流程,它能夠使用戶迅速生成和分析多次試驗(yàn)布局,以確定具體實(shí)現(xiàn)的最佳起始值。

IC Compiler 2007.03為高級(jí)設(shè)計(jì)引入了自適應(yīng)性MCMM優(yōu)化技術(shù),能夠在保持精度水平相同的情況下,實(shí)現(xiàn)更快的運(yùn)行速度、更小的內(nèi)存需求。IC Compiler為設(shè)計(jì)提供了多角/多模,實(shí)現(xiàn)了真正的并行優(yōu)化,這對(duì)高級(jí)用戶而言是一種巨大的優(yōu)勢(shì)。這些用戶不能承受其他工具連續(xù)優(yōu)化對(duì)時(shí)序安排的影響,或接受低精度技術(shù)融合。高級(jí)設(shè)計(jì)也可受益于目前已經(jīng)提供的IC Compiler簽核驅(qū)動(dòng)時(shí)序收斂。

對(duì)于新興的45納米設(shè)計(jì),IC Compiler 2007.03可為前沿用戶提供45納米布局及布線設(shè)計(jì)規(guī)則早期支持,并滿足光刻和與化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)有關(guān)的金屬一致性的需求。目前,正在與全球主要半導(dǎo)體廠商合作,為45納米設(shè)計(jì)的采用提供生產(chǎn)支持。與90納米和65納米設(shè)計(jì)一樣,Synopsys的物理部署解決方案率先啟動(dòng)了45納米的流片。

IC Compiler 2007.03版即將出貨。


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