65nm工藝：臺積電宣布工藝和制造展望

    臺灣的半導(dǎo)體廠臺積電在San Jose開的會議上宣傳他們的65nm工藝，說第一塊晶元會在今年11月份生產(chǎn)出來。 

    臺積電說FPGA廠商Altera和其他一些客戶已經(jīng)提出了65nm的設(shè)計和原型，這些設(shè)計方案將在今年下半年提交給臺積電。他們稱65nm工藝比之90nm用在在SOC上面可以提高兩倍的器件密度。 

    臺積電的第一代65nm技術(shù)叫Nexsys，將在11月份開始生產(chǎn)，它對低功耗進行了優(yōu)化，在2006年將有另一個高速的技術(shù)，到2006年年底將出現(xiàn)一般的65nm工藝。2007年還將推出一個SOI版本和一個超高速版本。據(jù)說Nexsys比90nm工藝提高50%速度，降低20%功耗。65nm工藝將包含strained silicon和nickel silicide，并且是臺積電的第三代low-k工藝，第四代銅互連工藝。而且可能是臺積電第一代使用immersion lithography的工藝。 

    另外有消息說臺積電正在進行80nm的過渡工藝，這是對90nm的改進，并且有普通的，高速的，低功耗的等版本。之前臺積電也有對130nm的改進，即110nm工藝。還有關(guān)于臺積電45nm工藝的消息，說在2008年會出現(xiàn)這樣的工藝。45nm工藝將使用銅互連，ultra low-k和immersion lithography。發(fā)言人認為high-k技術(shù)在45nm工藝上還不能使用。 

    臺積電說他們在2004年的成績是全球第二大半導(dǎo)體廠商，落后于Intel，不過領(lǐng)先于三星。臺積電的消息真多，他們在開一個會議。從這些消息可以看出工藝的大致發(fā)展路線圖。