提升產業(yè)鏈競爭力 中國掩模版邁向高世代

　　發(fā)展TFT-LCD掩模版產品，不僅能帶動多項相關產業(yè)的發(fā)展，形成較為完整的產業(yè)鏈，而且可打破國外壟斷局面，提高國產化配套能力，全面提升整機產品的品質和性能，大幅度降低整機制造成本，對推進我國液晶顯示產業(yè)技術發(fā)展及終端應用產品的技術進步具有積極意義。

　　中國企業(yè)已掌握核心技術

　　TFT-LCD用掩模版也稱光罩或MASK，是TFT-LCD制造過程中的圖形轉移工具或母版，它用于下游面板行業(yè)批量復制生產，主要應用于TFT-LCD黃光段陣列及彩色濾光片的曝光工藝。

　　清溢光電通過自主技術創(chuàng)新和體制創(chuàng)新，現已掌握第7代及第7代以下TFT-LCD用掩模版的10大核心技術，現正在規(guī)劃購進和自研相關設備，建設第8代及以下掩模版生產線，為國內TFT-LCD產業(yè)的發(fā)展同步配套。

　　清溢光電掌握的10大核心技術包括：TFT-LCD掩模版設計和應用技術，第7代及以下TFT-LCD掩模版的光刻技術，CD誤差可達到小于100nm的第7代及以下掩模版的顯影/蝕刻技術，第7代及以下大面積重復性測量誤差可達到小于10nm的測量系統(tǒng)設計能力，大面積二維尺寸測量小于90nm的測量應用技術，第7代及以下大面積LCVD修補系統(tǒng)設計和工藝控制技術;第7代及以下大面積保護膜貼膜系統(tǒng)設計和控制技術，第7代及以下大面積缺陷檢查以及分析應用技術;符合ISO14644技術要求的1級凈化建設、管理及保養(yǎng)技術，滿足VC-D級的防微振系統(tǒng)控制技術。

　　清溢光電已經具備的第5代量產和第7代研發(fā)的成功經驗，使清溢光電在2008年底占據國內大部分市場，為第8代TFT-LCD掩模版生產線奠定了技術基礎。

　　高世代掩模版技術難度加大

　　第8代及第8代以下TFT-LCD用掩模版產品都是由石英玻璃基板、鉻膜圖形及保護膜(pellicle)構成。石英基板的尺寸從330mm×450mm到1220mm×1400mm，厚度從5mm到13mm，鉻膜厚度為0.1μm，圖形關鍵尺寸在4μm左右，各項技術指標精度要求均為亞微米級，保護膜框高度為5.9mm左右，保護膜厚度為4μm。

　　清溢光電自2006年10月研制成功TFT-LCD彩色濾光片用大尺寸掩模版之后，2007年8月又成功開發(fā)出第5代TFT-LCD陣列用掩模版產品并實現量產，掩模版規(guī)格為800mm×520mm×8mm，柵格尺寸為25nm。與第5代產品相比，第8代TFT-LCD用掩模版面積尺寸更大，無論從產品技術還是生產工藝來看，第8代TFT-LCD用掩模版都處于國內本行業(yè)的最高技術水平。