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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 應(yīng)用材料

應(yīng)用材料公司推出整合的高K介電常數(shù)

  • 晶體管制造技術(shù)正迎來(lái)巨大的變化，柵極結(jié)構(gòu)上新材料和新工藝的整合運(yùn)用使芯片速度更快，功耗更低，從而使摩爾定律得以延續(xù)。近日，應(yīng)用材料公司推出了一系列已被全面驗(yàn)證的生產(chǎn)工藝，幫助我們的客戶(hù)在大規(guī)模生產(chǎn)中制造高K介電常數(shù)/金屬柵極（HK/MG）結(jié)構(gòu)。 從45納米的邏輯芯片開(kāi)始，由于晶體管的尺寸太小，傳統(tǒng)的柵極材料無(wú)法使用，過(guò)多的漏電流使晶體管發(fā)熱并消耗額外的能量。HK/MG結(jié)構(gòu)可以降低柵極漏電流100多倍，并大大加快晶體管的開(kāi)關(guān)速度。舉個(gè)例子來(lái)說(shuō)，如果2006年付運(yùn)的所有微處理器都采用了HK/MG技術(shù)，那么一年
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應(yīng)用材料二季度凈利4.114億美元 獲利高于預(yù)期

  • 　　5月16日，全球最大芯片設(shè)備生產(chǎn)商應(yīng)用材料(Applied Materials)周二公布，受益于記憶體芯片生產(chǎn)商資本支出增加，公司第二季獲利高于預(yù)期。數(shù)據(jù)顯示，公司第二季凈利為4.114億美元，合每股盈余(EPS)0.29美元，上年同期分別為4.128億美元和0.26美元。 　　此外，公司第二季營(yíng)收為25.3億美元，較上年同期的22.5億美元增長(zhǎng)13%。而分析師此前的平均預(yù)期為23.5億美元。 　　由于來(lái)自記憶體晶片生產(chǎn)商的訂單頗豐，應(yīng)用材料及日本Tokyo Electron等其他芯片設(shè)備生產(chǎn)商
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應(yīng)用材料推出45納米光掩膜刻蝕技術(shù)設(shè)備

  • 近日，應(yīng)用材料公司宣布推出先進(jìn)的AppliedCenturaTetraTMIII掩膜刻蝕設(shè)備，它是目前唯一可以提供45納米光掩膜刻蝕所需要的至關(guān)重要的納米制造技術(shù)系統(tǒng)。TetraIII通過(guò)控制石英掩膜把刻槽深度控制在10Å以?xún)?nèi)，同時(shí)把臨界尺寸損失減小到10nm以下，使客戶(hù)可以在最重要的器件層交替使用相移掩膜和強(qiáng)有力的光學(xué)臨近修正技術(shù)。該系統(tǒng)為基于鉻、石英、氮氧硅鉬等多種新材料的下一代光刻技術(shù)應(yīng)用提供無(wú)差錯(cuò)、高產(chǎn)能的刻蝕工藝。      
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應(yīng)用材料公司推出全新的Mariana刻蝕系統(tǒng)

  • 　　近日，應(yīng)用材料公司推出了新的Applied Centura® Mariana™ Trench Etch系統(tǒng)，這是深槽刻蝕納米制造技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的一次重大飛躍。Mariana是第一個(gè)能夠刻蝕80:1長(zhǎng)寬比深槽的系統(tǒng)，這個(gè)關(guān)鍵性能使客戶(hù)可以擴(kuò)展DRAM電容到70nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)。雙頻調(diào)諧功能夠精密控制刻蝕輪廓和臨界尺寸，使刻蝕深度不一致性小于2%。同時(shí)，系統(tǒng)獨(dú)特的等離子化學(xué)反應(yīng)提供了全所未有的硬掩膜選擇性。 　　應(yīng)用材料公司資深副總裁，刻蝕、清潔、前道和離子注入集團(tuán)總經(jīng)理Tom St. De
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應(yīng)用材料公司300萬(wàn)美元風(fēng)險(xiǎn)投資太陽(yáng)能硅片制造商Solaicx

  • 近日，應(yīng)用材料公司風(fēng)險(xiǎn)投資基金Applied Ventures, LLC宣布向Solaicx公司投資300萬(wàn)美元。該公司是一家太陽(yáng)能光電行業(yè)低成本單晶硅硅片私人制造企業(yè)。Solaicx計(jì)劃把這筆投資用于擴(kuò)展業(yè)務(wù)，在美國(guó)建造第二個(gè)制造廠(chǎng)，該工廠(chǎng)將于2007年開(kāi)始運(yùn)行。 Solaicx的技術(shù)基于擁有獨(dú)立產(chǎn)權(quán)的連續(xù)切克勞斯基（CZ法）晶體生長(zhǎng)方法，實(shí)現(xiàn)了用于生成太陽(yáng)能硅片的低成本高質(zhì)量硅錠的高產(chǎn)量生產(chǎn)。Solaicx晶體生長(zhǎng)設(shè)備的生產(chǎn)能力預(yù)計(jì)將比以前為半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)計(jì)的傳統(tǒng)CZ法系統(tǒng)高出5倍。
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應(yīng)用材料為8.5代平面顯示器制造商推出高產(chǎn)能生產(chǎn)系統(tǒng)

  • 應(yīng)用材料公司平面顯示事業(yè)部AKT近日宣布推出第一批在全球最大的8.5代（2.2米x~2.5米）玻璃基板上制造大尺寸LCD電視屏幕的平面顯示器生產(chǎn)系統(tǒng)。全新設(shè)計(jì)的AKT-55K EBT (電子束檢測(cè))，AKT-55K PECVD(等離子加強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)和AKT- NEW ARISTO™ 2200彩色濾光板濺射系統(tǒng)在8.5代基板上實(shí)現(xiàn)了制造6塊55英寸LCD電視屏的高效率生產(chǎn)。 新的8.5代基板將會(huì)對(duì)TFT*-LCD電視市場(chǎng)的增長(zhǎng)做出貢
  • 關(guān)鍵字： 8.5代平面顯示器  工業(yè)控制  生產(chǎn)系統(tǒng)  消費(fèi)電子  應(yīng)用材料  制造商  工業(yè)控制  

美材料公司稱(chēng)首款45納米IC07年將面市

  •     據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道，美國(guó)應(yīng)用材料公司日前在舊金山舉行的美國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備及材料展覽會(huì)上推出了好幾款新型制造工具，并表示全球首款采用45納米制程工藝生產(chǎn)的IC(集成電路)應(yīng)該可以于2007年擺上貨架，另外以32納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)的芯片將只能在2007年之后推出。 　　應(yīng)用材料公司總裁兼首席執(zhí)行官M(fèi)ichael R. Splinter表示，最近從客戶(hù)那兒收到的反饋信息顯示，客戶(hù)對(duì)采用90納米以下制程工藝生產(chǎn)的產(chǎn)品感到非常滿(mǎn)意。首批采用45納米制程工藝生產(chǎn)的芯片應(yīng)
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應(yīng)用材料公司希望2010年前在華銷(xiāo)售翻一倍

  • 應(yīng)用材料（Applied Materials）高級(jí)官員周四表示，希望2006財(cái)年在中國(guó)的銷(xiāo)售能實(shí)現(xiàn)增長(zhǎng)，并且在2010年以前將銷(xiāo)售收入提高一倍，達(dá)到20億美元。應(yīng)用材料2005年在中國(guó)的銷(xiāo)售收入出現(xiàn)了下滑。     在中國(guó)的銷(xiāo)售2004財(cái)年占到了應(yīng)用材料收入的12%。應(yīng)用材料三月警告說(shuō)，今年對(duì)中國(guó)客戶(hù)的銷(xiāo)售將下降，因?yàn)橹袊?guó)芯片制造商在兩年的快速擴(kuò)展后削減了開(kāi)支。應(yīng)用材料亞洲主管大衛(wèi)-王表示，長(zhǎng)期前景仍然樂(lè)觀。他說(shuō)：“我們2000年在中國(guó)首次實(shí)現(xiàn)了一億美元年
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應(yīng)用材料介紹

應(yīng)用材料公司是全球最大的納米制造技術(shù)企業(yè)。作為電子產(chǎn)業(yè)中最大的設(shè)備、服務(wù)和軟件產(chǎn)品供應(yīng)商，我們用納米制造技術(shù)改善人們的生活。 　　自1967年成立至今三十多年來(lái)，應(yīng)用材料公司一直都是領(lǐng)導(dǎo)信息時(shí)代的先驅(qū)，以納米制造技術(shù)打造世界上每一塊半導(dǎo)體芯片和平板顯示器。目前，應(yīng)用材料已進(jìn)入太陽(yáng)能面板和玻璃面板的生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域。 　　應(yīng)用材料公司在全球13個(gè)國(guó)家和地區(qū)的生產(chǎn)、銷(xiāo)售和服務(wù)機(jī)構(gòu)有1 [ 查看詳細(xì) ]
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