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工信部推廣國產(chǎn)DUV光刻機，最小套刻精度≤8nm

  • 大半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)消息，自中華人民共和國工業(yè)和信息化部官網(wǎng)獲悉，日前，工信部宣布印發(fā)《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024 年版）》。其中，在《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》電子專用裝備目錄下，集成電路設(shè)備方面包括：氟化氬光刻機，光源193納米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。在“工信微報”官方公眾號中提到，重大技術(shù)裝備是國之重器，事關(guān)綜合國力和國家安全。中國首臺（套）重大技術(shù)裝備是指國內(nèi)實現(xiàn)重大技術(shù)突破、擁有知識產(chǎn)權(quán)、尚未取得明顯市場業(yè)績的裝備產(chǎn)品，包括整機設(shè)備、核心系
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首發(fā)18A工藝！Intel第三代酷睿Ultra Panther Lake已點亮 明年見

  • 8月7日消息，Intel即將發(fā)布第二代酷睿Ultra處理器，包括低功耗的Lunar Lake(9月4日0點)、高性能的Arrow Lake(10月K系列其他明年CES)，現(xiàn)在又公布了后續(xù)第三代酷睿Ultra Lunar Lake。Intel官方宣布，Intel 18A(1.8nm級別)制造工藝、Panther Lake酷睿處理器、Clearwater Forest至強處理器(或為至強7)都已經(jīng)走出實驗室，成功點亮，并進入操作系統(tǒng)！其中，Panther Lake搭配的內(nèi)存已經(jīng)可以運行在設(shè)定的頻率上，顯示性能
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三星 8LPP 工藝參考流程利用 Mentor Tessent 工具節(jié)省大量設(shè)計測試時間

  • 　　Mentor, a Siemens business 今天宣布，三星電子有限公司根據(jù)三星代工廠的 8nm LPP(低功耗 Plus)工藝對 MentorTessent? 產(chǎn)品進行了認(rèn)證。對于針對移動通信、高速網(wǎng)絡(luò)/服務(wù)器計算、加密貨幣和自動駕駛等市場的特大型設(shè)計，這些工具可大幅縮短設(shè)計和測試時間?！　‘?dāng)今領(lǐng)先半導(dǎo)體器件的特大型設(shè)計可能會因需要大量計算資源、測試向量生成時間太長或在設(shè)計流程中執(zhí)行得太晚而受到拖累。TessentTestKompress? 工具通過提供采用層次化可測試性設(shè)計 (DFT) 方
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三星宣布8nm芯片已經(jīng)可以量產(chǎn)，10nm正在路上

  • 　　近日，三星電子正式宣布其研發(fā)的?8nmLPP技術(shù)已經(jīng)通過驗證，并將用于高性能應(yīng)用中，已準(zhǔn)備批量生產(chǎn)。三星表示，使用?8納米芯片可以大大提升當(dāng)前應(yīng)用程序的效能，適用于網(wǎng)絡(luò)和服務(wù)器等應(yīng)用?！　」俜叫Q?8nm芯片已經(jīng)可以量產(chǎn)，而驍龍?855目前還沒有發(fā)布，所以我們猜測?8nm工藝可能在驍龍?855上首發(fā)。另外，也有消息稱，三星?note9將采用?8nm工藝，而且下一代的?snapdragon處理器，多半會由?
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8nm介紹

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