神秘客戶(hù)？ASML交付最先進(jìn)EUV光刻系統(tǒng)！

ASML近日宣布已向另一家客戶(hù)交付其第二套高NA EUV光刻系統(tǒng)，彰顯了領(lǐng)先芯片制造商對(duì)下一代極紫外（EUV）光刻技術(shù)的濃厚興趣。然而，目前尚不清楚ASML的客戶(hù)是誰(shuí)，即將獲得這款配備0.55數(shù)值孔徑的投影光學(xué)器件的EUV工具。

ASML首席商務(wù)官Christophe Fouquet在與分析師和投資者的電話(huà)會(huì)議上表示：“關(guān)于高NA（0.55 NA EUV），我們已經(jīng)向客戶(hù)交付了我們的首個(gè)系統(tǒng)，目前正在進(jìn)行安裝?！薄氨驹挛覀冮_(kāi)始交付第二套系統(tǒng)，安裝工作也即將啟動(dòng)?！?/span>

回顧2023年底，ASML首次向英特爾交付了其首款高NA EUV光刻工具Twinscan EXE:5000。英特爾計(jì)劃利用該系統(tǒng)學(xué)習(xí)其操作，并將其與英特爾14A制造工藝相結(jié)合，投入大規(guī)模生產(chǎn)，這需要數(shù)年的時(shí)間。通過(guò)早期探索基于高NA EUV的工藝技術(shù)，英特爾將為下一代光刻技術(shù)的發(fā)展奠定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，從而在未來(lái)幾年獲得競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

ASML首席執(zhí)行官Christophe Fouquet還提到：“在2月份的SPIE工業(yè)會(huì)議上，我們宣布了位于Veldhoven的ASML-Imec高NA聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室的高NA系統(tǒng)的首次亮相?！薄拔覀円呀?jīng)獲得了第一張圖像，其分辨率低于10納米，并有望在未來(lái)幾周內(nèi)開(kāi)始曝光晶圓。所有High-NA客戶(hù)都將使用該系統(tǒng)進(jìn)行早期工藝開(kāi)發(fā)?！?/span>

盡管臺(tái)積電和Rapidus似乎不急于采用高NA EUV光刻系統(tǒng)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)，但他們?nèi)詫⒃谖磥?lái)某個(gè)時(shí)候采用這項(xiàng)技術(shù)，這也是ASML對(duì)未來(lái)充滿(mǎn)信心的原因。據(jù)悉，全球最大的晶圓廠(chǎng)工具制造商正在研發(fā)具有投影光學(xué)的Hyper-NA EUV光刻工具，其數(shù)值孔徑高達(dá)0.7以上。

Fouquet指出：“客戶(hù)對(duì)我們的[高NA]系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室表現(xiàn)出了極大的興趣，因?yàn)樵撓到y(tǒng)將幫助我們的邏輯和存儲(chǔ)器客戶(hù)準(zhǔn)備將高NA技術(shù)應(yīng)用于他們的技術(shù)路線(xiàn)圖?！薄跋噍^于0.33 NA系統(tǒng)，0.55 NA系統(tǒng)提供了更精細(xì)的分辨率，使得晶體管密度增加了近3倍，而生產(chǎn)率保持相似，支持sub-2nm邏輯和sub-10nm DRAM節(jié)點(diǎn)?！?/span>