ASML：EUV光刻機(jī)已近極限 追趕技術(shù)還是另辟蹊徑？

ASML首席財(cái)務(wù)官達(dá)森（Roger Dassen）表示，EUV技術(shù)路線發(fā)展受歐美限制，且光刻機(jī)已接近技術(shù)極限，此一技術(shù)路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進(jìn)行技術(shù)跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑？將面臨艱難的抉擇。

據(jù)《芯智訊》報(bào)導(dǎo)，臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光）光刻機(jī)，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結(jié)束，預(yù)計(jì)在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關(guān)設(shè)備訂單。ASML預(yù)測其設(shè)備的市場需求有望一路走強(qiáng)至2026年，這主要是受益于各國政府推動的芯片制造當(dāng)?shù)鼗呗浴?/span>

報(bào)導(dǎo)說，High NA EUV光刻機(jī)的價(jià)格相當(dāng)昂貴，一臺要價(jià)超過3.5億歐元。臺積電業(yè)務(wù)開發(fā)資深副總裁張曉強(qiáng)（Kevin Zhang）日前表示，由于定價(jià)過高，臺積電預(yù)計(jì)于2026年下半量產(chǎn)的A16（1.6nm）制程，不一定需要用到High NA EUV光刻機(jī)，這要看如何在經(jīng)濟(jì)與技術(shù)間取得最佳的平衡而定。

目前最為積極引入High NA EUV光刻機(jī)則是英特爾，其是第一家訂購并完成交付安裝的晶圓制造商，目前英特爾已經(jīng)開始進(jìn)行Intel 18A工藝的測試，以積累相關(guān)經(jīng)驗(yàn)，后續(xù)將會被用于Intel 14A的量產(chǎn)。

報(bào)導(dǎo)指出，ASML已接獲數(shù)十臺High NA EUV光刻機(jī)的訂單，其中大部分被英特爾預(yù)定，此外三星、臺積電、SK海力士、美光也有訂購。但是由于技術(shù)本身和生態(tài)系統(tǒng)的復(fù)雜性，ASML 認(rèn)為在可預(yù)見的未來，其EUV技術(shù)領(lǐng)域不會面臨來自中國光刻設(shè)備公司上海微電子（SMEE）或華為的競爭。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，ASML先進(jìn)的標(biāo)準(zhǔn)型EUV光刻機(jī)就擁有超過10萬個(gè)零件，涉及到上游5000多家供貨商。它是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備，目前全世界沒有一家企業(yè)、甚至可以說沒有一個(gè)國家可以獨(dú)立完成EUV光刻機(jī)的完整制造。

目前ASML仍然是全球唯一的EUV光刻機(jī)供貨商，High NA EUV光刻機(jī)的發(fā)展已經(jīng)接近當(dāng)前技術(shù)的極限，下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻機(jī)理論上是可以實(shí)現(xiàn)，但是會面臨更多更復(fù)雜的技術(shù)問題，同時(shí)成本也更為驚人。

報(bào)導(dǎo)分析說，在ASML現(xiàn)有光刻機(jī)技術(shù)路線即將走向盡頭的背景之下，對于中國廠商來說在現(xiàn)有技術(shù)路線對于ASML之間的差距可能將不會繼續(xù)加速擴(kuò)大，這有利于大陸廠商的技術(shù)追趕。

但是，在EUV技術(shù)路線發(fā)展受歐美限制，且該技術(shù)路線前景灰暗的情況下，中國大陸廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進(jìn)行技術(shù)跟隨，還是考慮投入資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑？將會面臨困難的抉擇。比如佳能去年就推出了面向先進(jìn)制程的奈米壓印設(shè)備，但該技術(shù)路線能否成功還有待市場檢驗(yàn)。