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TI推出其首款帶集成驅(qū)動(dòng)器、內(nèi)部保護(hù)和有源電源管理的車用GaN FET

—— 工程師可以使車用充電器和工業(yè)電源實(shí)現(xiàn)兩倍的功率密度和更高效率
作者: 時(shí)間:2020-11-11 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

德州儀器(TI)近日推出了面向汽車和工業(yè)應(yīng)用的下一代650V和600V氮化鎵(GaN)場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET),進(jìn)一步豐富拓展了其高壓電源管理產(chǎn)品線。與現(xiàn)有解決方案相比,新的GaN FET系列采用快速切換的2.2 MHz集成柵極驅(qū)動(dòng)器,可幫助工程師提供兩倍的功率密度和高達(dá)99%的效率,并將電源磁性器件的尺寸減少59%。TI利用其獨(dú)有的GaN材料和在硅(Si)基氮化鎵襯底上的加工能力開發(fā)了新型FET,與碳化硅(SiC)等同類襯底材料相比,更具成本和供應(yīng)鏈優(yōu)勢(shì)。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202011/420187.htm

電氣化正在改變汽車行業(yè),消費(fèi)者越來越需要充電更快、續(xù)航里程更遠(yuǎn)的車輛。因此,工程師亟需在不影響汽車性能的同時(shí),設(shè)計(jì)出更緊湊、輕便的汽車系統(tǒng)。與現(xiàn)有的Si或SiC解決方案相比,使用TI的新型車用GaN FET可將電動(dòng)汽車(EV)車載充電器和DC/DC轉(zhuǎn)換器的尺寸減少多達(dá)50%,從而使工程師能夠延長(zhǎng)電池續(xù)航,提高系統(tǒng)可靠性并降低設(shè)計(jì)成本。在工業(yè)設(shè)計(jì)中,這些新器件可在更低功耗和更小電路板空間占用的情況下,在AC/DC電力輸送應(yīng)用(例如超大規(guī)模的企業(yè)計(jì)算平臺(tái)以及5G電信整流器)中實(shí)現(xiàn)更高的效率和功率密度。

Strategy Analytics的動(dòng)力總成、車身、底盤和安全服務(wù)總監(jiān)Asif Anwar表示:“GaN等寬帶隙半導(dǎo)體技術(shù)無疑為電力電子設(shè)備(尤其是高壓系統(tǒng))帶來了更穩(wěn)定的性能。德州儀器歷經(jīng)十多年的投資和開發(fā),提供了獨(dú)有的整體解決方案——將內(nèi)部硅基氮化鎵(GaN-on-Si)器件的生產(chǎn)、封裝與優(yōu)化的硅基驅(qū)動(dòng)器技術(shù)相結(jié)合,從而能在新應(yīng)用中成功采用GaN。”

德州儀器高壓電源解決方案副總裁Steve Lambouses表示:“工業(yè)和汽車應(yīng)用日益需要在更小的空間內(nèi)提供更多的電力,設(shè)計(jì)人員必須提供能在終端設(shè)備長(zhǎng)久的生命周期內(nèi)可靠運(yùn)行的電源管理系統(tǒng)。憑借超過4,000萬個(gè)小時(shí)的器件可靠性測(cè)試和超過5 GWh的功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用測(cè)試,TI的GaN技術(shù)為工程師提供了能滿足任何市場(chǎng)需求的可靠的全生命周期保障。”

以更少的器件實(shí)現(xiàn)翻倍的功率密度

在高電壓、高密度應(yīng)用中,電路板空間最小化是設(shè)計(jì)中的重要目標(biāo)。隨著電子系統(tǒng)變得越來越小,其內(nèi)部組件也必須不斷縮小并更加緊湊。TI的新型GaN FET集成了快速開關(guān)驅(qū)動(dòng)器以及內(nèi)部保護(hù)和溫度感應(yīng)功能,使工程師能夠在電源管理設(shè)計(jì)中減小電路板尺寸、降低功耗的同時(shí)實(shí)現(xiàn)高性能。這種集成再加上TI GaN技術(shù)的高功率密度,使工程師能夠在通常的離散解決方案中減少10多個(gè)組件。此外,在半橋配置中應(yīng)用時(shí),每個(gè)新型30mΩ FET均可支持高達(dá)4 kW的功率轉(zhuǎn)換。

創(chuàng)造TI更高功率因數(shù)校正(PFC)效率

GaN具有快速開關(guān)的優(yōu)勢(shì),可實(shí)現(xiàn)更小、更輕、更高效的電源系統(tǒng)。在過去,要獲得快速的開關(guān)性能,就會(huì)有更高的功率損耗。為了避免這種不利后果,新型GaN FET采用了TI的智能死區(qū)自適應(yīng)功能,以減少功率損耗。例如,在PFC中,智能死區(qū)自適應(yīng)功能與分立式GaN和SiC金屬氧化物硅FET(MOSFET)相比,可將第三象限損耗降低多達(dá)66%。智能死區(qū)自適應(yīng)功能也消除了控制自適應(yīng)死區(qū)時(shí)間的必要,從而降低了固件復(fù)雜性和開發(fā)時(shí)長(zhǎng)。

更大限度提高熱性能

采用TI GaN FET的封裝產(chǎn)品,其熱阻抗比性能最接近的同類產(chǎn)品還要低23%,因此可使工程師使用更小的散熱器,同時(shí)簡(jiǎn)化散熱設(shè)計(jì)。無論應(yīng)用場(chǎng)景如何,這些新器件均可提供更大的散熱設(shè)計(jì)靈活性,并可選擇底部或頂部冷卻封裝。此外,F(xiàn)ET集成的數(shù)字溫度報(bào)告功能還可實(shí)現(xiàn)有源電源管理,從而使工程師能在多變的負(fù)載和工作條件下優(yōu)化系統(tǒng)的熱性能。

封裝、供貨情況

目前TI.com.cn上已提供四種新型工業(yè)級(jí)600V GaN FET的預(yù)生產(chǎn)版本,采用12mm x 12mm方形扁平無引腳(QFN)封裝。TI預(yù)計(jì)工業(yè)級(jí)器件LMG3425R030將于2021年第一季度實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。

更多信息請(qǐng)閱讀應(yīng)用說明“ 通過智能死區(qū)自適應(yīng)功能實(shí)現(xiàn)GaN性能最大化 ”。



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