ASML出貨超過100臺EUV光刻機(jī) 新制程時代來臨
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芯研所消息，全球半導(dǎo)體的缺貨，進(jìn)一步激發(fā)了上游半導(dǎo)體設(shè)備廠商的產(chǎn)能，據(jù)外媒報道截至第二季度，ASML EUV設(shè)備出貨總量達(dá)到102臺，隨著需求量的提高和客戶群的擴(kuò)大，預(yù)計2年內(nèi)累計供應(yīng)量將增加2倍以上，標(biāo)志著EUV時代正式拉開帷幕。
本文引用地址：http://butianyuan.cn/article/202109/428342.htm據(jù)統(tǒng)計，過去四個季度（2020年第三季度-2021年第二季度），ASML EUV設(shè)備出貨總計40臺，較之前四個季度（2019年第三季度-2020年第二季度）增長了66%。ASML今年的出貨目標(biāo)是40臺左右，下半年將供應(yīng)25臺左右。
根據(jù)ASML的說法，5-7nm邏輯半導(dǎo)體（以每月45,000顆晶圓為基準(zhǔn)）每個EUV層需要一臺EUV設(shè)備，16nm及以下節(jié)點(diǎn)DRAM（以每月100,000顆晶圓為基準(zhǔn)）每個EUV層則需要1.5-2臺設(shè)備。三星電子計劃，到今年下半年為止，將14nm DDR5 DRAM的EUV應(yīng)用層數(shù)從1層增加到5層，SK海力士也計劃增加EUV應(yīng)用層數(shù)，因此，預(yù)計EUV設(shè)備的需求將進(jìn)一步增加。
除了EUV層的增加，EUV設(shè)備的客戶群也在逐漸擴(kuò)大。繼2018年三星電子首次引進(jìn)7nm制程的EUV設(shè)備后，臺積電和SK海力士也加入了EUV競爭。美國的美光和英特爾也在推進(jìn)EUV設(shè)備的引進(jìn)，預(yù)計市場規(guī)模將進(jìn)一步擴(kuò)大。
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