佳能推出晶圓測量機新品 MS-001：比光刻機精度更高，可提高生產(chǎn)效率

IT之家 2 月 21 日消息，在邏輯、存儲器、CMOS 傳感器等尖端半導(dǎo)體領(lǐng)域，制造工藝日趨復(fù)雜，半導(dǎo)體元器件制造廠商為了制造出高精度的半導(dǎo)體元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要測量的對準(zhǔn)測量點也越來越多。

如果在半導(dǎo)體光刻機中對數(shù)量眾多的測量點進行對準(zhǔn)測量的話，測量本身會非常耗時，進而就會降低半導(dǎo)體光刻機的生產(chǎn)效率。為此，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域引進了晶圓測量機，將半導(dǎo)體光刻機的對準(zhǔn)測量功能分離出來，以此來確保生產(chǎn)的高精度和效率。

2 月 21 日，佳能推出了半導(dǎo)體制造用晶圓測量機“MS-001”，該產(chǎn)品可以對晶片進行高精度的對準(zhǔn)測量。

▲ MS-001

據(jù)介紹，“MS-001”所搭載的調(diào)準(zhǔn)用示波器安裝有區(qū)域傳感器，可以進行多像素測量，降低測量時的噪音。另外，“MS-001”還可以對多個種類的對準(zhǔn)標(biāo)記進行測量。

通過采用新開發(fā)的調(diào)準(zhǔn)用示波器光源，新產(chǎn)品可提供的波長范圍比在半導(dǎo)體光刻設(shè)備中測量時大 1.5 倍，能夠以用戶所需的任意波長進行對準(zhǔn)測量。因此，相較于在半導(dǎo)體光刻設(shè)備中所進行的測量，“MS-001”所能實現(xiàn)的對準(zhǔn)測量精度要更高。

▲ 增加的對準(zhǔn)標(biāo)記（示意）

佳能表示，隨著新產(chǎn)品的應(yīng)用，可以在晶片運送至半導(dǎo)體光刻設(shè)備之前統(tǒng)一完成大部分的對準(zhǔn)測量，減輕在半導(dǎo)體光刻設(shè)備中進行對準(zhǔn)測量操作的工作量，從而提高半導(dǎo)體光刻設(shè)備的生產(chǎn)效率。