EUV機臺被砍單？ 業(yè)界：不太可能

終端市場需求低迷，近期市場傳出臺積電將宣布調(diào)降今年資本支出，恐沖擊艾司摩爾（ASML）及應(yīng)用材料等設(shè)備廠出貨，甚至傳出艾司摩爾極紫外光（EUV）機臺被砍單消息，不過業(yè)界普遍認(rèn)為可能性不高，原因在于EUV機臺交期長達12～15個月，且中長期來看EUV產(chǎn)能仍供不應(yīng)求。

ASML預(yù)計19日舉行法人說明會，可望針對EUV曝光機已接訂單（backlog）變化提出說明。半導(dǎo)體生產(chǎn)鏈仍在進行庫存調(diào)整，市場傳出臺積電可能在法人說明會中下修全年資本支出，加上內(nèi)存廠放慢擴產(chǎn)計劃，將導(dǎo)致EUV曝光機訂單減少或延后，受此消息影響，EUV概念股家登、帆宣17日股價明顯有壓。

不過，業(yè)界人士對于EUV曝光機被砍單消息有所質(zhì)疑，主要原因在于EUV設(shè)備是屬于訂制化生產(chǎn)，且設(shè)備系統(tǒng)交期長達12～15個月，所以采購EUV機臺是屬于中長期的產(chǎn)能規(guī)劃，并不會因為短期的景氣循環(huán)波動而砍單。

以目前主流的0.33數(shù)值孔徑（NA）來說，5納米邏輯制程每片晶圓平均EUV光罩層逾10層，但3納米邏輯制程每片晶圓平均EUV光罩層約將倍增達20層以上，而EUV機臺每小時晶圓產(chǎn)出（throughput）提升緩慢，隨3納米制程開始導(dǎo)入量產(chǎn)，反而需要更多機臺因應(yīng)產(chǎn)能提升及制程微縮，整體EUV產(chǎn)能仍供不應(yīng)求。

業(yè)者表示，短期景氣循環(huán)沖擊半導(dǎo)體廠資本支出，但臺積電、英特爾、三星等大廠在先進制程的投資并沒有縮減，所以EUV曝光機交期也沒有因近期景氣變動而縮短。目前業(yè)界普遍認(rèn)為市場景氣下半年緩步復(fù)蘇，明年進入新的成長循環(huán)，所以不太可能在這個時間點對EUV機臺砍單。