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2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機

作者: 時間:2023-05-17 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

5月17日消息,原本已經(jīng)落后的半導體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度,去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus,計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝,而且很快就籌備了。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202305/446662.htm

當前的邏輯工藝還在28nm以上,但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝,直接搞2nm工藝,而5nm以下的工藝都離不開,不論研發(fā)還是制造都要先買設備。

Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露,他們已經(jīng)完成了1臺的籌備,不過具體的型號及進度沒有說明,不確定是ASML的哪款EUV光刻機,何時安裝、測試也沒公布。

Rapidus公司成立了僅僅9個月多,不到一年時間就籌備完成EUV光刻機,進度確實很快。

小池淳義表示,通常大規(guī)模量產(chǎn)先進工藝需要至少1000名工程師,但他們引入了AI和自動化技術,現(xiàn)在有500名工程師了,用一半的資源就能完成。

根據(jù)該公司的計劃,他們2025年試產(chǎn)2nm工藝,2027年量產(chǎn),2030年代預計營收將達到1萬億日元。



關鍵詞: 日本 EUV 光刻機

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