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英特爾未來(lái)將使用新材料制造處理芯片

作者: 時(shí)間:2015-02-28 來(lái)源:新材料網(wǎng) 收藏

  根據(jù)最新發(fā)布的消息,該公司將在未來(lái)推出10nm甚至7nm的處理,使用10nm制程的將在2017年上半年發(fā)布,而7nm則會(huì)到2019年,更重要的是,將會(huì)在工藝達(dá)到7nm的時(shí)候使用新材料制造更先進(jìn)的,至于究竟會(huì)使用什么新材料,則沒(méi)有公布。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/270234.htm




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