問題的關(guān)鍵在于使用干涉圖樣,不同波長的相干光在不同位置會(huì)彼此增強(qiáng)或抵消。研究者將這種對(duì)光反應(yīng)變色的材料,材料改變顏色后,便會(huì)對(duì)對(duì)應(yīng)的光線透明。曝光時(shí)用一對(duì)圖樣的蒙板,各自采用不同波長的光同時(shí)進(jìn)行曝光。當(dāng)一種波長的亮線與另一種波長的暗線對(duì)應(yīng)交疊時(shí),極細(xì)小的線條就產(chǎn)生了。這一層材料便可作為蒙板,用第一種波長的光線照明,就像用負(fù)片在相紙上沖洗出照片一樣,在底層材料上留下圖樣。
這個(gè)研究是由電子學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室工程師Rajesh Menon和化學(xué)系研究生Trisha Andrew以及電子工程與計(jì)算機(jī)科學(xué)系的研究生Hsin-Yu共同完成的,研究的論文已經(jīng)發(fā)表在4月10日的《科學(xué)》雜志上。
這項(xiàng)了不起的新技術(shù),研究人員成為吸光率調(diào)制,使得制造出所用光線波長十分之一粗細(xì)的線條成為可能。成功實(shí)現(xiàn)這一過程的部分關(guān)鍵在于找到合適的光敏材料,其在最初曝光之后透明與不透明區(qū)域都應(yīng)保持穩(wěn)定。
使用這種方法,研究團(tuán)隊(duì)制造出了36納米寬的線條,并宣稱他們還可以制造出許多同樣大小間隔的線條。
Menon說,這種技術(shù)會(huì)對(duì)芯片制造帶來顯著的沖擊,也會(huì)使依賴于納米尺度技術(shù)的新興領(lǐng)域的研究工作成為可能,包括納米光子學(xué),納米流體力學(xué),納米電子學(xué)以及納米生物系統(tǒng)。
Menon已經(jīng)成立一個(gè)公司,以繼續(xù)這項(xiàng)技術(shù)的研發(fā),他期望能在5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)商用化。
但這并不是這一技術(shù)唯一的潛在運(yùn)用,Menon稱他的團(tuán)隊(duì)正在尋求這套系統(tǒng)在成像系統(tǒng)中的可能運(yùn)用,有可能使納米尺度的新型顯微鏡成為可能,這在生物學(xué)與材料科學(xué)中將有巨大應(yīng)用前景。同時(shí),他也在尋求使用這種技術(shù)把類似圖案的尺度降低到單個(gè)分子的大小。
新方法可能制造出更細(xì)微的芯片紋路
MIT的研究人員已經(jīng)找到一種全新的方式,只需要一種能在透明與非透明狀態(tài)之間轉(zhuǎn)換的材料,用特定波長的光照射,就能在微型芯片上獲得極細(xì)的線條。這種材料并不新奇,但研究人員找到了一種全新的方法來利用這一特性,用于構(gòu)造出極其細(xì)微線條的透明蒙板,用這個(gè)蒙板可以在材質(zhì)上創(chuàng)建出對(duì)應(yīng)的細(xì)微線條。制造這樣細(xì)微的線條對(duì)于很多新技術(shù)而言是關(guān)鍵的,從不斷追求往一塊芯片上加入更多元件的芯片制造業(yè),到日漸顯露頭角的納米技術(shù)。但這些技術(shù)都面臨一個(gè)極限,即他們都要依賴于光的波長,大多數(shù)技術(shù)無法獲得比光波長更小尺度的圖樣,而這個(gè)新技術(shù)則彌補(bǔ)了這一點(diǎn)。
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評(píng)論