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英特爾發(fā)明半導體材料 處理器功耗望降90%

作者: 時間:2009-05-26 來源:半導體國際 收藏

  近日,英特爾對外透露該公司旗下實驗室的全新研究結(jié)果,該項成果可使減低所需功耗,未來的耗電量甚至可以是當今的十分之一,而性能與體積不僅不會停止不前,還會大幅度的前進。而這項研究的對象則被英特爾稱之為“P Channel與N-Channel組合協(xié)作”課題.

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/94716.htm
 

 

  P Channel與N-Channel組合協(xié)作技術(shù)的晶圓樣品

  在英特爾最新的研究報告中透露了有關(guān)P-ChannelTransistor的資料,這是一種復合,也稱為III-V物料,因為它就是硅晶體周期表的列于第四周期表中,據(jù)研究指出它擁有極高的效率及極低電阻的物理特征。而英特爾早前透露的采用III-V物料的N-ChannelTranistsor,同樣將會使用在處理器制程技術(shù)上。

  據(jù)英特爾指出,當P-ChannelTransistor及N-ChannelTransistor復合應(yīng)用后,所制造出的CMOS邏輯芯片比傳統(tǒng)物料可減低一半的電壓,而且功耗更可降低至口金只有十分之一。此研發(fā)創(chuàng)新技術(shù)將會應(yīng)用于未來一段時間內(nèi)的處理器量產(chǎn)工作。而該項技術(shù)帶來的好處則是顯而易見的:首先,該技術(shù)可將處理器效率進一

  步提高;其次,容許更復雜的處理器內(nèi)核設(shè)計及減低了因功耗而出現(xiàn)的散熱問題;最后,采用該類處理器的筆記本機身體積還可進一步縮少。

  當前,英特爾已開始進行試驗上述半導體材料大量生產(chǎn)的可能性,希望可以在未來一至兩年內(nèi)將該項技術(shù)應(yīng)用于實際生產(chǎn)中。



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