摩爾定律 文章 進(jìn)入摩爾定律技術(shù)社區(qū)
下一代5nm 2D材料可望突破摩爾定律限制?
- Imec 開發(fā)下一代 5nm 2D 通道 FET 架構(gòu),證實(shí)采用 2D 非等向性材料可讓摩爾定律延續(xù)到超越 5nm 節(jié)點(diǎn)… 根據(jù)比利時(shí)研究機(jī)構(gòu)Imec指出,設(shè)計(jì)人員可以選擇采用2D非等向性(顆粒狀速度更快)材料(如黑磷單層),讓摩爾定律(Moore's Law)擴(kuò)展到超越5納米(nm)節(jié)點(diǎn)。Imec研究人員在Semicon West期間舉辦的年度Imec技術(shù)論壇(Imec Technology Forum)發(fā)表其最新研究成果。 Imec開發(fā)的下一代5nm 2D通道
- 關(guān)鍵字: 摩爾定律 5nm
半導(dǎo)體耦合多量子點(diǎn)量子比特器件研究取得重要進(jìn)展
- 在不遠(yuǎn)的將來,摩爾定律所預(yù)示的微電子器件的尺寸將微縮到一系列物理極限,這一技術(shù)進(jìn)步推動(dòng)科研人員利用納米技術(shù)尋求一個(gè)完全基于量子效應(yīng)的信息處理方案。經(jīng)過近二十年的發(fā)展,半導(dǎo)體量子點(diǎn)自旋比特固態(tài)器件以其可調(diào)控性和可擴(kuò)展性成為最具應(yīng)用潛力的固態(tài)量子計(jì)算方案之一,目前已成為以凝聚態(tài)物理為背景,融合了凝聚態(tài)理論、量子物理、納米加工技術(shù)、納米電子學(xué)、低溫技術(shù)、半導(dǎo)體器件工藝等多個(gè)研究方向的前沿交叉研究領(lǐng)域。 近日,北京大學(xué)信息科學(xué)技術(shù)學(xué)院、固態(tài)量子器件北京市重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室“千人計(jì)劃”教授
- 關(guān)鍵字: 量子點(diǎn) 摩爾定律
摩爾定律能“活”到2025年以后 中國半導(dǎo)體趕超有望
- 在摩爾定律依然延續(xù)的今天,中國IC制造工藝與世界先進(jìn)工藝如何縮小,這是不得不思考的問題。IMEC中國區(qū)總裁丁輝文近日指出,半導(dǎo)體工藝尺寸的縮小和摩爾定律仍能持續(xù)發(fā)展到2025年以后,中國半導(dǎo)體若能善用國際和國內(nèi)資源,有機(jī)會(huì)在各領(lǐng)域趕超世界先進(jìn)水平。 多元化應(yīng)用需要多元化半導(dǎo)體技術(shù) 丁輝文認(rèn)為,講摩爾定律,其實(shí)首先是應(yīng)用推動(dòng)了芯片的成長,而在應(yīng)用當(dāng)中,主要是IoT、移動(dòng)通訊、云端服務(wù)這三大應(yīng)用市場(chǎng)。這三大應(yīng)用對(duì)半導(dǎo)體器件有不同的要求:一是IoT應(yīng)用,功耗在1mW到100mW;二是移動(dòng)通訊部分
- 關(guān)鍵字: 摩爾定律 IoT
模擬技術(shù)的困境
- 在這樣一個(gè)對(duì)數(shù)字電路處理有利的世界中,模擬技術(shù)更多地用來處理對(duì)它們不利的過程。但這個(gè)現(xiàn)象可能正在改變?! ∥覀兩钤谝粋€(gè)模擬世界中,但數(shù)字技術(shù)已經(jīng)成為主流技術(shù)。混合信號(hào)解決方案過去包含大量模擬數(shù)據(jù),只需要少量的數(shù)字信號(hào)處理,這種方案已經(jīng)遷移到系統(tǒng)應(yīng)用中,在系統(tǒng)中第一次產(chǎn)生了模數(shù)轉(zhuǎn)換過程?! ∧M技術(shù)衰落有幾個(gè)原因,其中一些是建立在自身缺陷上的。摩爾定律適用于數(shù)字電路而不是模擬電路;晶體管可以而且必須做得更小,這有利于數(shù)字電路。但這對(duì)模擬晶體管的影響并不大,反而器件尺寸越小,模擬器件特性往往越差。器件的
- 關(guān)鍵字: 摩爾定律 FinFET
延續(xù)摩爾定律 EUV技術(shù)角色關(guān)鍵
- 臺(tái)積電已宣布將在2018年第二代7奈米制程中開始導(dǎo)入EUV微影技術(shù),以做為5奈米全面采用EUV的先期準(zhǔn)備。 盡管目前EUV設(shè)備曝光速度仍不如期待且價(jià)格極為高昂,但與采用雙重或多重曝光技術(shù)相比,EUV的投資對(duì)解決先進(jìn)制程不斷攀升的成本問題仍是相對(duì)有力的解決方案。 每一季的臺(tái)積電法說會(huì)上,張忠謀董事長或是共同執(zhí)行長對(duì)于極紫外光(Extreme Ultraviolet, EUV)的發(fā)展進(jìn)度必會(huì)對(duì)臺(tái)下觀眾做一專門的報(bào)告,法人代表對(duì)于EUV的導(dǎo)入時(shí)程亦表示高度興趣。 到底EUV的發(fā)展對(duì)于臺(tái)積電未來發(fā)展甚至
- 關(guān)鍵字: 摩爾定律 EUV
摩爾定律之后 存儲(chǔ)器發(fā)展要靠大數(shù)據(jù)、AI?
- 半導(dǎo)體供應(yīng)鏈存儲(chǔ)器缺貨絕對(duì)是橫貫2017年的主調(diào),但除了量變,大數(shù)據(jù)中心、AI深度學(xué)習(xí)運(yùn)算帶來對(duì)CPU與AI處理器的運(yùn)算速度、存儲(chǔ)容量高門檻要求,也正在改變整個(gè)存儲(chǔ)器乃至于運(yùn)算基礎(chǔ)核心架構(gòu)。 在近日一場(chǎng)GSA存儲(chǔ)器高峰論壇上,半導(dǎo)體與數(shù)據(jù)平臺(tái)、服務(wù)器領(lǐng)域與會(huì)人士對(duì)上述議題展開熱議。 西數(shù)(Western Digital)董事長兼COO Mike Cordano提到,未來存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)仍然機(jī)會(huì)巨大,占整個(gè)IC行業(yè)的三分之一份額,其中DRAM約600億美元、NAND Flash約480億美元、微
- 關(guān)鍵字: 摩爾定律 存儲(chǔ)器
3D NAND延續(xù)摩爾定律 電容耦合效應(yīng)及可靠度仍為技術(shù)關(guān)鍵
- DIGITIMES Research觀察,2D NANDFlash制程在物理限制下難度加劇,透過3DNAND Flash制程,無論是效能及儲(chǔ)存容量提升上都有突破性的改善。 3D NAND Flash可謂為摩爾定律在半導(dǎo)體內(nèi)存領(lǐng)域延伸的一項(xiàng)重要技術(shù)。 3D NAND Flash依存儲(chǔ)元件儲(chǔ)存機(jī)制可分浮動(dòng)閘極(Floating Gate;FG)及電荷缺陷儲(chǔ)存(Charge Trap;CT);依不同堆棧結(jié)構(gòu)技術(shù)又可分為BiCS、P-BiCS、TCAT、VG-NAND Flash、DC-SF、S-SCG
- 關(guān)鍵字: 摩爾定律 3D NAND
摩爾定律介紹
摩爾定律概述
摩爾定律是指IC上可容納的晶體管數(shù)目,約每隔18個(gè)月便會(huì)增加一倍,性能也將提升一倍。摩爾定律是由英特爾(Intel)名譽(yù)董事長戈登·摩爾(Gordon Moore)經(jīng)過長期觀察發(fā)現(xiàn)得之。
計(jì)算機(jī)第一定律——摩爾定律Moore定律1965年,戈登·摩爾(GordonMoore)準(zhǔn)備一個(gè)關(guān)于計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)器發(fā)展趨勢(shì)的報(bào)告。他整理了一份觀察資料。在他開始繪制數(shù)據(jù)時(shí),發(fā)現(xiàn)了一個(gè)驚人的 [ 查看詳細(xì) ]
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì)員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473