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ASML澄清與中芯國(guó)際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同

  • 　　近日，中芯國(guó)際與ASML達(dá)成12億美元交易購(gòu)買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對(duì)雙方此次合作，有媒體報(bào)道稱“除了EUV光刻機(jī)，中芯國(guó)際幾乎可以買到其他所有型號(hào)的光刻機(jī)。”但是這一說(shuō)法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?！　】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級(jí)，實(shí)際上也是如此。　　ASML澄清與中
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中國(guó)芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司

  • 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào)，這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺(tái)EUV光刻機(jī)，中國(guó)大陸由于種種原因沒(méi)有買到其中任何一臺(tái)?！　∮腥苏f(shuō)阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€(gè)能讓臺(tái)積電折腰的公司，這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī)，是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒(méi)有刀，再好的師傅也雕不出來(lái)花?！　∪绻腥魏螐S商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻，廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金?！　≡?jīng)，某上市公司的光刻機(jī)出問(wèn)題后，排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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全球最大光刻機(jī)廠CEO：拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢(shì)

  • 拜登上任在即，他會(huì)緩解緊張的中美科技局勢(shì)嗎？近期，全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示，即使總統(tǒng)換屆，兩國(guó)在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域，仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對(duì)抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開(kāi)源指令集架構(gòu)RISC-V可能會(huì)讓中國(guó)芯片自主「彎道超車」？　　離美國(guó)新任總統(tǒng)拜登的上任越來(lái)越近了?！　≡谶^(guò)去川普任職期內(nèi)，中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一?！　∮捎诿绹?guó)政府的壓力，其最新價(jià)值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國(guó)銷售。　　由于川普的舉動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
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阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨

  • 14日訊，《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米，并計(jì)劃于2021年的中期開(kāi)始發(fā)貨。
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在EUV光刻技術(shù)上，日本公司壟斷了光刻膠的供應(yīng)

  • 雖然將會(huì)有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個(gè)市場(chǎng)是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導(dǎo)體光刻技術(shù)，但是毫無(wú)疑問(wèn)，這就是光刻技術(shù)的未來(lái)。與任何未來(lái)一樣，它為一些光刻材料市場(chǎng)開(kāi)拓者提供了在新市場(chǎng)中建立自己的機(jī)會(huì)。尤其是目前由兩家日本公司生產(chǎn)使用EUV光刻機(jī)所使用的技術(shù)處理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學(xué)將在2021年開(kāi)始為下一代芯片提供光刻材料，這可能有助于減小智能手機(jī)和其他設(shè)備的芯片尺寸，并使它們更加節(jié)能。這
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斥資440億元采購(gòu)EUV光刻機(jī)？臺(tái)積電：不評(píng)論傳聞

  • 9月30日訊，此前有媒體報(bào)道，由于先進(jìn)制程推進(jìn)順利和訂單量擴(kuò)大，臺(tái)積電將加大EUV光刻機(jī)的采購(gòu)力度，預(yù)計(jì)到2021年底采購(gòu)量為55臺(tái)左右。臺(tái)積電方面回復(fù)稱：公司不評(píng)論市場(chǎng)傳聞。據(jù)了解，一臺(tái)EUV光刻機(jī)售價(jià)近8億元，55臺(tái)EUV光刻機(jī)價(jià)值約440億元。相關(guān)閱讀：臺(tái)積電明年底前將累計(jì)采購(gòu)55臺(tái)EUV光刻機(jī)：花費(fèi)超440億元出處：快科技 作者：萬(wàn)南芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下，這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。來(lái)自Digitimes的報(bào)道稱，臺(tái)積電打算在
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)？ASML華裔工程師：天方夜譚

  • 9月16日，中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮在國(guó)新辦發(fā)布會(huì)上介紹稱，“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段要把美國(guó)“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國(guó)家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱，從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段。對(duì)此，首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱，目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu)，目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評(píng)價(jià)、分類資源配置?！斑@個(gè)工作還沒(méi)有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭(zhēng)取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完，
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10億元一臺(tái)EUV光刻機(jī)！芯片產(chǎn)能數(shù)量曝光：夠華為手機(jī)用嗎？

  • 相信大家都知道，在前幾天，ASML重磅官宣了一條大新聞，正式在中國(guó)寶島臺(tái)灣建設(shè)了第一家海外培訓(xùn)中心—亞洲培訓(xùn)中心，這家培訓(xùn)中心標(biāo)配了14名培訓(xùn)技師，一年大約可以培養(yǎng)超過(guò)360名EUV光刻機(jī)操作工程師，能夠讓芯片生產(chǎn)加工企業(yè)更好的掌握和使用EUV光刻機(jī)，從而可以進(jìn)一步提高5nm/3nm芯片的良品率，其實(shí)ASML在臺(tái)灣建設(shè)這座亞洲培訓(xùn)中心，最大的目的就是為了直接幫助臺(tái)積電培養(yǎng)更多的光刻機(jī)操作工程師，因?yàn)樵谶^(guò)去兩年時(shí)間里，ASML一共售賣了57臺(tái)EUV光刻機(jī)產(chǎn)品，其中臺(tái)積電就購(gòu)得了30臺(tái)，占據(jù)著絕大部分的份額，
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臺(tái)積電：5nm EUV工藝已在量產(chǎn)、明年推出增強(qiáng)版

  • 24日，臺(tái)積電舉辦了第26屆技術(shù)研討會(huì)，并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺(tái)積電的說(shuō)法，5nm工藝規(guī)劃了兩代，分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV（極紫外光刻）技術(shù)，并且已經(jīng)在大規(guī)模量產(chǎn)之中。相較于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版，仍在開(kāi)發(fā)中，規(guī)劃2021年量產(chǎn)，相較于第一代5nm，功耗進(jìn)一步降低10%、性能提升5%，據(jù)稱面向高性能計(jì)算平臺(tái)做了優(yōu)化。據(jù)手頭資料，臺(tái)積電的5nm有望應(yīng)用在蘋果A14芯片（包括Apple Silicon PC處
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臺(tái)積電采購(gòu)30臺(tái)EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm，ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

  • 臺(tái)積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣，已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺(tái)上的最大采購(gòu)客戶，累計(jì)已經(jīng)購(gòu)買了 30 臺(tái) EUV 設(shè)備。日前，ASML 繼在韓國(guó)成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后，也在臺(tái)積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺(tái)灣臺(tái)南，成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺(tái)EUV系統(tǒng)需要50個(gè)工程師操作一臺(tái)造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達(dá) 180&nbs
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Intel/臺(tái)積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律

  • 日前，中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)（CSTIC）在上海開(kāi)幕，為期19天，本次會(huì)議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中，光刻機(jī)一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，截至2019年第四季度，ASML當(dāng)年共售出53臺(tái)EUV NXE：3400系列EUV光刻機(jī)，使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬(wàn)片。他說(shuō)，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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華為、蘋果7/5nm需求大 臺(tái)積電狂加EUV訂單

  • 2020年因?yàn)槿蚪?jīng)濟(jì)的問(wèn)題，本來(lái)電子行業(yè)會(huì)下滑，但是晶圓代工場(chǎng)合不降反升，臺(tái)積電Q1季度營(yíng)收大漲了30%，牢牢坐穩(wěn)了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋果等公司的7nm及5nm工藝需求大，臺(tái)積電目前正在瘋狂增加EUV產(chǎn)能。臺(tái)積電2018年量產(chǎn)了7nm工藝，不過(guò)第一代7nm沒(méi)有EUV工藝加持，2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發(fā)，而今年的5nm工藝則會(huì)全面上馬EUV工藝。根據(jù)臺(tái)積電之前公布的數(shù)據(jù)，7nm及7nm EUV工藝目前每月的產(chǎn)能達(dá)到了11萬(wàn)片晶圓/月，而5nm工藝的月
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三星新建5nm晶圓廠：先進(jìn)EUV技術(shù) 2021年投產(chǎn)

  • 隨著時(shí)間邁入2020年中，以臺(tái)積電和三星為代表的芯片半導(dǎo)體也從7nm逐步向5nm進(jìn)發(fā)，實(shí)際上麒麟1020和蘋果A14芯片就是基于臺(tái)積電5nm工藝，表現(xiàn)相較7nm將會(huì)更上一層樓。很明顯在7nm時(shí)代，三星是落后于臺(tái)積電的，不過(guò)這家巨頭似乎想在5nm時(shí)代彎道超車，近日據(jù)媒體報(bào)道，三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。該工廠是三星在韓國(guó)國(guó)內(nèi)的第六條晶圓代工產(chǎn)線，將應(yīng)用先進(jìn)的極紫外光微影（ExtremeUltravioletlithography，EUV）制程技術(shù)，拿7nmEUV工藝對(duì)比，三星5nmE
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EUV光刻機(jī)斷貨 臺(tái)積電5nm工藝搶三星頭彩：A14/麒麟1020首發(fā)

  • 臺(tái)積電上周發(fā)布了3月及Q1季度財(cái)報(bào),營(yíng)收同比大漲了42%,淡季不淡。不過(guò)接下來(lái)的日子半導(dǎo)體行業(yè)可能不太好過(guò)了,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)斷貨,要延期交付,好在臺(tái)積電今年已經(jīng)在5nm工藝上搶先三星了。根據(jù)ASML之前的報(bào)告,3月底他們下調(diào)了1季度營(yíng)收預(yù)期到24-25億美元,差不多減少了1/4左右的營(yíng)收,毛利率也下滑到了45-46%之間。此外,ASML的EUV光刻機(jī)也因?yàn)榉N種原因斷貨了,雖然訂單沒(méi)有取消,但是交付要延期了,三星、臺(tái)積電今年都不太容易快速擴(kuò)張EUV產(chǎn)能。不過(guò)臺(tái)積電在這次危機(jī)中更有優(yōu)勢(shì)地位,他們包
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三星首次將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM生產(chǎn)

  • 據(jù)ZDnet報(bào)道，三星宣布，已成功將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM的生產(chǎn)中。
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euv介紹

在半導(dǎo)體行業(yè)，EUV一般指EUV光刻，即極紫外光刻。 極紫外光刻（英語(yǔ)：Extreme ultra-violet，也稱EUV或EUVL）是一種使用極紫外（EUV）波長(zhǎng)的光刻技術(shù)。 EUV光刻采用波長(zhǎng)為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長(zhǎng)一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下的特征尺寸。 根據(jù)瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長(zhǎng)可以提供極高 [ 查看詳細(xì) ]

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