臺(tái)積電推出28HPM新制程
在最近舉行的臺(tái)積電2011技術(shù)討論會(huì)上,臺(tái)積電正式公布了業(yè)內(nèi)首款號(hào)稱專門為智能手機(jī)/平板電腦應(yīng)用優(yōu)化的芯片制程工藝,這款新制程工藝將成為臺(tái)積電28nm制程工藝的新成員,其代號(hào)則為28HPM(高性能移動(dòng)設(shè)備用制程),據(jù)臺(tái)積電研發(fā)部門的高級(jí)副總裁蔣尚義表示,該制程專為智能手機(jī),平板電腦相關(guān) 的產(chǎn)品優(yōu)化。
本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/118367.htm另有報(bào)道指28HPM制程推出的一個(gè)主要目標(biāo)是蘋果公司的產(chǎn)品,此前一直有傳言稱臺(tái)積電將為蘋果代工A5處理器的未來(lái)型號(hào)產(chǎn)品.
當(dāng)然,臺(tái)積電可能也考慮了其它在智能手機(jī)/平板電腦應(yīng)用領(lǐng)域的合作伙伴,如Nvidia,高通等。當(dāng)記者詢問(wèn)蔣尚義該制程是否專為某家客戶量身定做時(shí),蔣僅回答稱該制程是為基于ARM處理器架構(gòu)的處理器產(chǎn)品而推出的。
算上28HPM之后,目前為止臺(tái)積電在28nm節(jié)點(diǎn)一共有四種不同的制程,分別是:
1-代號(hào)為CLN28LP(簡(jiǎn)稱28LP)的制程,該制程仍采用傳統(tǒng)的SiON柵絕緣層技術(shù);
2-代號(hào)為CLN28HPL((簡(jiǎn)稱28HPL)的制程,該制程采用臺(tái)積電第一代HKMG技術(shù),為低功耗制程;
3-代號(hào)為CLN28HP(簡(jiǎn)稱28HP)的制程,該制程同樣采用臺(tái)積電第一代HKMG技術(shù),為高性能制程;
4-代號(hào)為CLN28HPM(28HPM)的制程,該制程同樣采用臺(tái)積電第一代HKMG技術(shù),主要面向智能手機(jī)/平板電腦產(chǎn)品,為采用了ARM架構(gòu)的處理器優(yōu)化,可適用于運(yùn)行頻率在1.8GHz以上,功耗在440mW水平的產(chǎn)品。與其它幾種臺(tái)積電的28nm制程類似,該制程的核心電壓為0.9V,支持1.8/2.5V兩種電壓級(jí)別的I/O電壓,計(jì)劃今年第四季度進(jìn)行生產(chǎn)。
另?yè)?jù)蔣尚義表示,臺(tái)積電的HKMG制程已經(jīng)通過(guò)了 可靠性驗(yàn)證,并已經(jīng)向兩家客戶發(fā)送了原型樣件。他并否認(rèn)了先前外界預(yù)測(cè)的臺(tái)積電HKMG制程(臺(tái)積電將在28nm節(jié)點(diǎn)推出其首代HKMG制程技術(shù))將延后推出的說(shuō)法,并稱臺(tái)積電將如期推出有關(guān)的制程技術(shù)。
臺(tái)積電在會(huì)上還再次聲明,在28nm之后,臺(tái)積電將推出幾種20nm制程,包括CLN20G(20nm通用制程)以及CLN20SOC兩款,均基于臺(tái)積電第二代HKMG制程,其中CLN20G定于2012年第四季度試產(chǎn),而CLN20SOC則定于2013年第二季度試產(chǎn)。
評(píng)論