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應用材料公司推出Centura Carina Etch系統(tǒng)克服高K介電常數(shù)

  • 近日，應用材料公司推出Centura® Carina™ Etch系統(tǒng)用于世界上最先進晶體管的刻蝕。運用創(chuàng)新的高溫技術，它能提供45納米及更小技術節(jié)點上采用高K介電常數(shù)/金屬柵極(HK/MG)的邏輯和存儲器件工藝擴展所必需的材料刻蝕輪廓，是目前唯一具有上述能力并可以用于生產(chǎn)的解決方案。應用材料公司的Carina技術具有獨一無二的表現(xiàn)，它能達到毫不妥協(xié)的關鍵刻蝕參數(shù)要求：平坦垂直，側邊輪廓不含任何硅材料凹陷，同時沒有任何副產(chǎn)品殘留物。 應用材料公司資深副總裁、硅系統(tǒng)業(yè)務
  • 關鍵字： 測試  測量  應用材料  晶體管  刻蝕  IC  制造制程  

三星電子停電事故提前解決

  • 　　8月6日消息， 日前，韓國三星電子公司宣布，之前因為停電而被迫停止運營的芯片生產(chǎn)線，在上周六回復工作，與此同時公司表示，最終造成的實際經(jīng)濟損失，有可能低于之前的預期數(shù)字。 　　據(jù)國外媒體報道，作為世界最大的內(nèi)存芯片制造商，三星電子在上周五的時候，因為停電問題被迫停止了六條芯片生產(chǎn)線的工作。據(jù)公司估算，此次停電造成的損失將達到400億韓元，折合4340萬美元。據(jù)市場分析機構iSuppli透露，此次的停電，將繼續(xù)加劇如今已經(jīng)非常嚴重的NAND閃存芯片短缺，該現(xiàn)象爆發(fā)于8月上旬，據(jù)統(tǒng)計三星NAND生產(chǎn)線占
  • 關鍵字： 三星電子  停電  IC  制造制程  

三星推出80nm制程移動存儲器 二季度量產(chǎn)

  •   據(jù)DigiTimes網(wǎng)站報道，韓國媒體Digital Daily與美國媒體Forbes報導，三星電子（Samsung Electronics）繼2006年8月將80nm制程的1Gb DDR 2標準型DRAM進入量產(chǎn)階段后，27日又發(fā)表了針對手機與移動設備推出的80nm制程DDR存儲器芯片，容量為1Gb，厚度較前代產(chǎn)品薄20％，耗電量減少30％。三星預計將在2007年第二季量產(chǎn)該產(chǎn)品，并預計屆時市場上對1Gb容量的手機存儲器芯片需求量將大幅增加
  • 關鍵字： IC  制造制程  

65nm成為制程應用分水嶺

  •     按照摩爾定律的說法，2006年初半導體制造業(yè)就已經(jīng)進入了65nm時代。不過，令所有人始料不及的是65nm的普及遠遠非預期的那樣迅猛，在很多領域似乎根本不去考慮65nm制程的問題，比如MCU，再如多媒體解碼芯片。于是，我們看到的結果是本該廣泛應用的65nm制程在全面投產(chǎn)18個月之后的應用領域只局限在少數(shù)幾個領域，這其中一向走在消費前沿的CPU和存儲是最火爆的領域，而FPGA則是另一個熱衷于追逐65nm的擁躉。      當90n
  • 關鍵字： IC  制造制程  

OKI新型UV傳感器ML8511采用SI-CMOS制程

  • 沖電氣(OKI)推出內(nèi)建運算放大器的紫外線(UV)傳感器IC——ML8511。該產(chǎn)品運用絕緣上覆硅(SOI)-CMOS，為該公司首款模擬電壓輸出、無濾光器的UV傳感器。OKI將從6月份開始陸續(xù)針對可攜式等用途產(chǎn)品，提供新款UV傳感器樣品。 OKI的UV傳感器IC由于采用了容易高整合度的SOI-CMOS技術，適合于數(shù)字及模擬電路。OKI表示，該公司未來將靈活運用這一特長，加強與連接微處理器的數(shù)字輸出電路，進而與感測式亮度控制傳感器(AmbientLightSensor)構成單一芯片的商品陣容；未來
  • 關鍵字： OKI  SI-CMOS  傳感器  電源技術  模擬技術  IC  制造制程  

半導體制程微細化技術再突破 從65nm到45nm的微觀神話

  • 半導體制程微細化趨勢1965年Intel創(chuàng)始人Moore提出“隨著芯片電路復雜度提升，芯片數(shù)目必將增加，每一芯片成本將每年減少一半”的規(guī)律之后，半導體微細化制程技術日新月異，結構尺寸從微米推向深亞微米，進而邁入納米時代。半導體制程微細化趨勢也改變了產(chǎn)業(yè)的成本結構，10年前IC設計產(chǎn)業(yè)投入線路設計與掩膜制程的費用，僅占總體成本的13%，半導體生產(chǎn)制造成本約占87%。自2003年進入深亞微米制程后，IC線路設計及掩膜成本便大幅提升到62%。當芯片結構體尺寸小于100納米時，光學光刻技術便面臨技術關鍵：硅晶制程
  • 關鍵字： 0704_A  半導體  單片機  電源技術  模擬技術  嵌入式系統(tǒng)  消費電子  雜志_技術長廊  IC  制造制程  消費電子  

東芝今年開始生產(chǎn)閃存芯片 采用43納米制程

  • 據(jù)日本經(jīng)濟新聞4月21日報道，東芝最快將在本會計年度開始采用43納米制程生產(chǎn)閃存芯片，以降低生產(chǎn)成本。 東芝為全球第二大閃存芯片制造商，僅次于韓國三星電子。報道指出，由于芯片價格料在2007/08年度挫跌50%，因此該公司急于提高晶片生產(chǎn)效率。  日經(jīng)新聞稱，使用43納米制程，將可使東芝生產(chǎn)成本降低40%。 報道稱，三星電子計劃今年開始采用50納米制程。
  • 關鍵字： 43納米  東芝  閃存芯片  消費電子  IC  制造制程  消費電子  

PCB前處理導致之制程問題發(fā)生原因討論

  • 1. PCB制程上發(fā)生的問題千奇百怪, 而制程工程師往往擔任起法醫(yī)-驗尸責任(不良成因分析與解決對策). 故發(fā)起此討論題, 主要目的為以設備區(qū)逐一討論分上包含人, 機, 物, 料, 條件上可能會導致產(chǎn)生的問題, 希望大家一起參與提出自己意見及看法.　　　　2. 會使用到前處理設備的制程, 例如:內(nèi)層前處理線, 電鍍一銅前處理線, D/F, 防焊(阻焊)...等等.　　　　3. 以硬板PCB 防焊(阻焊)前處理線為例(各廠商不同而有差異): 刷磨*2組->水洗->酸洗->水洗->冷風
  • 關鍵字： PCB  制程  IC  制造制程  

印刷技術制程加速燃料電池時代來臨

  •     總部位于瑞士的DEK公司日前宣布推出適用于精密電化學燃料電池組件的高速生產(chǎn)制程，可讓各種主要的燃料電池技術大幅節(jié)省每千瓦的耗電成本。該公司利用精密的批量擠壓印刷技術，可以非常高的分辨率為電子厚膜、表面黏著和半導體裝配應用提供高精度、高重復性和高良率的生產(chǎn)特性。 　　DEK指出，燃料電池技術無疑會在未來的能源應用中扮演更重要的角色。以高精度批量擠壓印刷技術來生產(chǎn)燃料電池材料，將會加速此一新時代的來臨。更重要的是，這些制程和設備都已相當成熟穩(wěn)健，而且將從我們?yōu)樘岣呱虡I(yè)應用
  • 關鍵字： 電池  燃料電池  IC  制造制程  

模擬IC制程技術挑戰(zhàn)

  •     隨著終端產(chǎn)品朝向輕薄短小、低耗電和多功能整合三大趨勢發(fā)展，無論對影像、聲音、省電和體積小的質量要求愈來愈高，模擬制程技術主要推動力量在于分別就設計端和制程端來達成芯片的功能整合趨勢－這包含了模擬效能、成本以及Time-to-Market的完美平衡。使得系統(tǒng)在快速可靠的功能（數(shù)字與模擬）執(zhí)行下，同時滿足社會對于系統(tǒng)變得更小、更快、更省電和價格更低的期望。     綜觀模擬IC對質量要求不外乎速度(Speed)、精準(Precision)、功
  • 關鍵字： 電源技術  模擬技術  IC  制造制程  

ST最新20款微控制器復位IC創(chuàng)新制程

  • 　意法半導體(ST)日前推出了20款3引腳微控制器復位IC STM18xx系列，這些電源監(jiān)控器芯片是為大批量生產(chǎn)的成本敏感的微控制器應用專門設計，可直接插入取代工業(yè)標準的DS18xx系列產(chǎn)品以及類似的組件。 　　據(jù)介紹，該系列產(chǎn)品由8個基本復位電路組成：4個5V組件，每個組件有4.62V和4.37V (額定)閾壓選項；4個3V組件，每個組件有3.06V、2.88V和2.55V(額定)閾壓選項，總計20個產(chǎn)品。復位電路是電源電壓監(jiān)控制組件，被廣泛用于監(jiān)視微控制器電源電壓，并在低于容許電壓
  • 關鍵字： ST  復位IC  微控制器  IC  制造制程  

聯(lián)電攜IMEC擴大提供90納米制程服務客戶

  • 　　聯(lián)華電子與歐洲最大的獨立納米電子研究中心IMEC今天宣布，將共同把IMEC旗下的Europractice IC服務擴展至聯(lián)電90納米制程技術上，Europractice客戶將能輕易取得包含0.25、0.18、0.13微米與90納米等來自聯(lián)電的最先進技術，進行產(chǎn)品原型產(chǎn)出與小量生產(chǎn)?！?nbsp; 　　聯(lián)電表示，IMEC的Europractice IC服務，可提供客戶ASIC服務，并協(xié)助其產(chǎn)品快速上市。聯(lián)電多年以來一直與Europractice致力將聯(lián)電硅梭計劃--多重晶圓測試方案&
  • 關鍵字： 90納米  IMEC  服務客戶  聯(lián)電  IC  制造制程  

NVIDIA 90nm芯片量產(chǎn)雙雄制程戰(zhàn)開打

  •     NVIDIA首批90nm制程繪圖芯片已進入緊鑼密鼓的量產(chǎn)階段，面對ATI率先導入90nm制程的動作，并將在2006年1月底發(fā)表新旗艦產(chǎn)品R580，由于NVIDIA之前領先進入130nm制程、但吃到不少苦頭，因而強調繪圖芯片產(chǎn)品設計及結構比制程更為重要。 　　目前包括NVIDIA及ATI繪圖芯片市場主力產(chǎn)品，皆采用110nm制程生產(chǎn)，在新一世代90奈米制程轉換動作方面，ATI搶先一步在2005年第三季（3Q）宣布推出全線桌上型計算機（DT）繪圖卡專用Radeon&nbs
  • 關鍵字： 90nm  NVIDIA  繪圖芯片  IC  制造制程  

英特爾公司開發(fā)超低功耗制程

  • 　　2005 年 9 月 21 日，北京訊――當前，英特爾公司正致力開發(fā)其高性能65 納米（nm）邏輯制程的超低功耗版，以支持面向移動平臺和小型設備的超低功耗芯片的生產(chǎn)。這種超低功耗制程將會是英特爾第二代基于65 納米制造技術的芯片制程。 　　英特爾65 納米（1 納米是 1 米的十億分之一）高性能制程較英特爾當前行業(yè)領先的 90 納米制程在功耗和性能方面雙雙勝出。英特爾此種超低功耗65納米的工藝制程為英特爾芯片設計人員提供了更多選擇，以滿足電控設備用戶對于電路密度、性能及功耗的各種需求。 　　英特爾
  • 關鍵字： 英特爾公司  IC  制造制程  

德州儀器在小區(qū)網(wǎng)關市場上頻傳捷報，碩果累累

  •   TI 業(yè)界領先的 AR7 堪稱全球最受好評的 DSL CPE 解決方案 日前，德州儀器 (TI) 宣布其近期在不斷增長的小區(qū)網(wǎng)關 (RG) 市場上取得了輝煌業(yè)績。截至第三季度末，TI 預計向市場提供的 DSL CPE 及 CO 端口數(shù)量將超過 1 億，而且自其旗艦 RG 平臺 AR7 片上調制解調器于 2003 年部署以來，其端口發(fā)貨量已達 3 千萬件。諸如 AVM、Actiontec、Arcadyan、Aztech Systems Ltd.、NETGEAR、Ne
  • 關鍵字： 德州儀器  IC  制造制程  治療設備類  
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