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未來(lái)三年內(nèi)存價(jià)格將持續(xù)攀升

  • 　　DRAMeXchange傳來(lái)噩耗稱內(nèi)存芯片的價(jià)格在未來(lái)三年內(nèi)將持續(xù)走高。這家市場(chǎng)分析公司將內(nèi)存產(chǎn)業(yè)的興衰周期定為3年左右，據(jù)該公司的分析師表示，2001-2003年，內(nèi)存業(yè)者一直處在虧損期，而2004-2006年則恢復(fù)為持續(xù)盈利的狀態(tài)，2007-2009年間則再度出現(xiàn)虧損期，因此他們預(yù)計(jì)從2010年開(kāi)始，在全球經(jīng)濟(jì)危機(jī)緩和，Windows7日漸流行等因素的影響下，內(nèi)存業(yè)者將再度扭虧為盈，進(jìn)入新的一輪三年盈利期。 　　不過(guò)內(nèi)存業(yè)者仍然面臨另外一個(gè)重要的難題，他們要將制程水品提升到50nm以上級(jí)別則一般
  • 關(guān)鍵字： ASML  光刻  內(nèi)存芯片  

ASML第一季訂單大幅超越預(yù)期 對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)復(fù)蘇抱信心

  • 　　荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)商ASML日前公布，第一季營(yíng)收為7.42億歐元，優(yōu)于路透調(diào)查得到的分析師預(yù)估值7.13億歐元。 　　第一季機(jī)器訂單總量為50部，總價(jià)值為10億歐元，路透調(diào)查預(yù)估分別為43部和10億歐元。 　　首席執(zhí)行官Eric Meurice在聲明中稱：“我們第一季訂單總值為10.04億歐元，預(yù)計(jì)第二季訂單水準(zhǔn)類似，這證實(shí)了半導(dǎo)體行業(yè)正處于上升周期。” 　　分析師將ASML訂單情況視作衡量芯片制造大企業(yè)預(yù)期的風(fēng)向標(biāo)。 　　第一季凈利為1.07億歐元，路透調(diào)查得到的分析
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ASML第一季訂單量繼續(xù)增長(zhǎng)

  • 　　荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)商ASML的訂單狀況顯示今年第一季情況繼續(xù)好轉(zhuǎn)，投資者將詳細(xì)審視該公司業(yè)績(jī)，以尋找芯片行業(yè)結(jié)構(gòu)性復(fù)蘇的跡象。 　　分析師將該公司的訂單情況視作英特爾和臺(tái)積電等大型芯片生產(chǎn)商業(yè)績(jī)預(yù)估的風(fēng)向標(biāo)。 　　根據(jù)路透調(diào)查，第一季半導(dǎo)體光刻設(shè)備訂單料為43筆，多于前一季的40筆。 　　ASML是全球最大的光刻設(shè)備生產(chǎn)商，其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手包括日本的Nikon和佳能。 　　分析師預(yù)計(jì)ASML第一季凈利為9,900萬(wàn)歐元(1.324億美元)，營(yíng)收為7.13億歐元。15位分析師的營(yíng)收預(yù)估范圍為5.90億
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去年光刻機(jī)市場(chǎng)銷量總體下跌47%

  • 　　據(jù) Information Network報(bào)道，繼2008年銷量下跌25%之后，2009年全球半導(dǎo)體光刻工具的銷量進(jìn)一步下跌了47%。按銷售數(shù)量計(jì)算，去年光刻工具的銷量總和下降了54%，其中248nm DUV光刻機(jī)的銷量下降的最嚴(yán)重，售出的數(shù)量下跌了70%。 　　去年光刻機(jī)銷售營(yíng)收最高的是ASML公司，其所占的市場(chǎng)營(yíng)收份額達(dá)到50%，而尼康公司則在銷售的光刻機(jī)數(shù)量方面保持領(lǐng)先，其售出的光刻機(jī)數(shù)量占到了總量的56%。而2008年，ASML公司則在銷售營(yíng)收和銷售機(jī)臺(tái)數(shù)量上均排在頭名。
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半導(dǎo)體能支撐未來(lái)的發(fā)展

  • 　　相比于2009年今年全球半導(dǎo)體業(yè)的態(tài)勢(shì)好了許多，但是仍有少部分人提出質(zhì)疑，2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎? 　　在今年1月由SEMI主辦的工業(yè)策略年會(huì)上(ISS)，有些演講者表示一些擔(dān)憂，認(rèn)為雖然半導(dǎo)體業(yè)正在復(fù)蘇的路上，但是制造商們?nèi)匀鄙偌で?，不肯繼續(xù)大幅的投資，以及不太愿意重新擴(kuò)大招慕員工。 　　恐怕更大的擔(dān)心來(lái)自全球半導(dǎo)體業(yè)間的兼并與重組到來(lái)，以及產(chǎn)業(yè)能否支持得起22納米及以下技術(shù)的進(jìn)步。 　　IBS的CEO Handle Jones認(rèn)為，雖然工業(yè)正在復(fù)蘇，但是在半導(dǎo)體業(yè)運(yùn)營(yíng)中仍面臨成
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臺(tái)積電取得ASML超紫外光微影設(shè)備以研發(fā)新世代工藝

  • 　　TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設(shè)備，是全球六個(gè)取得這項(xiàng)設(shè)備的客戶伙伴之一。 　　這項(xiàng)設(shè)備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(GigaFab™)-臺(tái)積十二廠，用以發(fā)展新世代的工藝技術(shù)。TSMC也將成為全球第一個(gè)可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專業(yè)集成電路制造服務(wù)業(yè)者。 　　相較于現(xiàn)行浸潤(rùn)式微影技術(shù)以193納米波長(zhǎng)當(dāng)作光源，超
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半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)：全面走出陰影

  • 　　10月是收獲的季節(jié)，對(duì)全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)來(lái)說(shuō)，這句話同樣適用。經(jīng)歷了全球經(jīng)濟(jì)危機(jī)后，各大設(shè)備公司10-11月公布的季度報(bào)表開(kāi)始全面飄紅。 　　Applied Materials 11月11日公布的09年第4季財(cái)報(bào)顯示公司已扭虧為盈，凈收入實(shí)現(xiàn)1.38億美元，而上季虧損為5500萬(wàn)美元。其Q4銷售額為15.3億美元，其中半導(dǎo)體設(shè)備銷售占6.56億美元，公司同時(shí)已收到了6.29億美元的半導(dǎo)體設(shè)備新訂單。 　　ASML總裁兼CEO Eric Meurice 更是喜不自勝，因?yàn)樵?0月14日公布的09
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光刻巨頭ASML四季度來(lái)首次盈利

  • 　　隨著芯片廠商設(shè)備訂單的恢復(fù)，歐洲最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML報(bào)出了2930萬(wàn)美元的凈利潤(rùn)，為四個(gè)季度來(lái)首次盈利。 　　ASML在今天的聲明中表示該公司第三季度凈利潤(rùn)為1970萬(wàn)歐元(2930萬(wàn)美元)，即每股5歐分，低于去年同期7330萬(wàn)歐元的利潤(rùn)水平。不過(guò)這超過(guò)了彭博社調(diào)查7位分析師所得出的1060萬(wàn)歐元的市場(chǎng)預(yù)期。 　　該公司首席執(zhí)行官埃里克·莫里斯(EricMeurice)表示，ASML的設(shè)備可以讓芯片客戶生產(chǎn)出尺寸更小的芯片，隨著客戶在設(shè)備投資上恢復(fù)投入，該公司本季度銷售額將
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ASML：客戶下單增溫　微顯影設(shè)備2010年成長(zhǎng)30%

  • 　　半導(dǎo)體市場(chǎng)回溫，ASML市場(chǎng)智庫(kù)總監(jiān)Antonio Mesquida Küsters表示，客戶對(duì)設(shè)備下單需求增溫，他引用研究機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)，2010年半導(dǎo)體微顯影設(shè)備可望成長(zhǎng)30%至少達(dá)到40億歐元。尤其晶圓代工領(lǐng)域，經(jīng)過(guò)18個(gè)月的壓低資本支出，現(xiàn)在業(yè)者更積極投資擴(kuò)充產(chǎn)能，他個(gè)人亦樂(lè)見(jiàn)臺(tái)積電積極擴(kuò)充產(chǎn)能，滿足客戶投單需求的做法。 　　Küsters表示，2008 年是變動(dòng)相當(dāng)劇烈的一年，回顧2007年時(shí)研究機(jī)構(gòu)還對(duì)2008年奧運(yùn)所帶來(lái)的商機(jī)相當(dāng)樂(lè)觀，孰料DRAM價(jià)格快速崩落約65%，緊
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2010決勝年　ASML 主攻38納米、EUV設(shè)備

  • 　　全球最大半導(dǎo)體微顯影設(shè)備業(yè)者ASML表示，目前客戶訂單增加相當(dāng)多，但主是來(lái)自半導(dǎo)體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴(kuò)充的需求，半導(dǎo)體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導(dǎo)體制程，摩爾定律預(yù)料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進(jìn)的浸潤(rùn)式微顯影機(jī)種來(lái)看，新一代的機(jī)種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來(lái)將快速增加出貨，同時(shí)深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單，對(duì)ASML來(lái)說(shuō)2010年將是極重要的一年。 　　ASML NXT技術(shù)平臺(tái)資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機(jī)種NXT 1950i
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EUV: 一場(chǎng)輸不起的賭局

  • 　　2010年， ASML將有5臺(tái)最先進(jìn)的EUV設(shè)備整裝發(fā)往全球的5家客戶。業(yè)界傳言，最新的NXE3100系統(tǒng)將發(fā)送給3家頂級(jí)存儲(chǔ)器廠商和2家頂級(jí)邏輯廠商。EUV勝利的曙光正在向我們招手，雖然目前工程師們還在荷蘭Veldhoven專為EUV新建的大樓中忙碌，在設(shè)備出廠前，解決正在發(fā)生的問(wèn)題，并預(yù)測(cè)著各種可能發(fā)生的問(wèn)題及解決方案。 　　人們談?wù)揈UV的各種技術(shù)問(wèn)題已歷時(shí)數(shù)年，因?yàn)槠洳ㄩL(zhǎng)較目前的193nm縮短10倍以上，EUV一直是通往22nm的實(shí)力派參賽選手之一。與此同時(shí)，延伸immersion技術(shù)，用其
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EUV蓄勢(shì)待發(fā) Carl Zeiss向ASML出貨EUV光學(xué)系統(tǒng)

  • 　　德國(guó)Carl Zeiss SMT AG已向半導(dǎo)體設(shè)備商ASML出貨首臺(tái)EUV光學(xué)系統(tǒng)。該公司已使EUV光學(xué)系統(tǒng)達(dá)到了生產(chǎn)要求。 　　光學(xué)系統(tǒng)是EUV設(shè)備的核心模塊，首臺(tái)EUV設(shè)備預(yù)計(jì)將在2010年出貨。幾周前，美國(guó)公司Cymer完成了EUV光源的開(kāi)發(fā)，EUV光源是EUV光刻設(shè)備另一個(gè)關(guān)鍵模塊。該技術(shù)將使芯片制造商進(jìn)一步縮小芯片的特征尺寸，提高生產(chǎn)效率。 　　據(jù)Carl Zeiss 介紹，目前出貨的光學(xué)系統(tǒng)已經(jīng)研發(fā)了約15年。
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ASML一體化光刻解決方案延續(xù)摩爾定律

  • 　　ASML集團(tuán)公司在美國(guó)舊金山舉行的SEMICON West展會(huì)上發(fā)布多項(xiàng)全新光刻設(shè)備，讓芯片制造商能夠繼續(xù)縮小半導(dǎo)體器件尺寸。FlexRay™ (可編程照明技術(shù))和BaseLiner™ (反饋式調(diào)控機(jī)制)為ASML一體化光刻技術(shù) (holistic lithography)的一部分，具有高穩(wěn)定性，能夠優(yōu)化和穩(wěn)定制造工藝。 　　半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的推動(dòng)力量來(lái)自小型化趨勢(shì)，以降低生產(chǎn)成本，同時(shí)提高器件性能。不過(guò)，隨著半導(dǎo)體器件尺寸的縮小，工藝窗口(生產(chǎn)出合格芯片的工藝允許偏差)也相應(yīng)
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ASML的上半年訂單落空 預(yù)期下半年有望回復(fù)

  • 　　按全球第一大光刻設(shè)備供應(yīng)商ASML公司的預(yù)估，其Q1的銷售額將從08年Q4的4.94億歐元下降到1.84億歐元，而去年同期為9.19億歐元，下降達(dá)80%。 　　ASML預(yù)計(jì)Q2的銷售額在2.1-2.3億歐元間，因?yàn)槭芄に囍瞥痰倪M(jìn)一步縮小推動(dòng)，產(chǎn)業(yè)可能會(huì)在今年下半年開(kāi)始復(fù)蘇，訂單回歸到4.0-5.0億歐元。新的工藝制程會(huì)要求購(gòu)買(mǎi)新的或者升級(jí)現(xiàn)有的設(shè)備。 　　如08年僅只有各領(lǐng)域的領(lǐng)先者在購(gòu)買(mǎi)設(shè)備，主要集中在如閃存flash的45nm、DRAM的55nm及代工的45nm客戶。預(yù)計(jì)2009年會(huì)加速工藝制
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Gartner發(fā)布2008年設(shè)備商排名 ASML取代TEL排名第二

  • 　　Gartner近日發(fā)布2008年半導(dǎo)體設(shè)備商排名，Applied Materials仍位居榜首。 　　去年，盡管Applied Materials的銷售收入減少39.8%，但市場(chǎng)份額占13.2%。 　　ASML取代了TEL位居第二。ASML的先進(jìn)技術(shù)使其193nm沉浸式光刻設(shè)備獲得良好的需求。Teradyne入圍前十，同時(shí)也摘得測(cè)試市場(chǎng)中的桂冠。 　　總體來(lái)看，2008年全球半導(dǎo)體設(shè)備支出總額為307億美元，同比減少31.7%。從分類市場(chǎng)來(lái)看，晶圓廠設(shè)備收入減少32.8%，后端設(shè)備減少27.2%
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