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iSuppli警告：DRAM下半年供不應(yīng)求

  • 　　市場研究業(yè)者iSuppli警告，由于動態(tài)隨機存取內(nèi)存(DRAM)芯片的制造產(chǎn)能有限，DRAM市場下半年可能供不應(yīng)求。 　　分析師霍華德(Mike Howard)預(yù)期，今年DRAM芯片出貨量可望成長49%，其中多數(shù)集中在下半年。他預(yù)測，今年第三、四季的DRAM芯片出貨量將分別比前一季成長11%左右，由于增加的需求都集中在下半年，屆時供應(yīng)DRAM芯片的產(chǎn)能恐難以負荷。 　　iSuppli指出，有兩個問題可能影響下半年的DRAM供應(yīng)量，甚至恐會造成供不應(yīng)求。首先，由于全球最大半導(dǎo)體微影工具供貨商艾斯摩爾
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分析師稱ASML應(yīng)該對內(nèi)存芯片供不應(yīng)求負一定責任

  • 　　對于內(nèi)存廠商來說，已經(jīng)過去的2009年就像是一場噩夢。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn)，可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺，芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準備時間加長，產(chǎn)品價格居高不下的問題。在本周三舉辦的Memcon會議上，一位分析師將今年內(nèi)存廠商遇到的這些問題歸結(jié)為由內(nèi)存廠商自身的問題而引起，不過著名光刻設(shè)備制造商ASML則也在被指責之列。 　　ObjectiveAnalysis市調(diào)公司的分析師JimHandy認為內(nèi)存市場的上揚期恐怕不久便會結(jié)束，他并稱2011年中期或2012年間內(nèi)存芯片市場將再度陷入供過于求的局面
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分析師：ASML是導(dǎo)致內(nèi)存芯片供不應(yīng)求局面的罪魁之一

  • 　　對于內(nèi)存廠商來說，已經(jīng)過去的2009年就像是一場噩夢。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn)，可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺，芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準備時間加 長，產(chǎn)品價格居高不下的問題。在本周三舉辦的Memcon會議上，一位分析師將今年內(nèi)存廠商遇到的這些問題歸結(jié)為由內(nèi)存廠商自身的問題而引起，不過著名光 刻設(shè)備制造商ASML則也在被指責之列。   　　Objective Analysis市調(diào)公司的分析師Jim Handy認為內(nèi)存市場的上揚期恐怕不久便會結(jié)束，他并稱2011年中期或2012年間內(nèi)存芯片
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ASML整合微影方案獲意法采用

  • 　　受惠于晶圓代工與DRAM廠推出先進制程，對浸潤式顯影機臺需求大增，讓半導(dǎo)體設(shè)備大廠艾斯摩爾(ASML)2010年接單暢旺，隨著半導(dǎo)體制程推進5x奈米以下先進制程，制程復(fù)雜度大增，亦需加緊提高量良率，讓ASML甫于2009年推出的整合微影技術(shù)(Holistic Lithography)系列產(chǎn)品，已獲得意法半導(dǎo)體(STMicroelectronics)采用于28奈米制程。 　　ASML指出，隨著半導(dǎo)體制程推進到50x奈米以下制程，業(yè)者投入的經(jīng)費越來越高昂，生產(chǎn)時程亦拉得更長，良率更難提升，制程容許度(p
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Sokudo早餐會上論光刻技術(shù)趨勢

  • 　　在SEMICON West舉行的Sokudo光刻論壇上對于實現(xiàn)22nm的各類光刻技術(shù)的進展、挑戰(zhàn)與未來市場前景進行了熱烈的討論。 　　作為193nm光刻技術(shù)的接替者，ASML仍是全球EUV(遠紫外光光刻機) 技術(shù)的領(lǐng)先供應(yīng)商。該公司的首臺NXE3100機器將如期發(fā)貨，目前正在作最后的組裝及測試。盡管如此，由于EUV技術(shù)中目前能提供的光源功率及掩模缺陷仍是此類技術(shù)的主要挑戰(zhàn)。另外，為了達到工業(yè)使用指標急需投入大筆資金。 　　Nikon指出它仍繼續(xù)采用兩次圖形曝光方法來延伸193nm高NA(數(shù)值孔徑)
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Imec和ASML共同驗證用于沉浸式光刻的新型照明系統(tǒng)

  • 　　Imec和ASML已合作驗證ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可編程照明系統(tǒng)FlexRay，通過22nm SRAM單元的制造展示了其潛在應(yīng)用價值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i掃描光刻設(shè)備將安裝FlexRay產(chǎn)品，幫助imec進一步開拓沉浸式光刻技術(shù)的應(yīng)用。
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ASML Q2業(yè)績創(chuàng)新高 6套EUV設(shè)備將交貨

  • 　　ASML日前宣布，其2010年Q2凈銷售達到1,069 million歐元，凈收入為239 million 歐元，Q2的凈訂單價值1,179 million 歐元，包括了48套新系統(tǒng)及11套二手系統(tǒng)。各項數(shù)據(jù)均較2010年Q1有所提高。 　　ASML總裁兼CEO Eric Meurice認為，Q2銷售的強勁增長證明了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近期對于光刻設(shè)備的需求，已有近20套NXT:1950i 設(shè)備運出。所有ASML的先進NXT光刻機都包括了一個或多個一體化光刻部件。對于下一代將要應(yīng)用于20nm以下節(jié)點的產(chǎn)品，E
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32nm制程用沉浸光刻設(shè)備客戶需求量劇增：ASML公司召回先前遭辭退員工

  • 　　據(jù)荷蘭ASML公司高管透露，由于最近半導(dǎo)體廠商對沉浸式光刻設(shè)備的需求量劇增，著名光刻廠商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工，同時還 招聘了數(shù)百名新員工，這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工，同時還預(yù)計公司將可保證各個客戶對光刻設(shè)備的訂單需求。 　　由于消費電子設(shè)備以及PC市場對高密度芯片的需求在不斷上升，ASML公司的高管表示他預(yù)計他的客戶們在今明兩年不會碰上所生產(chǎn)的芯片產(chǎn)品供過于求的情況。 　　據(jù)ASML公司今年一季度公布的財報數(shù)據(jù)顯示，這家光刻廠商今年一季度末的N
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聯(lián)電計劃發(fā)行12.98億新股募資190億新臺幣

  • 　　據(jù)臺灣媒體報道，聯(lián)電近日宣布，將發(fā)動公司成立30年來首次私募案。業(yè)界揣測，聯(lián)電將藉此引進新策略伙伴，對象包括整合元件制造廠德儀 (TI)、設(shè)備大廠ASML，以及新崛起的同業(yè)Global Foundries(GF)等，再次挑戰(zhàn)臺積電。 　　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)景氣佳，晶圓代工廠聯(lián)電積極擴產(chǎn)，南科12寸廠第3、4期廠房20日完工啟用。聯(lián)電董事會同時決議，辦理12.98億股額度私募增資案，換算相當公司已發(fā)行股數(shù)的一成，每股面額10元。以聯(lián)電前天收盤價計算，最多可募得逾190億元資金。 　　聯(lián)電發(fā)言人劉啟東坦言，&
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未來三年內(nèi)存價格將持續(xù)攀升

  • 　　DRAMeXchange傳來噩耗稱內(nèi)存芯片的價格在未來三年內(nèi)將持續(xù)走高。這家市場分析公司將內(nèi)存產(chǎn)業(yè)的興衰周期定為3年左右，據(jù)該公司的分析師表示，2001-2003年，內(nèi)存業(yè)者一直處在虧損期，而2004-2006年則恢復(fù)為持續(xù)盈利的狀態(tài)，2007-2009年間則再度出現(xiàn)虧損期，因此他們預(yù)計從2010年開始，在全球經(jīng)濟危機緩和，Windows7日漸流行等因素的影響下，內(nèi)存業(yè)者將再度扭虧為盈，進入新的一輪三年盈利期。 　　不過內(nèi)存業(yè)者仍然面臨另外一個重要的難題，他們要將制程水品提升到50nm以上級別則一般
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ASML第一季訂單大幅超越預(yù)期 對半導(dǎo)體行業(yè)復(fù)蘇抱信心

  • 　　荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)商ASML日前公布，第一季營收為7.42億歐元，優(yōu)于路透調(diào)查得到的分析師預(yù)估值7.13億歐元。 　　第一季機器訂單總量為50部，總價值為10億歐元，路透調(diào)查預(yù)估分別為43部和10億歐元。 　　首席執(zhí)行官Eric Meurice在聲明中稱：“我們第一季訂單總值為10.04億歐元，預(yù)計第二季訂單水準類似，這證實了半導(dǎo)體行業(yè)正處于上升周期。” 　　分析師將ASML訂單情況視作衡量芯片制造大企業(yè)預(yù)期的風向標。 　　第一季凈利為1.07億歐元，路透調(diào)查得到的分析
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ASML第一季訂單量繼續(xù)增長

  • 　　荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)商ASML的訂單狀況顯示今年第一季情況繼續(xù)好轉(zhuǎn)，投資者將詳細審視該公司業(yè)績，以尋找芯片行業(yè)結(jié)構(gòu)性復(fù)蘇的跡象。 　　分析師將該公司的訂單情況視作英特爾和臺積電等大型芯片生產(chǎn)商業(yè)績預(yù)估的風向標。 　　根據(jù)路透調(diào)查，第一季半導(dǎo)體光刻設(shè)備訂單料為43筆，多于前一季的40筆。 　　ASML是全球最大的光刻設(shè)備生產(chǎn)商，其競爭對手包括日本的Nikon和佳能。 　　分析師預(yù)計ASML第一季凈利為9,900萬歐元(1.324億美元)，營收為7.13億歐元。15位分析師的營收預(yù)估范圍為5.90億
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去年光刻機市場銷量總體下跌47%

  • 　　據(jù) Information Network報道，繼2008年銷量下跌25%之后，2009年全球半導(dǎo)體光刻工具的銷量進一步下跌了47%。按銷售數(shù)量計算，去年光刻工具的銷量總和下降了54%，其中248nm DUV光刻機的銷量下降的最嚴重，售出的數(shù)量下跌了70%。 　　去年光刻機銷售營收最高的是ASML公司，其所占的市場營收份額達到50%，而尼康公司則在銷售的光刻機數(shù)量方面保持領(lǐng)先，其售出的光刻機數(shù)量占到了總量的56%。而2008年，ASML公司則在銷售營收和銷售機臺數(shù)量上均排在頭名。
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半導(dǎo)體能支撐未來的發(fā)展

  • 　　相比于2009年今年全球半導(dǎo)體業(yè)的態(tài)勢好了許多，但是仍有少部分人提出質(zhì)疑，2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎? 　　在今年1月由SEMI主辦的工業(yè)策略年會上(ISS)，有些演講者表示一些擔憂，認為雖然半導(dǎo)體業(yè)正在復(fù)蘇的路上，但是制造商們?nèi)匀鄙偌で?，不肯繼續(xù)大幅的投資，以及不太愿意重新擴大招慕員工。 　　恐怕更大的擔心來自全球半導(dǎo)體業(yè)間的兼并與重組到來，以及產(chǎn)業(yè)能否支持得起22納米及以下技術(shù)的進步。 　　IBS的CEO Handle Jones認為，雖然工業(yè)正在復(fù)蘇，但是在半導(dǎo)體業(yè)運營中仍面臨成
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臺積電取得ASML超紫外光微影設(shè)備以研發(fā)新世代工藝

  • 　　TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設(shè)備，是全球六個取得這項設(shè)備的客戶伙伴之一。 　　這項設(shè)備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(GigaFab™)-臺積十二廠，用以發(fā)展新世代的工藝技術(shù)。TSMC也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專業(yè)集成電路制造服務(wù)業(yè)者。 　　相較于現(xiàn)行浸潤式微影技術(shù)以193納米波長當作光源，超
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