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ASML正式承認(rèn)，芯片技術(shù)開始轉(zhuǎn)移

  • 在遭遇了西方的芯片技術(shù)封鎖后，我國自主研發(fā)高端光刻機的呼聲越來越高，雖然近日來很多權(quán)威人士對這樣的做法潑來了冷水，但是國際巨頭ASML卻對國產(chǎn)高端光刻機的研發(fā)充滿了“信心”。眾所周知，我國在光刻機研發(fā)領(lǐng)域起步較晚，相比于西方仍然具有較大差距，并且根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計，一臺EUV光刻機價值上億美元，并且零件數(shù)量高達(dá)上萬件，分別來自全球5000多家供應(yīng)商。更不利的是，美國、日本、德國都是光刻機核心零件的主要供應(yīng)國，而目前它們對中國的科技發(fā)展態(tài)度并不友好，所以這也給國產(chǎn)光刻機零件的供應(yīng)增添了不少難度。即便如此，國產(chǎn)光刻
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臺積電、ASML陸續(xù)加入“美國”半導(dǎo)體聯(lián)盟

  • 近日，美國以為了振興制造業(yè)為由，組成了半導(dǎo)體聯(lián)盟，但是明眼人都能看得出來，此舉明顯是針對國產(chǎn)芯片制造業(yè)崛起的手段。對于半導(dǎo)體聯(lián)盟，全球芯片巨頭也紛紛站隊“美國”，包括高通、臺積電、微軟、谷歌、asml、三星等64家芯片半導(dǎo)體廠商陸續(xù)宣布加入。放眼望去，儼然一副對國產(chǎn)芯片形成包圍圈的樣子。不過，所謂半導(dǎo)體聯(lián)盟，實際是暗流涌動。?以“美國”為首的半導(dǎo)體聯(lián)盟暗流涌動“美國”對我們科技產(chǎn)業(yè)的壓制，在近些年一直沒有停止，甚至眼下的華為仍然受到芯片限制的影響。但在全球一體化的情況下，對華為和國產(chǎn)芯片進行壓制，完全是“
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ASML CEO：施加限制將使中國搞出替代產(chǎn)品 我們會徹底失去該市場

  • 繼本月15日就EUV光刻機出口管制發(fā)表看法后，荷蘭ASML（阿斯麥）CEO溫彼得（Peter Wennink）在23日再次表達(dá)了自己的意見。他強調(diào)的一個重點是，這樣做只會加快中國自主研發(fā)的速度。雖然溫彼得認(rèn)為知識產(chǎn)權(quán)保護力度要保持，但他并不認(rèn)可切斷高端技術(shù)出口的做法?！叭绻悴扇〕隹诠苤拼胧⒅袊袌鼍苤T外，這將迫使他們爭取技術(shù)自主權(quán)……在15年的時間里，他們自己將能夠做出所有的這些東西，而且他們的市場（針對歐洲供應(yīng)商的市場）將徹底消失。”溫彼得在阿斯麥總部所在地——荷蘭費爾德霍芬與媒體交流時時作出該表
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ASML:如美國繼續(xù)對華“卡脖子”，歐洲芯片的中國市場會消失

  • 據(jù)美媒Politico報道，荷蘭光刻機制造商、行業(yè)巨頭ASML的總裁溫寧克日前表示，美國針對中國的芯片出口禁令傷害了歐洲半導(dǎo)體行業(yè)，“15年之內(nèi)，中國將有能力制造所有產(chǎn)品。到那時，歐洲供應(yīng)商的中國市場將會消失?！薄　貙幙苏f，歐盟不應(yīng)根據(jù)美國戰(zhàn)略而限制高端技術(shù)向中國出口，這樣會加速幫助中國實現(xiàn)“科技自主”?！　〗陙恚S著美國對中興通訊、華為以及眾多中國高科技公司的打壓，歐洲一些芯片制造關(guān)鍵技術(shù)和產(chǎn)品未獲得美國許可，無法出口給中國。這種針對中國的“卡脖子”做法也讓一些歐洲企業(yè)利潤下降明顯，其中原因是歐洲對
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ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機一字之差大不同

  • 　　近日，中芯國際與ASML達(dá)成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱“除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機。”但是這一說法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?！　】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實際上也是如此?！　SML澄清與中
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ASML 5nm光刻機搶破頭：臺積電一開口就18臺 三星英特爾急了

  • 如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重影銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺最先進的極紫外光刻機需求，如此之大的需求量可以說是史上的天量，三星英特爾急了。ASML光刻機搶破頭　　因為目前全球能夠提供最先進極紫外光刻機的只有荷蘭ASML一家，在剛剛過去的2020年當(dāng)中，ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機，也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話，就占盡了全球半導(dǎo)體新工藝產(chǎn)能的半數(shù)以上還要多?！　《鴮τ谡诓?/li>
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中國芯片業(yè)為什么搞不過一家荷蘭公司

  • 荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報，這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機，中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺。　　有人說阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€能讓臺積電折腰的公司，這一點也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機，是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒有刀，再好的師傅也雕不出來花。　　如果有任何廠商的光刻機設(shè)備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻，廠商就要付給他們以小時計的美金?！　≡?jīng)，某上市公司的光刻機出問題后，排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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全球最大光刻機廠CEO：拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢

  • 拜登上任在即，他會緩解緊張的中美科技局勢嗎？近期，全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示，即使總統(tǒng)換屆，兩國在包括光刻機在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域，仍將出現(xiàn)進一步的對抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開源指令集架構(gòu)RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」？　　離美國新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了。　　在過去川普任職期內(nèi)，中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一。　　由于美國政府的壓力，其最新價值約2億美元的光刻機已停止向中國銷售?！　∮捎诖ㄆ盏呐e動常常出其不意而且瘋狂
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中科院研發(fā)者回應(yīng)5納米光刻技術(shù)突破ASML壟斷

  • 　　今年7月，在中國科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進展，中科院蘇州所聯(lián)合國家納米中心在《納米快報》（Nano Letters）上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團隊研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報》（NanoLetters）。圖截自官網(wǎng)ACS官網(wǎng)　　消息一經(jīng)發(fā)出，外界一片沸騰，一
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荷蘭巨頭1nm光刻機迎新突破！中國訂購的EUV光刻機呢？

  • 　　據(jù)TechWeb網(wǎng)站11月30日最新報道，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經(jīng)與比利時半導(dǎo)體研究機構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機的設(shè)計工作。　　據(jù)了解，先進制程的光刻機對于曝光設(shè)備的分辨率要求更高。與此同時，ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計工作。按照阿斯麥的計劃，預(yù)計相應(yīng)的曝光設(shè)備全線準(zhǔn)備好之后，會在2022年實現(xiàn)商業(yè)化?！　∪欢@家荷蘭企業(yè)的光刻機制造技術(shù)卻變得重大突破之際，我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機至今卻還未到貨。據(jù)悉，中芯
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阿斯麥ASML全新EUV光刻機將于2021年中期發(fā)貨

  • 14日訊，《科創(chuàng)板日報》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進機器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米，并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機？ASML華裔工程師：天方夜譚

  • 9月16日，中國科學(xué)院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱，“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進行布局，集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱，從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此，首先要進行體制機制改革。他稱，目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機構(gòu)，目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置?！斑@個工作還沒有完，只是進行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機構(gòu)全部做完，
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臺積電采購30臺EUV光刻機沖刺7/5nm，ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

  • 臺積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣，已經(jīng)成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶，累計已經(jīng)購買了 30 臺 EUV 設(shè)備。日前，ASML 繼在韓國成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后，也在臺積電先進制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南，成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺EUV系統(tǒng)需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達(dá) 180&nbs
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Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律

  • 日前，中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進工藝的設(shè)備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，截至2019年第四季度，ASML當(dāng)年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機，使用EUV機器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬片。他說，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導(dǎo)體技術(shù)：產(chǎn)能大漲600%

  • 提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機供應(yīng)商，7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機厲害，今天他們宣布了另外一個新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，適用于5nm及更先進工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來越復(fù)雜，這也會導(dǎo)致晶圓中的錯誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測系統(tǒng)，內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng)，能夠產(chǎn)生、控制多個電子束，然后根據(jù)反射回來的電子束成像來分析晶圓質(zhì)量，并有
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