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中國(guó)芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司

  • 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào)，這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺(tái)EUV光刻機(jī)，中國(guó)大陸由于種種原因沒(méi)有買(mǎi)到其中任何一臺(tái)?！　∮腥苏f(shuō)阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€(gè)能讓臺(tái)積電折腰的公司，這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī)，是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒(méi)有刀，再好的師傅也雕不出來(lái)花。　　如果有任何廠商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻，廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金?！　≡?jīng)，某上市公司的光刻機(jī)出問(wèn)題后，排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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全球最大光刻機(jī)廠CEO：拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢(shì)

  • 拜登上任在即，他會(huì)緩解緊張的中美科技局勢(shì)嗎？近期，全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示，即使總統(tǒng)換屆，兩國(guó)在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域，仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對(duì)抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開(kāi)源指令集架構(gòu)RISC-V可能會(huì)讓中國(guó)芯片自主「彎道超車(chē)」？　　離美國(guó)新任總統(tǒng)拜登的上任越來(lái)越近了?！　≡谶^(guò)去川普任職期內(nèi)，中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一。　　由于美國(guó)政府的壓力，其最新價(jià)值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國(guó)銷售。　　由于川普的舉動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
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中科院研發(fā)者回應(yīng)5納米光刻技術(shù)突破ASML壟斷

  • 　　今年7月，在中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進(jìn)展，中科院蘇州所聯(lián)合國(guó)家納米中心在《納米快報(bào)》（Nano Letters）上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報(bào)》（NanoLetters）。圖截自官網(wǎng)ACS官網(wǎng)　　消息一經(jīng)發(fā)出，外界一片沸騰，一
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荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破！中國(guó)訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)呢？

  • 　　據(jù)TechWeb網(wǎng)站11月30日最新報(bào)道，近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）又送來(lái)一則好消息，該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工作。　　據(jù)了解，先進(jìn)制程的光刻機(jī)對(duì)于曝光設(shè)備的分辨率要求更高。與此同時(shí)，ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計(jì)工作。按照阿斯麥的計(jì)劃，預(yù)計(jì)相應(yīng)的曝光設(shè)備全線準(zhǔn)備好之后，會(huì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化?！　∪欢?，這家荷蘭企業(yè)的光刻機(jī)制造技術(shù)卻變得重大突破之際，我國(guó)芯片制造巨頭——中芯國(guó)際自阿斯麥訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)至今卻還未到貨。據(jù)悉，中芯
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阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨

  • 14日訊，《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米，并計(jì)劃于2021年的中期開(kāi)始發(fā)貨。
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)？ASML華裔工程師：天方夜譚

  • 9月16日，中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮在國(guó)新辦發(fā)布會(huì)上介紹稱，“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段要把美國(guó)“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國(guó)家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱，從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段。對(duì)此，首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱，目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu)，目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評(píng)價(jià)、分類資源配置?！斑@個(gè)工作還沒(méi)有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭(zhēng)取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完，
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臺(tái)積電采購(gòu)30臺(tái)EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm，ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

  • 臺(tái)積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣，已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺(tái)上的最大采購(gòu)客戶，累計(jì)已經(jīng)購(gòu)買(mǎi)了 30 臺(tái) EUV 設(shè)備。日前，ASML 繼在韓國(guó)成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后，也在臺(tái)積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺(tái)灣臺(tái)南，成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺(tái)EUV系統(tǒng)需要50個(gè)工程師操作一臺(tái)造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達(dá) 180&nbs
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Intel/臺(tái)積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律

  • 日前，中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)（CSTIC）在上海開(kāi)幕，為期19天，本次會(huì)議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中，光刻機(jī)一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，截至2019年第四季度，ASML當(dāng)年共售出53臺(tái)EUV NXE：3400系列EUV光刻機(jī)，使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬(wàn)片。他說(shuō)，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導(dǎo)體技術(shù)：產(chǎn)能大漲600%

  • 提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商，7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過(guò)ASML不只是光刻機(jī)厲害，今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測(cè)機(jī)HMI eScan1000，適用于5nm及更先進(jìn)工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來(lái)越復(fù)雜，這也會(huì)導(dǎo)致晶圓中的錯(cuò)誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測(cè)系統(tǒng)，內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng)，能夠產(chǎn)生、控制多個(gè)電子束，然后根據(jù)反射回來(lái)的電子束成像來(lái)分析晶圓質(zhì)量，并有
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光刻機(jī)制造商ASML：疫情中公司訂單依然強(qiáng)勁

  • 據(jù)外媒報(bào)道，由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來(lái)的不確定性，三星和臺(tái)積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績(jī)預(yù)期。不過(guò)，這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充說(shuō)，該公司的設(shè)備訂單依然強(qiáng)勁，需求也沒(méi)有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說(shuō)：“需求前景沒(méi)有變化，今年我們沒(méi)有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當(dāng)前形勢(shì)充滿挑戰(zhàn)，但到目前為止，我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務(wù)。”但溫寧克補(bǔ)充說(shuō)：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場(chǎng)、我們的制造能力以及
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2021年ASML將推下一代EUV光刻機(jī) 面向2nm、1nm工藝

  • 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺(tái)EUV光刻機(jī),主要用于臺(tái)積電、三星的7nm及今年開(kāi)始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計(jì)今年出貨35臺(tái)EUV光刻機(jī)。目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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EUV市場(chǎng)供不應(yīng)求，ASML或取代應(yīng)材登全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭

  • 根據(jù)外媒報(bào)導(dǎo)，已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭的美商應(yīng)材公司（Applied Materials），2019年可能將其龍頭寶座，讓給以生產(chǎn)半導(dǎo)體制造過(guò)程中不可或缺曝光機(jī)的荷蘭ASML，原因是受惠即紫外光刻設(shè)備（EUV）的市場(chǎng)需求大增，進(jìn)一步拉抬了ASML的市占率表現(xiàn)。
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EUV光刻機(jī)需求強(qiáng)勁：ASML超應(yīng)用材料成全球第一大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)

  • 用了將近30年的時(shí)間，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML（阿斯麥）終于要超過(guò)Applied Materials（美國(guó)應(yīng)用材料公司），成為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)。
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ASML：邏輯芯片需求強(qiáng)勁延續(xù)至2020年 存儲(chǔ)器則疲弱復(fù)蘇中

  • 半導(dǎo)體芯片設(shè)備制造商ASML執(zhí)行長(zhǎng)日前表示，針對(duì)全球半導(dǎo)體市場(chǎng)狀態(tài)，目前來(lái)說(shuō)高端的邏輯運(yùn)算芯片需求依舊非常強(qiáng)勁，但存儲(chǔ)器市場(chǎng)相較來(lái)說(shuō)就顯得疲弱，不過(guò)即便如此，目前存儲(chǔ)器市場(chǎng)已開(kāi)始逐漸復(fù)蘇。
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從ASML“斷供”中芯國(guó)際看國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備情況

  • 本周（2019.11.04-2019.11.08）上證指數(shù)上漲0.20%，深證成指上漲0.95%，創(chuàng)業(yè)板指上漲1.44%，申萬(wàn)電子指數(shù)上漲2.75%，位列申萬(wàn)28 個(gè)一級(jí)行業(yè)漲跌幅第1 位。目前，電子板塊TTM 市盈率為39 倍，位列申萬(wàn)28 個(gè)一級(jí)行業(yè)的第3 位。股價(jià)漲幅前五名：佳禾智能(68.990, -2.27, -3.19%)、鵬輝能源(21.900, -0.50, -2.23%)、恒久科技(12.380, 0.49, 4.12%)、惠威
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