asml 文章 進(jìn)入asml技術(shù)社區(qū)
華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)?ASML華裔工程師:天方夜譚
- 9月16日,中國科學(xué)院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱,“率先行動”計(jì)劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局,集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱,從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計(jì)劃第二階段。對此,首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱,目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu),目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評價(jià)、分類資源配置?!斑@個工作還沒有完,只是進(jìn)行了一部分,所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完,
- 關(guān)鍵字: 華為 中科院 EUV 光刻機(jī) ASML
Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻:捍衛(wèi)摩爾定律
- 日前,中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會(CSTIC)在上海開幕,為期19天,本次會議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中,光刻機(jī)一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備,EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,截至2019年第四季度,ASML當(dāng)年共售出53臺EUV NXE:3400系列EUV光刻機(jī),使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬片。他說,EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
- 關(guān)鍵字: Intel 臺積電 ASML EUV 光刻 摩爾定律
5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導(dǎo)體技術(shù):產(chǎn)能大漲600%
- 提到荷蘭ASML公司,大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商,7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機(jī)厲害,今天他們宣布了另外一個新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測機(jī)HMI eScan1000,適用于5nm及更先進(jìn)工藝,使得產(chǎn)能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升,晶圓的制造也越來越復(fù)雜,這也會導(dǎo)致晶圓中的錯誤更多,HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測系統(tǒng),內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng),能夠產(chǎn)生、控制多個電子束,然后根據(jù)反射回來的電子束成像來分析晶圓質(zhì)量,并有
- 關(guān)鍵字: 5nm ASML 產(chǎn)能
光刻機(jī)制造商ASML:疫情中公司訂單依然強(qiáng)勁
- 據(jù)外媒報(bào)道,由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性,三星和臺積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績預(yù)期。不過,這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充說,該公司的設(shè)備訂單依然強(qiáng)勁,需求也沒有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克(Peter Wennink)說:“需求前景沒有變化,今年我們沒有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當(dāng)前形勢充滿挑戰(zhàn),但到目前為止,我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務(wù)?!钡珳貙幙搜a(bǔ)充說:“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場、我們的制造能力以及
- 關(guān)鍵字: 光刻機(jī) ASML
2021年ASML將推下一代EUV光刻機(jī) 面向2nm、1nm工藝
- 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機(jī),主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計(jì)今年出貨35臺EUV光刻機(jī)。目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
- 關(guān)鍵字: ASML EUV
EUV市場供不應(yīng)求,ASML或取代應(yīng)材登全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭
- 根據(jù)外媒報(bào)導(dǎo),已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭的美商應(yīng)材公司(Applied Materials),2019年可能將其龍頭寶座,讓給以生產(chǎn)半導(dǎo)體制造過程中不可或缺曝光機(jī)的荷蘭ASML,原因是受惠即紫外光刻設(shè)備(EUV)的市場需求大增,進(jìn)一步拉抬了ASML的市占率表現(xiàn)。
- 關(guān)鍵字: EUV ASML 半導(dǎo)體設(shè)備
EUV光刻機(jī)需求強(qiáng)勁:ASML超應(yīng)用材料成全球第一大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)
- 用了將近30年的時(shí)間,荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML(阿斯麥)終于要超過Applied Materials(美國應(yīng)用材料公司),成為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)。
- 關(guān)鍵字: EUV光刻機(jī) ASML 半導(dǎo)體
ASML除了光刻機(jī)還有什么秘密武器
- ASML( Advanced Semiconductor Material Lithography)是半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)的主要供應(yīng)商,也是EUV系統(tǒng)的唯一供應(yīng)商。根據(jù)Network題為“Sub 100nm光刻:市場分析與戰(zhàn)略問題”的報(bào)道,ASML當(dāng)前取得的成績可以匯總為以下幾點(diǎn): 1)ASML占據(jù)EUV光刻市場100%的份額; 2)ASML占據(jù)浸沒式193nm DUV光刻市場93%的份額; 3)ASML占據(jù)248nm DUV光刻行業(yè)73%的份額?! ?016年,ASML以31億美元收購了He
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機(jī)
asml介紹
您好,目前還沒有人創(chuàng)建詞條asml!
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對asml的理解,并與今后在此搜索asml的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對asml的理解,并與今后在此搜索asml的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473