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三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機(jī)

  • 日前，日本三井化學(xué)宣布將在其巖國大竹工廠設(shè)立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線，開始量產(chǎn)半導(dǎo)體最尖端光刻機(jī)的零部件產(chǎn)品（保護(hù)半導(dǎo)體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品）。據(jù)悉，此種CNT薄膜可以實(shí)現(xiàn)92%以上的高EUV透射率和超過1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學(xué)預(yù)期年產(chǎn)能力為5000張，生產(chǎn)線預(yù)計(jì)于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數(shù)值孔徑、高輸出EUV光刻機(jī)提供支持。
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可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布Hyper NA EUV光刻機(jī)：死胡同不遠(yuǎn)了

  • 6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機(jī)，同時正在研究更強(qiáng)大的Hyper NA EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)可將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機(jī)孔徑數(shù)值只有0.33，對應(yīng)產(chǎn)品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預(yù)計(jì)到2025年可以量產(chǎn)2nm，再往后就得加入多重曝光，預(yù)計(jì)到2027年能實(shí)現(xiàn)1.4nm的量產(chǎn)。High NA光刻機(jī)升級到了
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光刻機(jī)巨頭 ASML 聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特魯斯特逝世，享年 98 歲

  • IT之家 6 月 12 日消息，光刻機(jī)巨頭 ASML 公司 6 月 11 日在社交媒體發(fā)文，悼念 ASML 創(chuàng)始人之一維姆?特魯斯特（Wim Troost）離世。另據(jù)《埃因霍溫日報(bào)》，Wim 于上周五（6 月 8 日）上午逝世，享年 98 歲。ASML 稱，“Wim Troost 去世了。Wim 是我們的創(chuàng)始元老之一，也是 1987 年至 1990 年期間的 CEO，那時 ASML 正努力爭取其第一個客戶。退休后，Wim 一直是 ASML 和高科技產(chǎn)業(yè)的真正大使。他激勵了一代又一代的后人。我們感
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美國芯片管控引ASML吐槽：倒逼中國廠商造出更先進(jìn)光刻機(jī)

  • 快科技6月7日消息，近日，ASML公司CEO公開表示，美國嚴(yán)厲的芯片管控規(guī)定，只會倒逼中國廠商進(jìn)步更快。ASML CEO表示，多年來，公司都不用擔(dān)心設(shè)備的去向會受到政治限制，但突然之間，這卻變成了全世界最重要的話題之一。過去一段時間，美國一直在向荷蘭施壓，以阻止中國獲得關(guān)鍵的半導(dǎo)體技術(shù)。去年，荷蘭政府宣布了新的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施，主要針對先進(jìn)制程的芯片制造技術(shù)，阿斯麥?zhǔn)桩?dāng)其沖。根據(jù)ASML今年1月1日發(fā)布的聲明，荷蘭政府撤銷的是2023年頒發(fā)的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統(tǒng)的出口許可證
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ASML：EUV光刻機(jī)已近極限 追趕技術(shù)還是另辟蹊徑？

  • ASML首席財(cái)務(wù)官達(dá)森（Roger Dassen）表示，EUV技術(shù)路線發(fā)展受歐美限制，且光刻機(jī)已接近技術(shù)極限，此一技術(shù)路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進(jìn)行技術(shù)跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑？將面臨艱難的抉擇。 據(jù)《芯智訊》報(bào)導(dǎo)，臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光）光刻機(jī)，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結(jié)束，預(yù)計(jì)在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關(guān)設(shè)備訂單。ASML預(yù)測其設(shè)備的市場需求有望一路走強(qiáng)至2026年，這主要是受益于各國
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臺積電今年將拿到最新款光刻機(jī)

  • 6月6日消息，據(jù)外媒報(bào)道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進(jìn)的光刻機(jī)，單臺造價(jià)達(dá)3.8億美元。報(bào)道中提到，ASML首席財(cái)務(wù)官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)。英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設(shè)備，第一臺設(shè)備已于12月底運(yùn)往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設(shè)備。據(jù)悉，這些機(jī)器每臺造價(jià)3.5億歐元（3.8億美元），重量相當(dāng)于兩架空中客車A
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ASML今年將向臺積電交付最新款光刻機(jī) 單價(jià)3.8億美元

  • 6月6日消息，荷蘭光刻機(jī)制造商ASML今年將向臺積電交付其最新款光刻機(jī)。據(jù)公司發(fā)言人莫尼克·莫爾斯（Monique Mols）透露，首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森（Roger Dassen）在近期的分析師電話會議中表示，包括臺積電和英特爾在內(nèi)的ASML兩大客戶都將在今年年底前拿到高數(shù)值孔徑極紫外線（high-NA EUV）光刻機(jī)。英特爾已經(jīng)下單購買了這款最新的光刻機(jī)，并于去年12月底將第一臺機(jī)器運(yùn)至其位于俄勒岡州的工廠。目前尚不清楚臺積電何時會收到這些設(shè)備。臺積電代表表示，公司一直與供應(yīng)商保持密切合作，但拒絕對此事
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ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實(shí)驗(yàn)室

  • 自ASML官網(wǎng)獲悉，6月3日，比利時微電子研究中心（imec）與阿斯麥（ASML）宣布在荷蘭費(fèi)爾德霍芬（Veldhoven）開設(shè)聯(lián)合High-NA EUV光刻實(shí)驗(yàn)室（High NA EUV Lithography Lab），由ASML和imec共同運(yùn)營。聲明中稱，經(jīng)過多年的構(gòu)建和集成，該實(shí)驗(yàn)室已準(zhǔn)備好為領(lǐng)先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進(jìn)材料和設(shè)備供應(yīng)商提供第一臺原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀（TWINSCAN EXE：5000）以及周圍的處理和計(jì)量工具。據(jù)悉，該聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室的開放是High-NA EUV大批量生
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臺積電CEO秘訪ASML，High-NA EUV光刻機(jī)競賽提前打響？

  • 5月26日，臺積電舉辦“2024年技術(shù)論壇臺北站”的活動，臺積電CEO魏哲家罕見的沒有出席，原因是其秘密前往荷蘭訪問位于埃因霍溫的ASML總部，以及位于德國迪琴根的工業(yè)激光專業(yè)公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源設(shè)備供應(yīng)商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通過社交媒體透露了魏哲家秘密出訪的行蹤。Christophe Fouquet表示他們向魏哲家介紹了最新的技術(shù)和新產(chǎn)品，包括High-NA EUV設(shè)備將如何實(shí)現(xiàn)未來
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臺積電不嫌ASML最新機(jī)臺貴？ 魏哲家密訪歐洲內(nèi)幕

  • 臺積電晶圓代工事業(yè)遙遙領(lǐng)先，但高層顯然一點(diǎn)也沒有掉以輕心。據(jù)韓媒報(bào)導(dǎo)，臺積電總裁魏哲家23日沒有出席在臺北舉行臺積電2024年術(shù)論壇，是因?yàn)樗呀?jīng)前往歐洲秘密造訪艾司摩爾（ASML）荷蘭總部以及德國工業(yè)雷射大廠「創(chuàng)浦」（TRUMPF）。美國芯片大廠英特爾沖刺晶圓代工事業(yè)，目前已成為ASML首臺最新型「High-NA EUV」（高數(shù)值孔徑極紫外光微影系統(tǒng)）的買家。臺積電高層原本表示，臺積電A16先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)并不一定需要這部機(jī)器，原因是價(jià)格太貴了。但據(jù)南韓媒體BusinessKorea報(bào)導(dǎo)，臺積電總裁魏哲家這
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ASML最先進(jìn)的光刻機(jī)，花落誰家？

  • 4月上旬，全球光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設(shè)備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑，旨在滿足未來幾年對于尖端技術(shù)芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點(diǎn)。ASML還計(jì)劃進(jìn)一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F，預(yù)計(jì)將于2026年左右發(fā)布。近日，據(jù)外媒消息，ASML截至2025上半年的高數(shù)值孔徑EUV（High-NA EUV）設(shè)備訂單由英特爾全部包攬，據(jù)悉，英特爾在宣布重新進(jìn)入芯片代工業(yè)務(wù)時搶先
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英特爾宣布世界首臺商用 High NA EUV 光刻機(jī)完成組裝，計(jì)劃明年投入研發(fā)使用

  • IT之家 4 月 19 日消息，英特爾今日宣布其已在位于美國俄勒岡州希爾斯伯勒的 Fab D1X 研發(fā)晶圓廠完成世界首臺商用 High NA（0.55NA） EUV 光刻機(jī)的組裝工作，目前已進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)校準(zhǔn)階段?！?圖源英特爾新聞稿這臺光刻機(jī)型號 TWINSCAN EXE:5000，為 ASML 的首代 High NA EUV 光刻機(jī)，價(jià)值約 3.5 億美元（IT之家備注：當(dāng)前約 25.38 億元人民幣）。就在不久前 ASML 宣布其在荷蘭埃因霍溫總部的另一臺 High NA EUV 光刻機(jī)成功
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阿斯麥向客戶交付第二臺 High NA EUV 光刻機(jī)，買家身份成謎

  • IT之家 4 月 18 日消息，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥（ASML）近日向一家未披露名稱的公司交付了其第二臺高數(shù)值孔徑 (NA) 極紫外 (EUV) 光刻機(jī)。這臺高端光刻機(jī)旨在制造比當(dāng)前低 NA EUV 設(shè)備所能制造的更高密度的芯片。據(jù)路透社報(bào)道，第二臺高端光刻機(jī)的出貨意味著這一最新技術(shù)正逐漸被采用。然而，ASML 對買家身份諱莫如深，只能猜測其身份，路透社指出英特爾、臺積電和三星都是潛在客戶。事實(shí)上，英特爾已經(jīng)購買了首臺高數(shù)值孔徑 EUV 光刻機(jī)，用于其即將推出的 14A 制程節(jié)點(diǎn)。正如 A
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美國：不準(zhǔn)向中國廠商提供光刻機(jī)維修服務(wù)！ASML回應(yīng)

  • 4月18日消息，ASML公開表示，將繼續(xù)為中國大陸廠商提供設(shè)備維修服務(wù)。此前有消息稱，美國計(jì)劃向荷蘭施壓，試圖阻止ASML在中國提供部分設(shè)備的維修服務(wù)。在業(yè)績電話會上，ASML首席執(zhí)行官溫寧克回應(yīng)稱，“目前沒有什么可以阻止我們?yōu)樵谥袊箨懓惭b的設(shè)備提供服務(wù)。”光刻機(jī)是制造芯片的關(guān)鍵設(shè)備，中國大陸是ASML的第二大市場。因此，這種限制可能對中國的晶圓制造商產(chǎn)生重大影響，特別是對于維護(hù)產(chǎn)線穩(wěn)定運(yùn)行所必需的光刻機(jī)核心部件的供應(yīng)和維護(hù)。之前外界擔(dān)心，受限的光刻機(jī)主要是NXT:2000i及更先進(jìn)的機(jī)型，而其他未受限
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ASML發(fā)布2024年第一季度財(cái)報(bào)

  • 阿斯麥（ASML）今日發(fā)布2024年第一季度財(cái)報(bào)。2024年第一季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額53億歐元，毛利率為51.0%，凈利潤達(dá)12億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為36億歐元2，其中6.56億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2024年第二季度的凈銷售額在57億至62億歐元之間，毛利率介于50%到51%，預(yù)計(jì)2024年的凈銷售額將與2023年基本持平。1.累計(jì)裝機(jī)管理銷售額等于凈服務(wù)和升級方案?(field option)?銷售額的總和。2.訂單包括所有的系統(tǒng)銷售訂單和通脹調(diào)整
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