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Intel 4技術(shù)在愛爾蘭大批量生產(chǎn)，點(diǎn)燃?xì)W洲半導(dǎo)體制造能力

  • DIGITAL-得益于ASML的芯片機(jī)，英特爾在愛爾蘭的尖端技術(shù)生產(chǎn)點(diǎn)燃了歐洲革命。在英特爾位于愛爾蘭的最新制造工廠Fab 34的潔凈室里。?英特爾公司?英特爾在技術(shù)領(lǐng)域掀起了波瀾，在愛爾蘭推出了英特爾4技術(shù)的大批量生產(chǎn)，引發(fā)了一場(chǎng)歐洲革命。這標(biāo)志著極紫外光刻機(jī)（EUV）首次用于歐洲大規(guī)模生產(chǎn)。此舉鞏固了英特爾對(duì)快節(jié)奏生產(chǎn)戰(zhàn)略的承諾，并提升了歐洲的半導(dǎo)體制造能力。?這家科技巨頭在愛爾蘭、德國(guó)和波蘭的投資正在推動(dòng)整個(gè)歐洲大陸的尖端價(jià)值鏈。英特爾對(duì)可持續(xù)發(fā)展的執(zhí)著也體現(xiàn)在其愛爾蘭氣候行動(dòng)計(jì)
  • 關(guān)鍵字： 英特爾，EUV，ASML  

ASML今年將推出創(chuàng)紀(jì)錄的EUV光刻機(jī)，價(jià)值3億美元

  • ASML 即將推出 NA 為 0.55，分辨率達(dá)到 8nm 的 EUV 設(shè)備。
  • 關(guān)鍵字： ASML  EUV  臺(tái)積電  

三星電子出售 ASML 部分股份：獲得約 3 萬億韓元，為半導(dǎo)體業(yè)務(wù)籌集資金

  • IT之家 8 月 16 日消息，三星電子在持有荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商 ASML 的股份七年后，決定出售其中一部分。這一舉動(dòng)被解讀為為投資籌集資金的努力，尤其是在今年該公司的營(yíng)業(yè)利潤(rùn)接近虧損的情況下。根據(jù)三星電子 8 月 15 日發(fā)布的半年度報(bào)告，該公司在 ASML 的持股從第一季度的 629.7787 萬股減少到第二季度的 275.0072 萬股，減少了 354.7715 萬股。因此，三星電子在 ASML 的股份從 1.6% 降至 0.7%。持股的賬面價(jià)值（市值）從約 5.59 萬億韓元降至 2.
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ASML發(fā)布Q2財(cái)報(bào)：毛利率超50%，每股凈利潤(rùn)增長(zhǎng)近一倍

  • 主要是本季度 DUV 浸入式收入增加。7 月 19 日，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）發(fā)布了 2023 年第二季度財(cái)報(bào)。期內(nèi)，ASML 實(shí)現(xiàn)了凈銷售額 69 億歐元，毛利率為 51.3%，凈利潤(rùn)達(dá) 19 億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為 45 億歐元，其中 16 億歐元為 EUV 光刻機(jī)訂單?！肝覀冾A(yù)計(jì)第三季度凈銷售額將在 65 億至 70 億歐元之間，毛利率約為 50%。ASML 預(yù)計(jì)研發(fā)成本約為 10 億歐元，SG&A 成本約為 2.85 億歐元。由于 DUV 收入強(qiáng)勁，盡管由于不確定性增加
  • 關(guān)鍵字： DUV  ASML  

ASML發(fā)布2023年第二季度財(cái)報(bào) | 凈銷售額69億歐元，凈利潤(rùn)為19億歐元

  • 荷蘭菲爾德霍芬，2023年7月19日—阿斯麥（ASML）今日發(fā)布了2023年第二季度財(cái)報(bào)。2023年第二季度，ASML實(shí)現(xiàn)了凈銷售額69億歐元，毛利率為51.3%，凈利潤(rùn)達(dá)19億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為45億歐元2，其中16億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2023年第三季度的凈銷售額在65億至70億歐元之間，毛利率在50%左右。相比2022年，今年ASML的凈銷售額增長(zhǎng)率有望達(dá)到30%。 (1)      累計(jì)裝機(jī)管理銷售額等于凈
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限制ASML對(duì)華設(shè)備和技術(shù)輸出的新規(guī)又來了

  • 荷蘭政府又要限制 ASML 賺錢了。
  • 關(guān)鍵字： ASML  

ASML官網(wǎng)顯示：支持7nm高端DUV光刻機(jī)仍可出口

  • 荷蘭政府宣布了限制某些先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī)定，這些規(guī)定將于9月1日生效。具體而言，荷蘭政府將要求先進(jìn)芯片制造設(shè)備的公司在出口之前須獲得許可證。ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，該公司未來出口其先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV光刻系統(tǒng)（即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤(rùn)式系統(tǒng)）時(shí)，將需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。而ASML強(qiáng)調(diào)，該公司的EUV系統(tǒng)的銷售此前已經(jīng)受到限制。據(jù)ASML官網(wǎng)提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN
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日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄：采購(gòu) ASML 光刻機(jī)，加強(qiáng)技術(shù)合作

  • IT之家 6 月 26 日消息，據(jù)日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道，日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟(jì)事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導(dǎo)體合作備忘錄。二者將共同推進(jìn)欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 的合作，并聯(lián)手進(jìn)行技術(shù)開發(fā)?！?圖源：ASML報(bào)道稱，ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。Rapidus 計(jì)劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補(bǔ)貼，采購(gòu) EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到，EUV 光刻機(jī)在全球范圍內(nèi)較為短缺，面臨著臺(tái)積電、英特爾、三星等巨頭的爭(zhēng)搶。報(bào)道指出，如果 Ra
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ASML：數(shù)值孔徑0.75超高NA EUV光刻設(shè)備2030年登場(chǎng)

  • 據(jù)日本媒體報(bào)導(dǎo)，光刻機(jī)設(shè)備龍頭阿斯麥（ASML）執(zhí)行副總裁Christophe Fouquet近日在比利時(shí)imec年度盛會(huì)ITF World 2023表示，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)需要2030年開發(fā)數(shù)值孔徑0.75的超高NA EUV光刻技術(shù)，滿足半導(dǎo)體發(fā)展。Christophe Fouquet表示，自2010年以來EUV技術(shù)越來越成熟，半導(dǎo)體制程微縮至2020年前后三年，以超過50%幅度前進(jìn)，不過速度可能會(huì)在2030年放緩。故ASML計(jì)劃年底前發(fā)表首臺(tái)商用High-NA（NA=0.55）EUV微影曝光設(shè)備（原型制作），
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消息稱光刻機(jī)巨頭 ASML 最快本月底迎出口管制措施，新規(guī)恐將成歐盟效仿對(duì)象

  • IT之家 6 月 23 日消息，據(jù)彭博社報(bào)道，荷蘭政府計(jì)劃最快下周發(fā)布新的出口管制措施，將限制 ASML 的半導(dǎo)體制造設(shè)備出口?！?圖源：ASML報(bào)道稱，此次出口管制名單新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光（DUV）浸入式光刻設(shè)備。IT之家注意到，這一系列設(shè)備最高可支持 5 nm 工藝，如臺(tái)積電就使用 SAQP 和氬氟浸沒 (ArFi) 光刻實(shí)現(xiàn)了 7 nm 量產(chǎn)。此前，ASML 最先進(jìn)的極紫外光（EUV）光刻機(jī)已在出口管制列表當(dāng)中
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三星耗資約1.6萬億建半導(dǎo)體聚落，吸引應(yīng)用材料/ASML等廠商赴韓投資

  • 據(jù)日經(jīng)新聞網(wǎng)報(bào)道，半導(dǎo)體巨頭三星電子計(jì)劃未來20年投資300兆韓元（約合人民幣1.6萬億元），借由效仿臺(tái)積電模式，在韓國(guó)首爾附近打造新的半導(dǎo)體制造聚落。報(bào)道稱，三星這一舉措成功吸引了全球半導(dǎo)體廠商競(jìng)相在當(dāng)?shù)赝顿Y，包括美國(guó)應(yīng)用材料（Applied Materials）、荷蘭阿斯麥（ASML）等半導(dǎo)體大廠的主管正與首爾周邊京畿道政府辦公室，討論投資計(jì)劃、基礎(chǔ)建設(shè)發(fā)展及稅收優(yōu)惠政策。其中，應(yīng)用材料公司正在尋求建立一個(gè)新的研發(fā)中心，并計(jì)劃在今年年底前完成選址，并在幾年內(nèi)開始運(yùn)營(yíng)，而龍仁是其首選地點(diǎn)；ASML目前則
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開始1-γ芯片制程開發(fā)？美光日本廠擬引入ASML光刻機(jī)

  • 知情人士稱，美國(guó)美光科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV（極紫外光刻機(jī)），以制造下一代存儲(chǔ)芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補(bǔ)貼。日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了美光在日的進(jìn)一步投資。他指出，日本政府正與臺(tái)積電討論擴(kuò)大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲(chǔ)芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會(huì)見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán)，而有關(guān)芯片的詳細(xì)計(jì)劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
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柔弱的雕刻大師——EUV光刻機(jī)

  • 在如今這個(gè)信息時(shí)代，如果說我們的世界是由芯片堆積起來的高樓大廈，那么芯片制造，則是這里面高樓的地基，而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機(jī)，沒錯(cuò)，作為人類商業(yè)化機(jī)器的工程奇跡，光刻機(jī)自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設(shè)備。特別是隨著這幾年中美貿(mào)易戰(zhàn)的加劇，光刻機(jī)這種大部分可能一生都不會(huì)見到的機(jī)器一下子成了婦孺皆知的存在，那么光刻機(jī)是如何工作的呢？它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢？本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進(jìn)，也是我國(guó)被“卡脖子”的EUV（極紫外）光刻機(jī)。? ? &
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在光刻機(jī)新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊(duì)了

  • 目前全球僅4家廠商，能夠制造光刻機(jī)，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微電子。從技術(shù)水平來看，ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示，ASML的光刻機(jī)能夠達(dá)到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個(gè)數(shù)字，這是某機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)的，2021年全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)的銷售情況，從這張表可以看出來，小米7nm的EUV光刻機(jī)，ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機(jī)上，僅有尼康、ASML能夠推出，尼康也就是打醬油，僅賣出4臺(tái)，另外的
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2nm：半導(dǎo)體企業(yè)的一場(chǎng)創(chuàng)新競(jìng)賽

  • 近日，格芯以非法使用知識(shí)產(chǎn)權(quán)和商業(yè)秘密為由起訴了美國(guó) IBM。而日本 Rapidus 公司計(jì)劃利用 IBM 提供的技術(shù)，在日本國(guó)內(nèi)再次量產(chǎn)先進(jìn)產(chǎn)品，而這里的先進(jìn)產(chǎn)品指的就是 2 納米芯片。雖然 3 納米還未得到普及，但是產(chǎn)業(yè)圍繞 2 納米的討論卻一直熱烈。為了發(fā)展 2 納米制程，不只晶圓廠摩拳擦掌，芯片制造設(shè)備公司也已經(jīng)將 2 納米的設(shè)備提上日程。據(jù) TechNews 的報(bào)道，光刻機(jī)大廠 ASML 已向臺(tái)灣地區(qū)相關(guān)部門申請(qǐng)研發(fā)補(bǔ)貼，以資助 2 納米晶圓光學(xué)測(cè)量設(shè)備的開發(fā)和生產(chǎn)。官司打起來了，ASML 也動(dòng)
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