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瑞薩收購Transphorm,利用GaN技術擴展電源產品陣容
- 2024 年 1 月 11 日 3:00 p.m. JST,日本東京 | 2024 年 1 月 10 日 10:00 p.m. PST 加利福尼亞州戈利塔訊 - 全球半導體解決方案供應商瑞薩電子(以下“瑞薩”,TSE:6723)與全球氮化鎵(GaN)功率半導體供應商Transphorm, Inc.(以下“Transphorm”,Nasdaq:TGAN)于今天宣布雙方已達成最終協(xié)議,根據(jù)該協(xié)議,瑞薩子公司將以每股5.10美元現(xiàn)金收購Transphorm所有已發(fā)行普通股,較Transphorm在2024年1月
- 關鍵字: 瑞薩 Transphorm GaN
使用 GaN 器件可以減小外置醫(yī)用 AC/DC 電源的體積
- 盡管電池技術和低功耗電路不斷取得進步,但對于許多應用來說,完全不依賴純電池設計可能是不可行、不適用和無法接受的。醫(yī)療系統(tǒng)就屬于這類應用。相反,設備通常必須直接通過 AC 線路運行,或至少在電池電量不足時連接 AC 插座即可運行。除了滿足基本的 AC/DC 電源性能規(guī)范外,醫(yī)用電源產品還必須符合監(jiān)管要求,即滿足電隔離、額定電壓、泄漏電流和保護措施 (MOP) 等不那么明顯的性能要求。制定這些標準是為了確保用電設備即使在電源或負載出現(xiàn)故障時,也不會給操作員或病人帶來危險。與此同時,醫(yī)療電源的設計者必須不斷提地
- 關鍵字: DigiKey GaN AC/DC
基于 GaN 的高效率 1.6kW CrM 圖騰柱PFC參考設計 TIDA-00961 FAQ
- 高頻臨界模式 (CrM) 圖騰柱功率因數(shù)校正 (PFC) 是一種使用 GaN 設計高密度功率解決方案的簡便方法。TIDA-00961 參考設計使用 TI 的 600V GaN 功率級 LMG3410 和 TI 的 Piccolo?高頻臨界模式 (CrM) 圖騰柱功率因數(shù)校正 (PFC) 是一種使用 GaN 設計高密度功率解決方案的簡便方法。TIDA-00961 參考設計使用 TI 的 600V GaN 功率級 LMG3410 和 TI 的 Piccolo? F280049 控制器。功率級尺寸 65 x 4
- 關鍵字: TI GaN 圖騰柱 PFC TIDA-00961 FAQ
Nexperia針對工業(yè)和可再生能源應用推出采用緊湊型SMD封裝CCPAK的GaN FET
- 基礎半導體器件領域的高產能生產專家Nexperia今天宣布推出新款GaN FET器件,該器件采用新一代高壓GaN HEMT技術和專有銅夾片CCPAK表面貼裝封裝,為工業(yè)和可再生能源應用的設計人員提供更多選擇。經過二十多年的辛勤耕耘,Nexperia在提供大規(guī)模、高質量的銅夾片SMD封裝方面積累了豐富的專業(yè)知識,如今成功將這一突破性的封裝方案CCPAK應用于級聯(lián)氮化鎵場效應管(GaN FET),Nexperia對此感到非常自豪。GAN039-650NTB是一款33 mΩ(典型值)的氮化鎵場效應管,采用CCP
- 關鍵字: Nexperia SMD CCPAK GaN FET
“四兩撥千斤”,寬禁帶技術如何顛覆性創(chuàng)新
- 在半導體行業(yè),新的材料技術有“四兩撥千斤”的魔力,輕輕松松帶來顛覆性變革。具有先天性能優(yōu)勢的寬禁帶半導體材料脫穎而出。在整個能源轉換鏈中,寬禁帶半導體的節(jié)能潛力可為實現(xiàn)長期的全球節(jié)能目標作出貢獻。寬禁帶技術將推動電力電子器件提高效率、提高密度、縮小尺寸、減輕重量、降低總成本,因此將在數(shù)據(jù)中心、智能樓宇、個人電子設備等應用場景中為能效提升作出貢獻。寬禁帶材料讓應用性能炸裂,怎么做到的?寬禁帶材料的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在:? 與傳統(tǒng)的硅基半導體材料相比,寬禁帶產品具有更寬更高的禁帶寬度、電場強度,更高的擊穿
- 關鍵字: GaN 寬禁帶 SiC
Efficient Energy Technology(EET)的SolMate選用EPC氮化鎵器件
- Efficient Energy Technology GmbH(EET)位于奧地利,是設計和生產創(chuàng)新、用于陽臺的小型發(fā)電廠的先驅。EET公司選用了宜普電源轉換公司(EPC)的增強型氮化鎵(eGaN?)功率晶體管(EPC2204), 用于其新型SolMate?綠色太陽能陽臺產品。EPC2204在低RDS(on)和低COSS之間實現(xiàn)了最佳折衷,這對于要求嚴格的硬開關應用至關重要,同時在緊湊的封裝中實現(xiàn)100 V的漏-源擊穿電壓。這種緊湊型設計顯著縮小了PCB的尺寸,保持較小的電流環(huán)路和最大限度地減少EMI。
- 關鍵字: Efficient Energy Technology EET SolMate EPC 氮化鎵器件 GaN
日本開發(fā)新技術,可實現(xiàn)GaN垂直導電
- 當?shù)貢r間11月13日,沖電氣工業(yè)株式會社(OKI)與信越化學合作,宣布成功開發(fā)出一種技術,該技術使用OKI的CFB(晶體薄膜鍵合)技術,從信越化學特殊改進的QST(Qromis襯底技術)基板上僅剝離氮化鎵(GaN)功能層,并將其粘合到不同材料的基材該技術實現(xiàn)了GaN的垂直導電,有望為可控制大電流的垂直GaN功率器件的制造和商業(yè)化做出貢獻。兩家公司將進一步合作開發(fā)垂直GaN功率器件,并與制造這些器件的公司合作,讓這些器件能應用到實際生產生活中。GaN功率器件因兼具高頻率與低功耗特性而備受關注,尤其在1800
- 關鍵字: GaN 垂直導電 OKI
1250V!PI PowiGaN?提升GaN開關耐壓上限
- 氮化鎵(GaN)是最接近理想的半導體開關的器件,能夠以非常高的能效和高功率密度實現(xiàn)電源轉換。相比于生成工藝復雜的SiC,GaN的生成工藝相對成熟,可以制作成尺寸小巧的芯片封裝,因此非常適合在各種消費級和工業(yè)級開關功率應用。當然,相比SiC在高壓領域的出色表現(xiàn),GaN在高壓的表現(xiàn)并不突出。因此,作為目前GaN市場占有率最高的Power Integrations(PI)創(chuàng)新地將GaN開關的耐壓上限提升到1250V,再次為GaN開關的應用填補了新的耐受電壓領域。 PI的PowiGaN已經在超過60個的市場應用中
- 關鍵字: 1250V PI PowiGaN GaN
Transphorm推出TOLL封裝FET,將氮化鎵定位為支持高功率能耗人工智能應用的最佳器件
- 加利福尼亞州戈萊塔 – 2023 年 11 月 7日 -新世代電力系統(tǒng)的未來、氮化鎵(GaN)功率半導體的全球領先供應商 Transphorm, Inc.(納斯達克股票代碼:TGAN)近日宣布,推出三款TOLL封裝的 SuperGaN? FET,導通電阻分別為35、50和72毫歐。Transphorm的TOLL封裝配置采用行業(yè)標準,這意味著TOLL封裝的SuperGaN功率管可作為任何使用e-mode TOLL方案的直接替代器件。新器件還具備Transphorm經驗證的高壓動態(tài)(開關)導通電阻可
- 關鍵字: Transphorm 氮化鎵 GaN
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